寬光譜穆勒矩陣橢偏儀ME-L型
寬光譜穆勒矩陣橢偏儀ME-L型概述
是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業(yè)zui前沿的創(chuàng)新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等?？蓱糜诟鞣N各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。 ——————————————————————————
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產品特點
采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-1700nm)；
可實現穆勒矩陣數據處理，測量信息量更大，測量速度快、數據更加精準；
基于雙旋轉補償器配置，可一次測量獲得全部穆勒矩陣的16個元素，相對傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面的測量信息；
技術參數：
基本功能
一次性獲得全穆勒矩陣、橢偏參數、反射率/透射率、退偏度
光譜范圍
193-1700nm
光譜分辨率
0.5nm
測量時間
1-8s
入射角范圍
45-90°
微光斑尺寸
200μm
重復性測量精度，100nm SiO2硅片（30次測量，1σ）
0.002nm
精度（直通測量空氣）
橢偏參數：Ψ= 45±0.05°，Δ= 0±0.1°
穆勒矩陣：對角元素m=1±0.005，非對角元素m=0±0.005
支持樣件zui大尺寸
8寸
樣品臺調節(jié)
高度：0-20mm（自動）
俯仰：±2°
XY：±12.5mm
Rz：0-360°（粗調）
±5°（精調，分辨率：0.05°）
軟件
多語言界面切換
多達數千種的光學材料常數數據庫，并支持用戶自定義光學材料庫
提供多層各向同性光學薄膜建模仿真與分析功能
提供多層各向異性光學薄膜建模仿真與分析功能
提供多層周期性光柵結構建模仿真與分析功能
僅供參考，詳細參數信息請廠家確認
