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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

那諾-馬斯特中國(guó)有限公司成立于2015年4月，是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國(guó)大陸，香港，中國(guó)臺(tái)灣和澳門(mén))的客戶(hù)，同時(shí)我們?cè)谥袊?guó)大陸設(shè)有專(zhuān)門(mén)的服務(wù)辦公室，提供銷(xiāo)售和售后技術(shù)服務(wù)。

那諾-馬斯特中國(guó)的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國(guó)，該公司是法國(guó)那諾-馬斯*限公司于1992年在美國(guó)所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國(guó)際前列的缺陷檢測(cè)和高速鍍層測(cè)量的計(jì)量公司。自從1993年開(kāi)始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國(guó)并正式更名。

自2001年Nano-Master開(kāi)始設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類(lèi)金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長(zhǎng)的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為國(guó)際薄膜設(shè)備的供應(yīng)商，已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國(guó)家的大學(xué)、研發(fā)中心和國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。

我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員，使得公司擁有專(zhuān)業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商，我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持超高水平的集成度。

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線(xiàn)詢(xún)價(jià)

產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	是

NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-3500（A）帶有14”立方形不銹鋼腔體，3個(gè)2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。在選配方面，350 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：

不銹鋼腔體
260l/s或350l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵
13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀(guān)察視窗的腔門(mén)易于上下載片
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制
帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪(fǎng)問(wèn)控制
*的安全聯(lián)鎖功能
預(yù)真空鎖以及自動(dòng)晶圓片上/下載片

選配項(xiàng)：

RF、DC濺射
熱蒸鍍能力
RF或DC偏壓（1000V）
樣品臺(tái)可加熱到700°C
膜厚監(jiān)測(cè)儀
基片的RF射頻等離子清洗

應(yīng)用：

晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆
光學(xué)以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺(tái)和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射

關(guān)鍵詞：直流電源

熱門(mén)產(chǎn)品

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