適用于背散射電子衍射(EBSD)或原子力顯微鏡分析(AFM) VibroMet® 2振動(dòng)拋光機(jī)可快速去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層,從而得到無(wú)應(yīng)力的制備表面,而不必使用電解拋光制備所必需的危險(xiǎn)電解液。 結(jié)合VibroMet 2與MasterMet 2二氧化硅拋光液對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光, 不同于傳統(tǒng)的振動(dòng)拋光機(jī),VibroMet 2可以產(chǎn)生幾乎*水平方向的振動(dòng),*大限度地提高了樣品接觸拋光布的時(shí)間。 用戶(hù)設(shè)定好程序后就可以離開(kāi),樣品會(huì)在拋光盤(pán)中自動(dòng)地開(kāi)始振動(dòng)拋光。
快速去除樣品表面變形層
? 水平運(yùn)動(dòng)溫和地拋光樣品不引起機(jī)械應(yīng)力
? 所得樣品表面適用于背散射電子衍射(EBSD)或原子力顯微鏡分析(AFM)
? 對(duì)混合材料和不均勻樣品都能達(dá)到上乘的制備效果
無(wú)需使用危險(xiǎn)電解液
? 替換電解拋光儀和危險(xiǎn)電解液
? 結(jié)合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液,MicroCloth 拋光布對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光
設(shè)定后無(wú)需過(guò)多留心
? 樣品在拋光盤(pán)中可自動(dòng)開(kāi)始振動(dòng)拋光
? 12in [305 mm]直徑拋光盤(pán)可同時(shí)制備多達(dá)18個(gè)樣品
VibroMet™ 2 振動(dòng)拋光機(jī)
? 振動(dòng)拋光機(jī)用于在機(jī)械制備后去除剩余的輕微變形,以顯現(xiàn)無(wú)應(yīng)力的表面,而不必使用電解拋光所需的危險(xiǎn)的電解液
? 將VibroMet 2 和MasterMet™ 2 膠體二氧化硅配合使用,進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光的試樣表面可滿(mǎn)足電子背散射衍射(EBSD)或原子力顯微鏡(AFM) 分析
? 和*終拋光液配合使用(pg.69-70)
? 磨盤(pán)尺寸為12in [305mm]
頻率 | 50/60 |
電壓 | 115/220 |
相數(shù) | 1 |