Pioneer 120 Advanced PLD System特點(diǎn)
獨(dú)立的交鑰匙PLD系統(tǒng)。
外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積。
利用原位RHEED診斷技術(shù)沉積納米級(jí)薄膜。
氧化膜沉積的氧相容性。
升級(jí):負(fù)載鎖定,激光加熱器,RF/DC濺射,組合PLD與超高真空濺踱系統(tǒng)集成;與XPS /ARPES超高真空集群工具集成。
Pioneer 120 Advanced PLD System 是一個(gè)用于制備高質(zhì)量的外延薄膜獨(dú)立的系統(tǒng)、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和各種材料的超晶格。這個(gè)PLD系統(tǒng)和the Pioneer 120 PLD System 的主要區(qū)別是襯底加熱階段。先鋒120采用導(dǎo)電加熱階段,而Pioneer 120 Advanced PLD System 采用輻射加熱階段。加熱器可兼容1大氣壓(760托)的氧氣,這是一特性用于制備外延氧化膜,需要(i)沉積在氧氣中,(ii)沉積后退火在氧氣中,以及在接近1大氣壓的氧氣中冷卻。由于基底不與加熱器直接連接,可以連續(xù)旋轉(zhuǎn)360度。襯底也可以負(fù)載鎖定。