全自動Mapping光譜橢偏儀SE-100A
全自動Mapping光譜橢偏儀SE-100A概述
是全自動高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，集眾多頤光科技技術(shù)于一體，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù)，配置全自動模塊技術(shù)：自動變角模塊，自動找焦模塊，自動Mapping測量模塊。通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測量表征分析。 ——————————————————————————
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產(chǎn)品特點：
采用高強度鹵素燈光源，光譜覆蓋可見光到近紅外范圍（支持擴展至210-1700nm）；
高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制、PCRSA配置，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集；
基于行業(yè)電機控制技術(shù)，全自動調(diào)整測量角度，高精度控制樣件臺，實現(xiàn)樣件快速自動對準找焦；
自動Mapping繪制化測量技術(shù) ；
數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；
強大軟件應(yīng)用分析能力，針對半導(dǎo)體、集成電路、新型平板顯示、薄膜光伏等領(lǐng)域中材料的厚度、光學(xué)常數(shù)、結(jié)構(gòu)信息等數(shù)據(jù)通過建模擬合進行全面的快速分析；
產(chǎn)品應(yīng)用
SE-100A全自動Mapping系列光譜橢偏儀 廣泛應(yīng)用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應(yīng)用,實現(xiàn)光學(xué)薄膜、納米結(jié)構(gòu)的光學(xué)常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析：
