昆山國華提供等離子表面處理整體解決方案
等離子表面處理設(shè)備技術(shù)作為一種新型的材料表面改性方法,等離子表面處理設(shè)備因效果好被廣泛用各領(lǐng)域中,下面通幾個方面給大家介紹:
金屬表面去油及清洗:
金屬表面常常會有油脂、油污等有機物及氧化層,在進行濺射、油漆、粘合、鍵合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等離子表面處理設(shè)備來得到*潔凈和無氧化層的表面。
1.離子刻蝕:
在等離子刻蝕過程中,通過處理氣體的作用,被刻蝕物會變成氣相。處理氣體和基體物質(zhì)被真空泵抽出,表面連續(xù)被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來(例如半導(dǎo)體行業(yè)用鉻做覆蓋材料)。
2.刻蝕和灰化:
聚四氟(PTFE)在未做處理的情況下不能印刷或粘合。*,使用活躍的鈉堿性金屬可以增強粘合能力,但是這種方法不容易掌握,同時溶液是有毒的。使用等離子方法不僅僅保護環(huán)境,還能達到更好效果。
3.塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗:
塑料、玻璃、陶瓷與聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等等一樣是沒有極性的,因此這些材料在印刷、粘合、涂覆前要進行處理。同時,玻璃和陶瓷表面的輕微金屬污染也可以用等離子方法清洗。等離子處理與灼燒處理相比不會損害樣品。同時還可以十分均勻地處理整個表面,不會產(chǎn)生有毒煙氣,中空和帶縫隙的樣品也可以處理。
·不需要用化學(xué)溶劑進行預(yù)處理
·所有的塑料都能應(yīng)用
·具有環(huán)保意義
·占用很小工作空間
·成本低廉
等離子表面處理設(shè)備的效果可以簡單地用滴水來驗證,處理過的樣品表面*被水潤濕。長時間的等離子處理(大于15分鐘),材料表面不但被活化還會被刻蝕,刻蝕表面具有極小的表面接觸角和潤濕能力。
小型等離子清洗/刻蝕機的特殊應(yīng)用:
小型等離子清洗機在處理TEM樣品具有明顯的優(yōu)勢。處理后生成物為二氧化碳和水,不會對環(huán)境造成污染,由于TEM工作在非常潔凈的環(huán)境中,因此等離子清洗時目前處理TEM樣品為理想的技術(shù)。優(yōu)勢在于:處理后*殘留物;可以防止TEM樣品在以后的使用中形成污斑;在非常敏感的薄膜的微量分析中,使用低能量的X光,不會形成吸收層;在高擴大率下得到更好的數(shù)據(jù);真實的表面呈現(xiàn)和表面成分分析;成本低、便于操作。
另外,小型等離子清洗/刻蝕機還應(yīng)用于考古學(xué)、石棉分析、醫(yī)學(xué)研究、微生物工程等領(lǐng)域。
等離子表面處理設(shè)備工作原理分析:
電漿與材料表面可產(chǎn)生的反應(yīng)主要有兩種,一種是靠自由基來做化學(xué)反應(yīng),另一種則是靠等離子作物理反應(yīng),以下將作更詳細(xì)的說明。
昆山國華提供等離子表面處理整體解決方案
(1)化學(xué)反應(yīng)(Chemical reaction) 在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、甲烷(CF4)等,這些氣體在電漿內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基,其方程式為: 這些自由基會進一步與材料表面作反應(yīng)。
其反應(yīng)機理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學(xué)反應(yīng),在壓力較高時,對自由基的產(chǎn)生較有利,所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時,就必須控制較高的壓力來近進行反應(yīng)。
(2)物理反應(yīng)(Physical reaction)
主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長,有得能量的累積,因而在物理撞擊時,離子的能量越高,越是有的作撞擊,所以若要以物理反應(yīng)為主時,就必須控制較的壓力下來進行反應(yīng),這樣清洗效果較好,為了進一步說明各種設(shè)備清洗的效果。
等離子體清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
等離子體清洗技術(shù)的特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。