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  • 1200度小型PECVD系統(tǒng)-電阻爐

1200度小型PECVD系統(tǒng)-電阻爐

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面議
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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時(shí)間2020-11-28
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量75
  • 人氣值3875
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我公司創(chuàng)立于1993年,經(jīng)過(guò)了近20年的發(fā)展,公司已成為一家集研發(fā)、生產(chǎn)制造、營(yíng)銷服務(wù)為一體的專業(yè)的實(shí)驗(yàn)室電爐工作系統(tǒng)解決方案的提供者。作為專業(yè)實(shí)驗(yàn)室電加熱設(shè)備的生產(chǎn)廠家,在實(shí)驗(yàn)室電爐行業(yè)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)一直保持著*地位,并成為*品牌。真空氣氛管爐 旋轉(zhuǎn)電爐 立式管爐 快速退火爐 馬佛 我們的經(jīng)營(yíng)理念是:專業(yè)、誠(chéng)信、負(fù)責(zé)、顧客*、銳意進(jìn)取。我們的經(jīng)營(yíng)目標(biāo)是:打造具有品牌的、專業(yè)為用戶提供實(shí)驗(yàn)室電爐工作系統(tǒng)解決方案的百年企業(yè)公司主要產(chǎn)品:實(shí)驗(yàn)用真空/氣氛電爐系列、主要面向國(guó)內(nèi)高校實(shí)驗(yàn)室以及*科研機(jī)構(gòu),各系列產(chǎn)品行銷國(guó)內(nèi)的大專院校、科研院所、工礦企業(yè)的實(shí)驗(yàn)室及各級(jí)檢測(cè)中心。真空氣氛管爐 旋轉(zhuǎn)電爐 立式管爐 快速退火爐 馬佛爐真空氣氛管爐 旋轉(zhuǎn)電爐 立式管爐 快速退火爐 馬佛爐真空氣氛管爐 旋轉(zhuǎn)電爐 立式管爐 快速退火爐 馬佛爐 我們的產(chǎn)品國(guó)內(nèi)市場(chǎng),同時(shí)也部分出口海外。國(guó)內(nèi)眾多的個(gè)大院校、*科研院所、重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、醫(yī)療實(shí)驗(yàn)室等,如:清華大學(xué),北京大學(xué),北京化工大學(xué),北京理工大學(xué),中國(guó)礦業(yè)大學(xué),*民族大學(xué),北京航空航天大學(xué),首都師范大學(xué),中國(guó)地質(zhì)大學(xué),中國(guó)人民大學(xué),南開大學(xué),天津大學(xué),中國(guó)民航大學(xué),天津科技大學(xué),天津理工大學(xué),天津商業(yè)大學(xué),廣東工業(yè)大學(xué),華東理工大學(xué),中山大學(xué),哈爾濱工業(yè)大學(xué),福州大學(xué),廈門大學(xué),中國(guó)科技大學(xué),復(fù)旦大學(xué),華南理工大學(xué),上海交通大學(xué),蘭州大學(xué),燕山大學(xué),中國(guó)石油大學(xué),真空氣氛管爐 旋轉(zhuǎn)電爐 立式管爐 快速退火爐 馬佛爐山東大學(xué),武漢科技大學(xué),華中科技大學(xué),武漢大學(xué),黑龍江大學(xué),吉林大學(xué),大連理工大學(xué),四川大學(xué) ,首都鋼鐵公司,武漢鋼鐵公司,天津鋼鐵公司,*大連化學(xué)物理研究所,*化學(xué)研究所,*物理研究所,*理化技術(shù)研究所,*工程與過(guò)程所,*生態(tài)環(huán)境研究中心,國(guó)家納米科學(xué)中心,北京有色金屬研究總院等等上百所高校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系。CVD系統(tǒng),真空氣氛管式爐,旋轉(zhuǎn)管式爐,多工位回轉(zhuǎn)爐,箱式馬弗爐,快速退火爐,立式管式爐,干燥箱,高溫氣氛箱式爐,中環(huán)實(shí)驗(yàn)電爐CVD爐/rtp爐/快速退火爐/立式管式電爐/石磨希*爐/快速激活爐/粉體電爐/快速熱氧化爐/速激活爐/粉體電爐/快速熱氧化爐/管式電爐/箱式電爐氣氛/ 旋轉(zhuǎn)電爐/真空氣氛 /CVD電爐/真空氣氛爐/旋轉(zhuǎn)電爐立式管爐 /快速退火爐 /真空管式爐/多工位旋轉(zhuǎn)管式爐/多工位回轉(zhuǎn)爐/半導(dǎo)體CVD/真空鍍膜/高溫管式爐/PE CVD系統(tǒng)/干燥箱/中環(huán)馬弗爐CVD系統(tǒng),CVD石墨烯爐,CVD管式爐,快速退火爐,真空管式爐,旋轉(zhuǎn)管式爐,多工位回轉(zhuǎn)爐,氣氛箱式爐,立式管式爐,干燥箱,RTP管式爐,馬弗爐,CVD制備石墨烯,氣相沉積爐,高溫?zé)Y(jié)爐,立式電爐,熱處理爐,箱式電阻爐,真空爐,真空燒結(jié)爐
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PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G
1200度小型PECVD系統(tǒng)-電阻爐 產(chǎn)品詳情

   

產(chǎn)品用途

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

產(chǎn)品組成

PECVD系統(tǒng)配置;

1.1200度開啟式滑動(dòng)單溫區(qū)真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4.真空系統(tǒng)(單獨(dú)購(gòu)買)

產(chǎn)品特點(diǎn)

電源范圍廣;溫度范圍寬;濺射區(qū)域長(zhǎng);整管可調(diào);精致小巧,性價(jià)比高,可實(shí)現(xiàn)快速升降溫,是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇,也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。

系統(tǒng)名稱

集成型PECVD系統(tǒng)

1200℃小型PECVD系統(tǒng)

系統(tǒng)型號(hào)

PECVD-12IH-500A

PECVD-12IH-4Z/G

控制方式

液晶屏微PLC控制系統(tǒng)

手動(dòng)

溫度

1200

加熱區(qū)長(zhǎng)度

200mm

恒溫區(qū)長(zhǎng)度

100mm

溫區(qū)

單溫區(qū)

石英管管徑

Φ60mm

Φ50mm

額定功率

1.2Kw

2Kw

額定電壓

220V

滑動(dòng)方式及距離

自動(dòng)滑動(dòng);200mm

手動(dòng)滑動(dòng);200mm

溫度控制

30段程序控溫

50段程序控溫

控制精度

±1

爐管工作溫度

1200

氣路法蘭

采用多環(huán)密封技術(shù)卡箍快速連接

排風(fēng)冷卻裝置

*的空氣隔熱技術(shù),結(jié)合熱感應(yīng)技術(shù),當(dāng)爐體表面溫升到50℃時(shí),

排溫風(fēng)扇將自動(dòng)啟動(dòng),使?fàn)t體表面快速降溫。

氣體控制方式

質(zhì)量流量計(jì)(按鍵式)

氣路數(shù)量

2路(2-4路)

4路(可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量)

流量范圍

0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分,可選配)氮?dú)鈽?biāo)定

精度

±1%F.S

響應(yīng)時(shí)間

1sec

工作溫度(流量計(jì))

20-120

工作壓力

進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力)

進(jìn)氣方式

采用防倒流設(shè)計(jì)

規(guī)格

中真空(集成型請(qǐng)單獨(dú)購(gòu)買)

系統(tǒng)真空范圍

10Pa-100Pa

真空泵

雙級(jí)機(jī)械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽氣速率4L/S(選配:其他抽速真空泵),出氣口配有油污過(guò)濾器,額定電壓220V,功率0.55Kw

信號(hào)頻率

13.56MHz±0.005%

功率輸出范圍

0W-500W

0W-100W

大反射功率

350W

30W

射頻輸出接口

50Ω,N-type,temale

功率穩(wěn)定度

±0.1%

諧波分量

-50dbc

供電電壓

單相交流(187V-253V)頻率50/60HZ

整機(jī)功率

70%

屏幕顯示

正方向功率,匹配器電容位置,偏置電壓值

爐體外形尺寸

290×350×340mm

290×350×495mm

系統(tǒng)外形尺寸

420×1440×1100mm

530×2310×750mm

系統(tǒng)總重量

270Kg

 

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