新型高真空退火爐
產(chǎn)品介紹
目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現(xiàn)溫度的高精度測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵眨叱黾兌葰怏w中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
它提高了加熱試驗能力.同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度。
同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)全新的溫度控制操作！
反射爐溫度控制裝置
高速升溫時，配套的快速反應的新型高真空退火爐控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設計，響應速度快。
為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發(fā)技術保證試驗溫度。
根據(jù)設備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)。
自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型
可設定32個程序、256個步驟的程序。
30A、60A、120A內置了SCR電路，所以范圍很廣。
