自動光譜橢偏儀SE-L型是一款科研級全自動高精度光譜橢偏儀，集眾多頤光

科技技術(shù)于一體，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù)，配置全自動測量

模塊。通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)光

學參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析。

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• 納米測量光學橢偏測量解決方案

• 緊湊集成設(shè)計，使用簡便，一鍵快速測量

• 向?qū)Ы换ナ饺藱C界面，便捷的軟件操作體驗

• 豐富的材料數(shù)據(jù)庫和算法模型庫，強大的數(shù)據(jù)分析能力

    自動光譜橢偏儀SE-L型產(chǎn)品特點： 

• 采用氘燈和鹵素燈復(fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-1700nm)；

  

•  高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制、PCRSA配置，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集；

  

• 配置全自動測量技術(shù) ， 基于行業(yè)電機控制技術(shù)，全自動調(diào)整測量角度，高精度控制樣件臺，實現(xiàn)樣件快速自動對準找焦；

  

•  數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；

  

•  強大軟件應(yīng)用分析能力，針對半導(dǎo)體、集成電路、新型平板顯示、薄膜光伏等領(lǐng)域中材料的厚度、光學常數(shù)、結(jié)構(gòu)信息等數(shù)據(jù)通過建模擬合進行全面的快速分析；

     自動光譜橢偏儀SE-L型產(chǎn)品應(yīng)用：

    SE-L  型光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應(yīng)用,  實現(xiàn)光學薄膜、納米結(jié)構(gòu)的光學常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析：

1、  半導(dǎo)體：半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu)（如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等），半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu)（如納米光柵，套刻誤差，T型相變存儲器等）；

2、  平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；

3、  光伏太陽能：光伏材料（如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等）反射率，消光系數(shù)測量，膜層厚度及表面粗糙度測量等；

4、  生物和化學工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等。

5、  塊狀材料分析：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等）或液體（純凈物或混合物）的折射率n和消光系數(shù)k表征，玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。

基本功能

全自動化/高精度，通過橢偏參數(shù)、透射/反射率等參數(shù)的快速測量

光譜范圍

3800nm-1000nm（支持紫外擴展至200nm，紅外擴展至1700nm）

測量時間

1-5s

入射角范圍

45-90°

微光斑尺寸

200μm

重復(fù)性測量精度，100nm SiO₂硅片（30次測量，1σ）

0.01nm

支持樣件zui大尺寸

200mm*200mm

樣品臺調(diào)節(jié)

高度：0-15mm（自動）

俯仰：±3°

XY：±12.5mm

Rz：0-360°（粗調(diào)）

±3°（精調(diào)，分辨率：0.05°）

軟件

多語言界面切換

多達數(shù)千種的光學材料常數(shù)數(shù)據(jù)庫，并支持用戶自定義光學材料庫

提供多層各向同性光學薄膜建模仿真與分析功能

提供多層各向異性光學薄膜建模仿真與分析功能

提供多層周期性光柵結(jié)構(gòu)建模仿真與分析功能