NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達6"旋轉(zhuǎn)平臺,支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-1000帶有10”派熱克鐘罩腔體,2個2”的磁控管,DC直流電源用于濺射金屬,并帶有膜厚監(jiān)測儀(選配)。由于NSC-1000的空間有限,我們不能在NSC-1000系統(tǒng)上提供更多的電源和磁控管。我們可以提供我們的NSC-1000系統(tǒng),用于SEM應(yīng)用,也可以用于濺射金屬到z大6”的晶圓片。
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點:
不銹鋼,鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
70l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
*的安全聯(lián)鎖功能
選配項:
Thickness Monitor 膜厚監(jiān)測
應(yīng)用:
SEM應(yīng)用
濺射金屬,可達6"的晶圓片