AMAT 沉積刻蝕設備蝕刻機 P5000由半導體設備廠商美國應用材料公司(Applied Materials)生產,P5000系統(tǒng)是一臺成功的以單晶片、多反應室理念而設計的量產與研發(fā)均適用的半導體制程設備。
P5000沉積蝕刻系統(tǒng)具有的制程整合、量產制造等優(yōu)點,并在不破真空的狀況下,最多有四個相同或不相同的制程反應室同時進行生產,更富有彈性和整合能力。反應原理為:材料源以氣體形式進入工藝腔體內,在RF加功率的情況下,材料源(反應氣體)從輝光放電(Plasma:等離子場)中獲得激活能,激活并增強化學反應,從而實現(xiàn)化學氣象淀積。在實際使用過程中,P5000平臺經(jīng)常會出現(xiàn)各種各樣的死機現(xiàn)象,本文就針對具體的各種死機現(xiàn)象進行分析,并提供相關的解決方案。