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  • 脈沖激光沉積系統(tǒng)  Pioneer  120 PLD System

脈沖激光沉積系統(tǒng) Pioneer 120 PLD System

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  • 型號(hào)
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  • 更新時(shí)間2021-11-17
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量64
  • 人氣值421
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特色獨(dú)立的交鑰匙PLD系統(tǒng)
脈沖激光沉積系統(tǒng) Pioneer 120 PLD System 產(chǎn)品詳情

特色

獨(dú)立的交鑰匙PLD系統(tǒng)。

外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積。

納米級(jí)薄膜的沉積。

外延氧化膜沉積的可編程氧兼容加熱器。

自動(dòng)多目標(biāo)旋轉(zhuǎn)多層沉積。

全干式真空泵組。

通過(guò)系統(tǒng)軟件進(jìn)行閉環(huán)壓力控制。

Pioneer 120 PLD System是基礎(chǔ)型獨(dú)立PLD系統(tǒng),用于制備高質(zhì)量的外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)、超晶格等。該P(yáng)LD系統(tǒng)與Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)和Pioneer 180 PLD系統(tǒng)的主要區(qū)別是襯底加熱階段。Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)使用導(dǎo)電加熱階段用于襯底加熱, 其他模型使用輻射加熱階段。為了達(dá)到950℃ 的額定高溫,基板必須與加熱板緊密接觸,用銀漿提供加熱板和基板之間的緊密接觸(當(dāng)需要這些高溫時(shí))。在不需要銀漿的情況下,還提供襯底夾來(lái)固定襯底。在這些情況下,襯底溫度可能低于額定950℃。加熱器是氧兼容的,能達(dá)到1大氣(760托)的氧, 這個(gè)特性有助于制備外延氧化薄膜:可能需要在氧氣環(huán)境后沉積和氧氣壓力接近1 atmosphere后退火冷卻。Pioneer 120 PLD系統(tǒng)包括一個(gè)自動(dòng)多目標(biāo)轉(zhuǎn)。

關(guān)鍵詞:加熱器 真空泵
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