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  • INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀

INF450-LP-WM INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀

參考價(jià)
面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)INF450-LP-WM
  • 品牌
  • 所在地成都市
  • 更新時(shí)間2022-08-09
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量20
  • 人氣值379
產(chǎn)品標(biāo)簽

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同類產(chǎn)品

  成都太科光電技術(shù)有限責(zé)任公司是由研究所孵化的高科技企業(yè),于2002年5月13日成立。公司是的,通過(guò)ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證。牽頭承擔(dān)十三五重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃重大科學(xué)儀器專項(xiàng),并多次承擔(dān)國(guó)家、省、市、區(qū)等科技研發(fā)項(xiàng)目。公司是中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)會(huì)員單位,成都市新型顯示行業(yè)協(xié)會(huì)理事單位,《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》副理事長(zhǎng)單位。


   太科公司以高科技激光干涉儀為主營(yíng)業(yè)務(wù),作為一家擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)和核心技術(shù)的高科技企業(yè),公司在充分發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì)和技術(shù)優(yōu)勢(shì)的基礎(chǔ)上,不斷推出更適合發(fā)展形勢(shì)的、更適合客戶需求的解決方案。通過(guò)幾年的研發(fā),公司掌握了大口徑光學(xué)元件的高精度加工和檢測(cè)技術(shù)、數(shù)字相移分析技術(shù)、高穩(wěn)定測(cè)試光源技術(shù)等多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)。


   近年來(lái)太科公司共研制生產(chǎn)了二十余臺(tái)φ600-1000mm口徑數(shù)字激光干涉儀產(chǎn)品,分別服務(wù)于國(guó)內(nèi)各大口徑光學(xué)加工與測(cè)試行業(yè),超過(guò)30年來(lái)國(guó)外同類產(chǎn)品進(jìn)口總數(shù)。


   公司按照現(xiàn)代企業(yè)的運(yùn)作模式和商業(yè)規(guī)范,建立了完整的研發(fā)、生產(chǎn)、市場(chǎng)、服務(wù)體系。根據(jù)客戶的需求,不斷為客戶提供優(yōu)質(zhì)的新產(chǎn)品,并及時(shí)為用戶提供強(qiáng)有力的全程技術(shù)支持和服務(wù)。為滿足干涉儀市場(chǎng)對(duì)不同測(cè)量口徑和精度的要求,太科公司相繼開(kāi)發(fā)研制出了系列干涉儀產(chǎn)品,形成了國(guó)產(chǎn)干涉儀品牌,得到了市場(chǎng)的廣泛認(rèn)可,逐步實(shí)現(xiàn)大、中、小口徑干涉儀均可以競(jìng)爭(zhēng)國(guó)外市場(chǎng)產(chǎn)品,實(shí)現(xiàn)檢測(cè)儀器設(shè)備的國(guó)有化。



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INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀產(chǎn)品型號(hào):INF450-LP-WM成像質(zhì)量良好,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔臥式結(jié)構(gòu),雙端口測(cè)量操作方便,使用簡(jiǎn)單波長(zhǎng)調(diào)諧相移解相分析系統(tǒng)
INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀 產(chǎn)品詳情
  • 用途
  • 技術(shù)參數(shù)

1、雙端口檢測(cè);
2、大口徑元件面形檢測(cè);
3、測(cè)量光學(xué)元件的材料均勻性;
4、平行平板元件多表面測(cè)試;
5、元件面形分析,光學(xué)數(shù)據(jù)處理。

序號(hào)

指標(biāo)名稱

指標(biāo)參數(shù)

1

測(cè)試結(jié)構(gòu)

臥式雙端口;

2

測(cè)試口徑

大端口:有效口徑≥φ450mm;

小端口:有效口徑≥φ100mm;

3

相移方式

QPS波長(zhǎng)調(diào)諧相移或機(jī)械相移解相;

4

測(cè)試光源

波長(zhǎng)調(diào)諧相干光源,λ=632.8nm,相干長(zhǎng)度≥100m;

可選氦氖相干光源,λ=632.8nm用于機(jī)械相移

5

CCD指標(biāo)

可選分辨率1.2K×1.2K,或分辨率2.3K×2.3K

或分辨率3.4K×3.4K

6

φ800mm標(biāo)準(zhǔn)楔形鏡(TF鏡)

標(biāo)準(zhǔn)面面形:PVr優(yōu)于λ/20,中頻誤差PSD1小于0.9nm,進(jìn)口熔石英材料;

7

φ800mm標(biāo)準(zhǔn)反射鏡(RF鏡)

標(biāo)準(zhǔn)反射面面形:PVr優(yōu)于λ/20,中頻誤差PSD1小于0.9nm,進(jìn)口微晶材料;

8

系統(tǒng)傳遞函數(shù)

ITF 0.7 @ 0.4 mm-1φ450mm大端口系統(tǒng));

9

系統(tǒng)精度

系統(tǒng)精度:系統(tǒng)空腔精度PVr優(yōu)于λ/15,中頻誤差PSD1小于0.9nm(φ800mm有效口徑內(nèi));

10

系統(tǒng)重復(fù)性精度

系統(tǒng)重復(fù)性精度:系統(tǒng)RMS重復(fù)性優(yōu)于λ/20002σ);

11

調(diào)焦范圍

調(diào)焦范圍:光瞳調(diào)焦范圍≥±2m;

12

ZOOM變焦

1-6X光學(xué)變焦(1.2K

1X光學(xué)變焦,50X數(shù)字變焦(2.3K/3.4K);

13

測(cè)試對(duì)準(zhǔn)方式與角度

測(cè)試對(duì)準(zhǔn)方式與角度:快對(duì)準(zhǔn)與精密對(duì)準(zhǔn)方式,對(duì)準(zhǔn)角度≥±15°/±3°;

14

波長(zhǎng)調(diào)諧相移分析軟件

輸出峰谷值(PV)、標(biāo)準(zhǔn)偏差(RMS)、等高圖、X-Y剖面圖、三維立體圖、干涉條紋圖、MTF(光學(xué)傳遞函數(shù))PSF(點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)),澤爾尼科多項(xiàng)式分析、賽德?tīng)栂嗖罘治龅龋?/span>

分析軟件可進(jìn)行矩形、橢圓、正方形、圓、多邊形等數(shù)據(jù)分析功能;

平行平板類元件測(cè)試功能(樣品無(wú)需特殊處理),一次干涉條紋數(shù)據(jù)采集可同時(shí)得到,平行平板前表面面形、后表面面形,光學(xué)厚度變化;

具有材料均勻性測(cè)試分析功能;

15

標(biāo)準(zhǔn)反射鏡支撐調(diào)節(jié)

二維手動(dòng)與電控角度調(diào)節(jié),整體結(jié)構(gòu)氣浮大范圍移動(dòng);

16

測(cè)試工裝

兩維角度調(diào)節(jié),一維平移調(diào)節(jié),大范圍氣浮調(diào)節(jié);

17

氣浮隔振平臺(tái)

隔振平臺(tái),尺寸3800mm×1500mm


關(guān)鍵詞:標(biāo)準(zhǔn)
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