國華等離子表面改性、活化、刻蝕、納米涂層
等離子清洗、刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)空間運(yùn)動，并轟擊被處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果。等離子體清洗機(jī)表面改性主要是針對于對高分子材料和金屬表面改性。高聚物具有分子可設(shè)計(jì)性,通過等離子體表面作用可以在表面引入不同的基團(tuán)來改善其性能,如親水性、疏水性、潤濕性、黏結(jié)性;引入具有生物活性的分子或生物酶,提高其生物相容性。采用等離子體清洗機(jī)技術(shù)對聚合物材料表面進(jìn)行改性,不但改善了特定環(huán)境下高分子材料的適用性能,也拓寬了常規(guī)高分子材料的適用范圍。等離子體清洗機(jī)表面活化是物體經(jīng)過等離子體清洗機(jī)處理之后表面能增強(qiáng)、提高粘合度，附著力；
等離子體清洗機(jī)表面刻蝕指材料表面通過反應(yīng)氣體，等離子被選擇性地刻蝕，被刻蝕的材料轉(zhuǎn)化為氣相并被真空泵排出，處理后的材料微觀比表面積增加并具良好親水性；等離子體清洗機(jī)納米涂層是將反應(yīng)氣體如: 六甲基二硅醚(HMDSO)，六甲基二硅烷胺(HMDSN)，四乙二醇二甲醚，六氟乙烷(C2F6)....] 引入等離子反應(yīng)室，通過等離子聚合效應(yīng)會在表面形成納米涂層，這項(xiàng)技術(shù)可以運(yùn)用到眾多領(lǐng)域。
等離子清洗機(jī)是利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。
國華等離子表面改性、活化、刻蝕、納米涂層
昆山國華電子公司專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)真空等離子體清洗機(jī)，Plasma真空等離子體清洗機(jī)可以完成對物體的表面改性、活化、刻蝕、納米涂層。
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