深度剖析——PP-TOFMS PP-TOFMS是HORIBA新研發(fā)的一款專用于固體材料中化學(xué)成分深度剖析的質(zhì)譜分析儀。 PP-TOFMS主要由剝蝕和激發(fā)樣品材料的輝光放電等離子體源和飛行時(shí)間質(zhì)譜儀耦合而成。 高通量和通用性深度剖析技術(shù) 高離子密度使得輝光放電等離子體的濺射速率非常快，此外，由于樣品分析無需超高真空腔，可以極大地縮短預(yù)分析時(shí)間。通常，一個(gè)亞微米厚的薄膜僅需幾分鐘就可獲得分析結(jié)果。 PP-TOFMS采用的射頻激發(fā)源適用于任何類型的材料分析，從導(dǎo)體到非導(dǎo)體（如厚玻璃基體上的薄膜）；從無機(jī)材料到混合材料。柔性基底材料表面的鍍層通過簡(jiǎn)單的樣品預(yù)處理后，同樣也可采用PP-TOFMS進(jìn)行深度剖析。 高動(dòng)態(tài)范圍 PP-TOFMS是一種融合了質(zhì)譜和高強(qiáng)度等離子體源的所有優(yōu)勢(shì)后形成的高靈敏度分析技術(shù)。它在納米深度分辨率下信號(hào)的動(dòng)態(tài)范圍可達(dá)到106，在深度剖析或基體分析時(shí)靈敏度可達(dá)到亞ppm級(jí)。分析過程中樣品的剝蝕濺射與離子化發(fā)生在輝光放電腔的不同位置，空間上的相互獨(dú)立可使基體效應(yīng)最小化，并且通過內(nèi)部簡(jiǎn)單的校準(zhǔn)即可直接獲得半定量結(jié)果。 全質(zhì)譜覆蓋 飛行時(shí)間質(zhì)譜儀的優(yōu)勢(shì)是能夠連續(xù)記錄完整的質(zhì)譜數(shù)據(jù)，它每33微秒就可以記錄元素周期表中所有元素的全質(zhì)譜圖，任何元素都可以根據(jù)剝蝕時(shí)間/深度進(jìn)行監(jiān)控。這不僅意味著您不僅可以毫無風(fēng)險(xiǎn)地檢測(cè)到任何元素隨深度的變化，而且還可以檢測(cè)到那些您意想不到的污染元素。 此外，所有的同位素都可以被檢測(cè)，這對(duì)于通過同位素標(biāo)記研究同重元素干擾或是氧化、擴(kuò)散機(jī)理的人員非常重要。
