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M600 昆山國華提供等離子表面處理整體解決方案-中大型PLC

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號M600
  • 品牌Siemens/西門子
  • 所在地蘇州市
  • 更新時間2019-08-28
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量112
  • 人氣值5473
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等離子表面處理整體解決方案

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昆山國華電子科技有限公司是一家集等離子技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和推廣于一體的高科技公司:秉承“服務(wù)創(chuàng)造價值、技術(shù)成就未來”的宗旨,為客戶提供表面處理領(lǐng)域的整體解決方案。

      公司由多名*從事等離子體技術(shù)應(yīng)用研究,設(shè)備制造和銷售的業(yè)內(nèi)人事創(chuàng)建。核心技術(shù)發(fā)展于歐洲,同時充分借鑒歐美的*技術(shù),并通過與國內(nèi)外研發(fā)機構(gòu)合作,整合各行業(yè)的資源優(yōu)勢,生產(chǎn)出多系列具有自主知識產(chǎn)權(quán)的高性能的等離子體處理系統(tǒng)。集團合作團隊包括 EUROPLASMA、PSM等,應(yīng)用領(lǐng)域涉及電子、光電、汽車、塑膠、紡織、生物、醫(yī)療、化工、日用品及家電等行業(yè)。

      公司成立以來已為眾多企業(yè)、大學(xué)院校、研究機構(gòu)提供等離子體處理設(shè)備和解決方案。售前可免費提供試樣和方案認(rèn)證,以竭誠服務(wù)各領(lǐng)域科研項目為公司的宗旨。

      我們倡導(dǎo)技術(shù)創(chuàng)新,充分發(fā)揮新技術(shù)在企業(yè)經(jīng)營中的主導(dǎo)作用,以滿足客戶的個性化需求為己任,為客戶提供與等離子處理系統(tǒng)相關(guān)技術(shù)的支持與服務(wù),致力于成為*的行業(yè)*!

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昆山國華提供等離子表面處理整體解決方案:
等離子體是物質(zhì)的一種存在的狀態(tài),這些物質(zhì)通常會以液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)三種存在;還有四種狀態(tài)就是等離子體狀態(tài),在特殊的情況下,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)和太陽表面的物質(zhì)。
等離子體中存在有些物質(zhì)呢?當(dāng)處于高速運動狀態(tài)下的電子處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團;離子華的原子、分子。
昆山國華提供等離子表面處理整體解決方案-中大型PLC 產(chǎn)品詳情

昆山國華提供等離子表面處理整體解決方案

等離子表面處理設(shè)備技術(shù)作為一種新型的材料表面改性方法,等離子表面處理設(shè)備因效果好被廣泛用各領(lǐng)域中,下面通幾個方面給大家介紹:
金屬表面去油及清洗:
金屬表面常常會有油脂、油污等有機物及氧化層,在進行濺射、油漆、粘合、鍵合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等離子表面處理設(shè)備來得到*潔凈和無氧化層的表面。
1.離子刻蝕:
在等離子刻蝕過程中,通過處理氣體的作用,被刻蝕物會變成氣相。處理氣體和基體物質(zhì)被真空泵抽出,表面連續(xù)被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來(例如半導(dǎo)體行業(yè)用鉻做覆蓋材料)。
2.刻蝕和灰化:
聚四氟(PTFE)在未做處理的情況下不能印刷或粘合。*,使用活躍的鈉堿性金屬可以增強粘合能力,但是這種方法不容易掌握,同時溶液是有毒的。使用等離子方法不僅僅保護環(huán)境,還能達到更好效果。
3.塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗:
塑料、玻璃、陶瓷與聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等等一樣是沒有極性的,因此這些材料在印刷、粘合、涂覆前要進行處理。同時,玻璃和陶瓷表面的輕微金屬污染也可以用等離子方法清洗。等離子處理與灼燒處理相比不會損害樣品。同時還可以十分均勻地處理整個表面,不會產(chǎn)生有毒煙氣,中空和帶縫隙的樣品也可以處理。 
·不需要用化學(xué)溶劑進行預(yù)處理 
·所有的塑料都能應(yīng)用 
·具有環(huán)保意義 
·占用很小工作空間 
·成本低廉 
等離子表面處理設(shè)備的效果可以簡單地用滴水來驗證,處理過的樣品表面*被水潤濕。長時間的等離子處理(大于15分鐘),材料表面不但被活化還會被刻蝕,刻蝕表面具有極小的表面接觸角和潤濕能力。

小型等離子清洗/刻蝕機的特殊應(yīng)用:
小型等離子清洗機在處理TEM樣品具有明顯的優(yōu)勢。處理后生成物為二氧化碳和水,不會對環(huán)境造成污染,由于TEM工作在非常潔凈的環(huán)境中,因此等離子清洗時目前處理TEM樣品為理想的技術(shù)。優(yōu)勢在于:處理后*殘留物;可以防止TEM樣品在以后的使用中形成污斑;在非常敏感的薄膜的微量分析中,使用低能量的X光,不會形成吸收層;在高擴大率下得到更好的數(shù)據(jù);真實的表面呈現(xiàn)和表面成分分析;成本低、便于操作。
另外,小型等離子清洗/刻蝕機還應(yīng)用于考古學(xué)、石棉分析、醫(yī)學(xué)研究、微生物工程等領(lǐng)域。
等離子表面處理設(shè)備工作原理分析: 

電漿與材料表面可產(chǎn)生的反應(yīng)主要有兩種,一種是靠自由基來做化學(xué)反應(yīng),另一種則是靠等離子作物理反應(yīng),以下將作更詳細(xì)的說明。

昆山國華提供等離子表面處理整體解決方案

(1)化學(xué)反應(yīng)(Chemical reaction) 在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、甲烷(CF4)等,這些氣體在電漿內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基,其方程式為: 這些自由基會進一步與材料表面作反應(yīng)。

其反應(yīng)機理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學(xué)反應(yīng),在壓力較高時,對自由基的產(chǎn)生較有利,所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時,就必須控制較高的壓力來近進行反應(yīng)。

(2)物理反應(yīng)(Physical reaction)

主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長,有得能量的累積,因而在物理撞擊時,離子的能量越高,越是有的作撞擊,所以若要以物理反應(yīng)為主時,就必須控制較的壓力下來進行反應(yīng),這樣清洗效果較好,為了進一步說明各種設(shè)備清洗的效果。 
等離子體清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。 
等離子體清洗技術(shù)的特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。 

關(guān)鍵詞:真空泵 清洗機
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