無掩膜顯微型光刻機(jī)裝置
UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結(jié)合的縮小投影型無掩模曝光系統(tǒng)，其*傳統(tǒng)系統(tǒng)（用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統(tǒng)） 可以使用專門為此目的開發(fā)的軟件來創(chuàng)建想要的圖案。
無掩膜顯微型光刻機(jī)概述：
- 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。
- 使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀，將具有機(jī)微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。
- 圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。
- 因?yàn)榭梢栽谄胀ǖ氖覂?nèi)環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極，所以它比電子束光刻便宜且簡(jiǎn)單，不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。
顯 無掩膜顯微型光刻機(jī)應(yīng)用：
- 薄膜FET和霍爾效應(yīng)測(cè)量樣品的電極形成。
- 從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評(píng)估其特性。
- 研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。
無掩膜顯微型光刻機(jī)參數(shù)：
- 由于顯微鏡和DLP的結(jié)合，可以用很低的成本來構(gòu)建系統(tǒng)
- 易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案
- 通過物鏡放大倍率圖案，可以進(jìn)行大范圍的批量曝光
- 可以連接到您自己的顯微鏡上（選項(xiàng)）
- 分辨率在微米級(jí)
- 曝光范圍：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um
- 可以連接到您自己的顯微鏡上（選項(xiàng)）
- 分辨率在微米級(jí)
- 曝光范圍：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um
