工藝
可沉積薄膜種類和應(yīng)用場景包括:
? High-K介電材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta205, La2O3);
? 金屬互聯(lián)結(jié)構(gòu) (Cu, WN, TaN, Ru, In);
? 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):
? 生物醫(yī)學(xué)涂層 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);
?金屬(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
? 壓電層 (ZnO, AIN, ZnS);
? 透明電學(xué)導(dǎo)體 (ZnO:Al, ITO);
? 光子晶體(ZnO, Ti02, Ta3N5);等
機架Cabinet
?框架采用進口鋁材搭建,重量輕、承載能力強,散熱性好
?外殼采用碳鋼烤漆及圓角處理,輕便美觀,拆卸方便,符合人體工學(xué)
?顯示屏360度自由旋轉(zhuǎn),可調(diào)視距、視角、自由懸停
控制系統(tǒng)
? 控制系統(tǒng)采用 PLC+工控機+19 寸觸摸屏方式實現(xiàn),系統(tǒng)通過高速以太網(wǎng)進行通訊。
? 采用 PLC 對設(shè)備進行實時控制,同時實現(xiàn)基于Windows7 操作系統(tǒng)的人機界面互動,支持歷史數(shù)據(jù)、工藝配方、報警及日志的儲存和導(dǎo)入導(dǎo)出的功能
? 設(shè)備支持“一鍵沉積”功能,點擊運行按鍵即可自動完成真空抽取、升溫、材料沉積、降溫等一系列步驟。實現(xiàn)單一或多層材料的沉積;提供獨立的手動操作頁面,支持手動開關(guān)閥門的操作,人機交互同時支持鼠標(biāo)、鍵盤和觸摸的輸入方式
? 設(shè)備運行軟件提供用戶權(quán)限管理功能,可根據(jù)用戶級別設(shè)定使用權(quán)限,防止誤操作,保證設(shè)備和人身安全
? 設(shè)備運行軟件提供邏輯互鎖功能,防止用戶誤操作,并彈出信息對話框進行提示
? 設(shè)備運行軟件集成安全及參數(shù)配置、IO互鎖列表信息功能
真空系統(tǒng)
? 真空測量采用雙真空壓力計組合方式,工藝數(shù)據(jù)更真實,更迅速,更精確,為工藝人員提供井真的數(shù)據(jù)采集來源,為工藝的可重復(fù)性提供了可靠的保障