組合型脈沖激光沉積系統(tǒng) Combinatorial PLD System-儀表網(wǎng)

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北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司成立于2001年,是一家經(jīng)營(yíng)歐美和日本等國(guó)*科學(xué)測(cè)試儀器和設(shè)備,并將*進(jìn)技術(shù)引入國(guó)內(nèi)的科技服務(wù)型企業(yè).經(jīng)過(guò)十年的發(fā)展，公司在北京、上海、廣州、武漢均設(shè)有辦事處。

公司用受人尊敬的、專業(yè)的方式來(lái)經(jīng)營(yíng)公司的業(yè)務(wù)（HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way）。

公司的主營(yíng)儀器包括：分子相互作用分析儀器、表/界面分析測(cè)試儀器、界面/混凝土流變儀、薄膜沉積與表征儀器等。

公司愿景：
公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求，以應(yīng)用為基礎(chǔ)的專業(yè)儀器設(shè)備供應(yīng)商、專有技術(shù)提供商，實(shí)現(xiàn)公司在行業(yè)內(nèi)的超常規(guī)發(fā)展。

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特點(diǎn)?獨(dú)立交鑰匙PLD系統(tǒng)PLD-CCS三元連續(xù)組分?jǐn)U散無(wú)退火和掩模在“真正的”沉積條件下（比如800℃，500mTorr）薄膜成長(zhǎng)Wafer尺寸：標(biāo)準(zhǔn)型直徑2”（4"和6"需客戶定制）外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積高溫下氧化膜沉積的氧兼容性連續(xù)組成擴(kuò)展功能（CCS）可在單次沉積中沉積很多不同組分的材料，大大縮短了沉積不同組分材料合成新材料的時(shí)間，實(shí)現(xiàn)合成材料組分的優(yōu)化

組合型脈沖激光沉積系統(tǒng) Combinatorial PLD System 產(chǎn)品詳情

特點(diǎn)

?獨(dú)立交鑰匙PLD系統(tǒng)

PLD-CCS 三元連續(xù)組分?jǐn)U散

無(wú)退火和掩模

在“真正的”沉積條件下（比如800℃，500mTorr）薄膜成長(zhǎng)

Wafer尺寸：標(biāo)準(zhǔn)型直徑2”（4" 和6" 需客戶定制）

外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積

高溫下氧化膜沉積的氧兼容性

連續(xù)組成擴(kuò)展功能（CCS）可在單次沉積中沉積很多不同組分的材料，大大縮短了沉積不同組分材料合成新材料的時(shí)間，實(shí)現(xiàn)合成材料組分的優(yōu)化。PLD-CCS 系統(tǒng)能以連續(xù)的方式改變材料，沒(méi)有必要使用掩模。可以在每一次循環(huán)中，以小于一個(gè)單分子層的速率，快速連續(xù)沉積每一種組份，其結(jié)果是類似于共沉積法。該法無(wú)需在沉積后進(jìn)行退火促進(jìn)內(nèi)部擴(kuò)散或結(jié)晶，對(duì)于生長(zhǎng)溫度是關(guān)鍵參數(shù)的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是非常有幫助的。Neocera 公司 PLD 系統(tǒng)可在同一個(gè)系統(tǒng)上實(shí)現(xiàn)帶有連續(xù)組成擴(kuò)展功能（CCS-PLD）和標(biāo)準(zhǔn)型 PLD 功能。

關(guān)鍵詞：標(biāo)準(zhǔn)

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