Helios NanoLab DualBeam
一直以來，Helios NanoLab 都綜合采用了 FEI 的電子和離子光學(xué)系統(tǒng)、配件和軟件，能夠?yàn)榧{米量級研究提供強(qiáng)大的解決方案。對于從事納米技術(shù)前沿研究的科學(xué)家，Helios NanoLab 能讓他們拓展研究邊界，為材料研究開辟新的天地。
借助價(jià)值的亞納米 SEM 成像技術(shù)、S/TEM 超薄樣本制備能力以及精確的原型設(shè)計(jì)功能，科學(xué)家能夠?qū)?Helios NanoLab 作為的研究伴侶，為未來的科技進(jìn)步開發(fā)創(chuàng)新的新材料和納米量級器件。
Helios NanoLab 的材料科學(xué)應(yīng)用
在材料科學(xué)領(lǐng)域，研究人員面臨的挑戰(zhàn)是持續(xù)改善目前制造的材料和設(shè)備的質(zhì)量。為了實(shí)現(xiàn)技術(shù)進(jìn)步，在納米量級了解結(jié)構(gòu)和成分細(xì)節(jié)至關(guān)重要。Helios NanoLab 設(shè)計(jì)用來以低至亞納米量級的分辨率提供多尺度、多維度洞察，讓研究人員能夠觀測樣本最微小的細(xì)節(jié)。Helios NanoLab 還可為原子分辨率 S/TEM 成像迅速制備高質(zhì)量的樣本。此外，如果研究工作包括開發(fā) MEMS 或 NEMS 器件，也可配備 Helios NanoLab 打造多功能原型。
產(chǎn)品型號
Helios NanoLab G3 CX 的材料科學(xué)應(yīng)用
Helios NanoLab G3 UC 的材料科學(xué)應(yīng)用
Helios PFIB 材料科學(xué)應(yīng)用
Helios NanoLab 的電子工業(yè)應(yīng)用
Helios NanoLab 是一款靈活的平臺(tái)，既能以很高的效率制備 TEM 樣本，又能開展高性能低電壓成像以分析高級邏輯和存儲(chǔ)器件。Helios Nanolab 具有大型和小型樣本室兩個(gè)配置，效率高，并且是面向?qū)嶒?yàn)室和近生產(chǎn)環(huán)境的低每樣本成本半導(dǎo)體分析工作流的關(guān)鍵組成部分。
產(chǎn)品型號
Helios G4 HX 的半導(dǎo)體應(yīng)用
Helios G4 FX 的半導(dǎo)體應(yīng)用
Helios PFIB EFI
Helios PFIB 電子工業(yè)應(yīng)用
Helios NanoLab 460HP 電子工業(yè)應(yīng)用
Helios NanoLab 460F1 電子工業(yè)應(yīng)用
Helios NanoLab 1200AT 電子工業(yè)應(yīng)用
Helios NanoLab 的自然資源應(yīng)用
地質(zhì)學(xué)家和礦藏工程師可以使用 Helios NanoLab 技術(shù)對鉆屑和微芯開展二維和三維巖石表征。它利用的 DualBeam 技術(shù)特色，博采 FIB（聚焦離子束）銑削和 SEM（掃描電子顯微鏡）分析之長。借助自動(dòng)化序列樣本銑削和成像功能，客戶可以創(chuàng)建二維序列圖像，進(jìn)而開展三維容積重建。根據(jù)這些數(shù)據(jù)，客戶可以在微米至納米量級別觀測和量化孔隙網(wǎng)絡(luò)等紋理。
產(chǎn)品型號
Helios Nanolab 660 石油和天然氣應(yīng)用
Helios NanoLab 的生命科學(xué)應(yīng)用
要想在三維背景下了解生物事件，就必須采用專用的成像解決方案，而且這些成像解決方案應(yīng)能以*的分辨率呈現(xiàn)很小的細(xì)節(jié)，從而揭示出復(fù)雜網(wǎng)絡(luò)的超微結(jié)構(gòu)和空間結(jié)構(gòu)。Helios NanoLab 具有的 SEM 性能和可靠、精確的 FIB 切片能力，還配備了高精度壓電工作臺(tái)。出色的成像能力，輔以透鏡內(nèi)和柱內(nèi)檢測器提供的高對比度檢測技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)真正的對比度。
產(chǎn)品型號
Helios Nanolab G3 的生命科學(xué)應(yīng)用
