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  • 寬光譜成像光譜橢偏儀IE-L系列

寬光譜成像光譜橢偏儀IE-L系列

參考價
面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地武漢市
  • 更新時間2020-01-30
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限8
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量20
  • 人氣值4155
產(chǎn)品標(biāo)簽

橢偏儀

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  武漢頤光科技有限公司(Wuhan Eoptics Technology Co,Ltd)是一家專業(yè)從事光學(xué)儀器設(shè)備研發(fā)及光機(jī)電產(chǎn)品制造、銷售的*。公司由一批歸國留學(xué)人員創(chuàng)辦,與華中科技大學(xué)緊密合作,現(xiàn)有員工80%以上擁有碩士或博士學(xué)位,是光學(xué)儀器設(shè)備領(lǐng)域*技術(shù)優(yōu)勢的技術(shù)團(tuán)隊。

 

       頤光科技注冊于武漢東湖國家自主創(chuàng)新示范區(qū),立足光谷,面向,為用戶提供光學(xué)散射測量儀等系列產(chǎn)品,并提供儀器、軟件、服務(wù)等綜合解決方案。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路、半導(dǎo)體、光伏太陽能、平板顯示、LED照明、存儲、生物、醫(yī)藥、化學(xué)、電化學(xué)、光學(xué)鍍膜和保護(hù)膜、減反膜、光刻材料等眾多領(lǐng)域。

 

      頤光科技充分利用武漢地區(qū)的交通便利和人才優(yōu)勢,立志成為中國*秀的光學(xué)儀器設(shè)備研發(fā)創(chuàng)新平臺和產(chǎn)業(yè)化基地,立志成為企業(yè)值得信賴的合作伙伴。

   

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寬光譜成像光譜橢偏儀IE-L系列是結(jié)合單/雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器橢偏調(diào)制技術(shù)和光學(xué)成像技術(shù),實(shí)現(xiàn)對薄膜和納米結(jié)構(gòu)的實(shí)時可視化分析測量??赏瑫r高橫向分辨率的得到視場內(nèi)樣品上所有微區(qū)的橢偏參數(shù)。
寬光譜成像光譜橢偏儀IE-L系列 產(chǎn)品詳情

寬光譜成像光譜橢偏儀IE-L系列

寬光譜成像光譜橢偏儀IE-L系列概述: 

結(jié)合單/雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器橢偏調(diào)制技術(shù)和光學(xué)成像技術(shù),實(shí)現(xiàn)對薄膜和納米結(jié)構(gòu)的實(shí)時可視化分析測量??赏?/span>時高橫向分辨率的得到視場內(nèi)樣品上所有微區(qū)的橢偏參數(shù)。

    特點(diǎn): 

橢偏儀|穆勒矩陣橢偏儀|膜厚儀|橢圓偏振光譜儀|薄膜厚度測量 橢偏儀|穆勒矩陣橢偏儀|膜厚儀|橢圓偏振光譜儀|薄膜厚度測量

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◇ 儀器結(jié)構(gòu)圖                                   ◇ 光斑放大圖                                      ◇ 掃描測量生成三維參數(shù)模擬圖

 

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                        ◇ 膜厚分布圖                                                                                                 ◇ 光學(xué)常數(shù)分布圖    

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  • 可視化分析設(shè)置,直觀了解樣品,也助于調(diào)整樣件位置。

  • 掃描分析,根據(jù)測量數(shù)據(jù),生成三維參數(shù)模擬圖。

  • 超便捷的儀器操作:高度的自動化實(shí)現(xiàn)并保證了設(shè)備操作的便利性,用戶可以通過簡單的點(diǎn)擊測量和分析按鈕對樣件進(jìn)行測量和分析,并獲得zui終結(jié)果。

  • 采用*的技術(shù),實(shí)現(xiàn)了包括各向同性,各向異性光學(xué)薄膜,塊狀材料以及周期性納米結(jié)構(gòu)的測量,數(shù)百種光學(xué)材料庫和數(shù)十種樣品光學(xué)模型保證了儀器可以直接對測量結(jié)果進(jìn)行分析,獲取用戶需要的參數(shù)。

 

產(chǎn)品應(yīng)用:

    IE-L系列成像光譜橢偏儀是應(yīng)用于半導(dǎo)體/ 新材料/平板顯示/光伏太陽能/塊狀材料分析行業(yè)中,采用圖形化各種對大面積薄膜樣品膜厚和光學(xué)常數(shù)進(jìn)行快速、高分辨率測量,特別適用于圖形化各向同/異性薄膜材料、復(fù)雜生物組織等的測量分析。

 

 橢偏儀|穆勒矩陣橢偏儀|膜厚儀|橢圓偏振光譜儀|薄膜厚度測量

◇ 采用圖形化各種對大面積薄膜樣品膜厚和光學(xué)常數(shù)進(jìn)行快速、高分辨率測量

 

可用配件:

●  MNFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片

●  NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片

●  VP01真空吸附泵

●  樣品臺物、聚合物等光伏薄膜材料;

技術(shù)參數(shù):

基本功能

圖形化各向同/異性薄膜材料、復(fù)雜生物組織等的測量分析

光譜范圍

400-700nm

測量時間

5-30s(取決于光譜分辨率)

入射角范圍

45-90°

橫向分辨率

1-5μm

精度 橢偏參數(shù):Ψ=±1°,Δ=  ±0.2°
建模分析能力多層納米薄膜,納米結(jié)構(gòu)

 

關(guān)鍵詞:橢偏儀
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