特色
獨(dú)立的交鑰匙PLD系統(tǒng)。
外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積。
納米級(jí)薄膜的沉積。
外延氧化膜沉積的可編程氧兼容加熱器。
自動(dòng)多目標(biāo)旋轉(zhuǎn)多層沉積。
全干式真空泵組。
通過(guò)系統(tǒng)軟件進(jìn)行閉環(huán)壓力控制。
Pioneer 120 PLD System是基礎(chǔ)型獨(dú)立PLD系統(tǒng),用于制備高質(zhì)量的外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)、超晶格等。該P(yáng)LD系統(tǒng)與Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)和Pioneer 180 PLD系統(tǒng)的主要區(qū)別是襯底加熱階段。Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)使用導(dǎo)電加熱階段用于襯底加熱, 其他模型使用輻射加熱階段。為了達(dá)到950℃ 的額定高溫,基板必須與加熱板緊密接觸,用銀漿提供加熱板和基板之間的緊密接觸(當(dāng)需要這些高溫時(shí))。在不需要銀漿的情況下,還提供襯底夾來(lái)固定襯底。在這些情況下,襯底溫度可能低于額定950℃。加熱器是氧兼容的,能達(dá)到1大氣(760托)的氧, 這個(gè)特性有助于制備外延氧化薄膜:可能需要在氧氣環(huán)境后沉積和氧氣壓力接近1 atmosphere后退火冷卻。Pioneer 120 PLD系統(tǒng)包括一個(gè)自動(dòng)多目標(biāo)轉(zhuǎn)。