摘要 描述：自動金相試樣磨拋機是依據(jù)標準，采用*工藝技術制造的新一代高精度、制樣過程自動化的研磨拋光設備。

摘要 雙磨拋機未找到相應參數(shù)組

摘要 描述：自動金相試樣磨拋機為單盤臺式機，是依據(jù)標準，采用*工藝技術制造的新一代高精度、制樣過程自動化的研磨拋光設備。

摘要 描述：金相試樣磨拋機采用了*的微處理器控制系統(tǒng)，更換金相砂紙和拋光織物可分別進行磨、拋工序的操作，從而使本機展現(xiàn)了更加廣泛的應用性。

摘要 描述：MoPao#174;3自動金相試樣磨拋機采用了*的微處理器控制系統(tǒng)，使得磨拋盤、磨拋頭的轉(zhuǎn)速實現(xiàn)無級可調(diào)，制樣壓力、時間設定直觀、便捷。

摘要 描述：MoPao#174;1000自動金相磨拋機具備磨拋盤旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇、磨拋盤可快速更換；多試樣夾持器和機械式中心力加載；磨料自動配送等功能。

摘要 描述：金相試樣磨拋機（原MoPao2DE型）適用于對金相試樣進行粗磨、精磨、粗拋光至精拋光的制樣，是企業(yè)、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設備。

摘要 描述：金相試樣磨拋機（原MoPao 260E型）采用了*的微處理器控制系統(tǒng)，可供兩人同時進行磨、拋工序的操作，從而使本機展現(xiàn)了更加廣泛的應用性。本機具有轉(zhuǎn)動平穩(wěn)、安全可靠、結構緊湊和噪音低等特點；

摘要 PG-2金相試樣拋光機商品描述：PG-2金相拋光機是由二個拋光盤組成的臺式拋光機轉(zhuǎn)速分別設計成700轉(zhuǎn)/分和900轉(zhuǎn)/分二個不同轉(zhuǎn)速，可適應不同材料在拋光時的不同轉(zhuǎn)速要求

摘要 柜式光譜砂帶磨樣機（無塵型）

摘要 立式雙盤三速金相磨拋機2

摘要 單盤立式磨拋機（無級變速）

摘要 雙盤立式金相磨拋機（無級變速）

摘要 單盤立式自動磨拋機（無級變速）

摘要 立式雙盤三速金相磨拋機

摘要 磨拋機（無級變速）

摘要 雙盤臺式拋光機

摘要 單盤臺式拋光機

摘要 雙盤柜式雙速拋光機

摘要 單盤臺式自動磨拋機（無級變速）

摘要 單盤臺式金相磨拋機（無級變速）

摘要 臺式雙盤金相磨拋機

摘要 拋光機是采集多方面使用人員的意見和要求設計而成的，它具有造型美、結構合理、傳動平穩(wěn)、噪音小、操作維修方便等優(yōu)點。雙盤拋光機可供雙人同時操作，拋光盤直徑與傳遞功率均大于國內(nèi)同類產(chǎn)品，能適合更多種材料的拋光要求，是試樣拋光的理想設備。本產(chǎn)品分單盤和雙盤兩種，供用戶選擇。

摘要 金相試樣拋光機是采集多方面使用人員的意見和要求設計而成的，它具有結構合理、傳動平穩(wěn)、噪音小、操作維修方便等優(yōu)點

摘要 簡要描述：M-Prep 6™研磨/拋光機可選用10”(254mm)或12”(305mm)直徑研磨盤，用于手工樣品的制備。觸摸板可控制所有的操作包括研磨盤的速度，冷卻液配送量的調(diào)整和機器的開始/停止，并且可在整個速度范圍內(nèi)提供的扭力。

摘要 簡要描述：楔形電子顯微鏡制樣夾具用于制備電子顯微鏡觀察用的薄樣品。非旋轉(zhuǎn)測微頭用于消除多余的平面。凸輪鎖緊夾具手柄（無需輔助工具），可快速、方便的固定、移除樣品，以及精確的配置拋光程序

摘要 簡要描述：DualPrep 3™研磨/拋光機可配10”或8”研磨盤，可選配PH-3™、PH-4™研磨頭以達到半自動研磨的功能，可滿足多種材料的研磨要求。

摘要簡要描述：手工樣品固定器用于截面小、未封裝的樣品，如集成電路和其他電子設備的。手持式工具的設計具有穩(wěn)定的，良好的平衡，并且重心低，以避免拋光過程中的搖擺。可調(diào)節(jié)的聚四氟乙烯腳用于將樣品與所需的拋光平面對齊。橫截面手柄連接使用凸輪鎖緊系統(tǒng)（無需輔助工具），可快速、方便的...

摘要 簡要描述：M-Prep 5x™是一臺8”(203mm)或10”(254mm)直徑研磨機，用于手工樣品的制備。7”LCD觸摸面板可控制所有的操作包括研磨盤的速度，冷卻液配送量的調(diào)整和機器的開始/停止，0.6馬力（470W）的電機可在整個速度范圍內(nèi)提供的扭力。

摘要簡要描述：MetPrep 1x™研磨/拋光機推薦用于手工制樣，或使用手持工具拋光易碎樣品?？蓴?shù)字化控制所有操作，包括運行/停止、研磨盤轉(zhuǎn)速、研磨盤的旋轉(zhuǎn)方向和冷卻液流量。其堅固的結構和分離式的研磨盤主軸可有效的消除振動。精密研磨盤保證了垂直運行偏差小于5微...

摘要簡要描述：The X-Prep® is a specialized 5-axis CNC-based milling/grinding/polishing machine designed to support electrical and physical ...

摘要簡要描述：The X-Prep® Vision™ is a metrology tool that enables measurement of silicon and semitransparent substrates. It is neces...

摘要簡要描述：The OptiPrep™ System is designed for production polishing of a wide variety of optical components including: Ferrules, Conn...

摘要簡要描述：The E-Prep 4™ grinding and polishing machine, with the PH-4i™ power head, is a simple yet powerful system for semiaut...

摘要簡要描述：TwinPrep 5x™研磨/拋光機推薦用于手工樣品的制備，強大、安靜0.6馬力（470W）直流無刷電動機，提供恒定的高扭矩輸出直流電機保證了強勁的動力，可選用8”(203mm)或10”(254mm)直徑的鋁或磁性研磨盤，7英寸液晶觸摸屏，兩個研...

摘要 簡要描述：MetPrep 3™研磨/拋光機適用于手工樣品制備，可選配PH-3™系列研磨頭以達到半自動研磨的功能，可滿足多種材料的研磨要求。

摘要 詳細介紹:P-2T型金相試樣拋光機適用與對徑磨光后的金屬材料進行拋光，可獲得光亮如鏡的金屬表面，供在顯微鏡下觀察與測定金相組織

摘要 詳細介紹:LP-2型拋光機是采集多方面使用人員的意見和要求設計而成的，它具有造型美、結構合理、傳動平穩(wěn)、噪音小、操作維修方便等優(yōu)點

摘要 詳細介紹:PG-2A型金相試樣拋光機（以前簡稱拋光機）適用于經(jīng)磨光后的金屬材料進行拋光，可獲得光亮如鏡的金屬表面，供在顯微鏡下觀察與測定金相組織

摘要 詳細介紹:金相試樣在制備過程中，試樣的磨光與拋光是非常重要的工序

摘要 詳細介紹:MPD-2W型雙盤臺式金相試樣磨拋機是一種高效能的，它利用各種不同拉度的耐水研磨金相砂紙及拋光材料，對各種金屬及其合金試樣以及各種巖相試樣進行研磨和拋光，供在顯微鏡下觀察與測定金屬組織

摘要詳細介紹:在金相試樣制備過程中，試樣的預磨，是拋光前的前道工序，先將試樣預磨光后，可大大提高試樣制備的功效，YM-2預磨機，是通過對多方面的調(diào)研和采集多方面的使用人員的意見及要求而設計而成，為適應更多材料預磨的需要，該機的磨盤直徑大于國內(nèi)同類產(chǎn)品，磨盤的轉(zhuǎn)速也不同于國...

摘要 詳細介紹:在金相試樣制備過程中，試樣的預磨，是拋光前的前道工序，先將試樣預磨光后，可大大提高試樣制備的功效，YM-1預磨機，是通過對多方預磨的需要，該機的磨盤直徑大于國內(nèi)同類產(chǎn)品，磨盤的轉(zhuǎn)速也不同于國內(nèi)產(chǎn)品，是試樣預磨的好設備

摘要 詳細介紹:MPZ-1T自動研磨/拋光機是依照國際標準，采用*工藝制造而成

摘要 詳細介紹　　東莞市威諾試驗設備有限公司:　　自動金相試樣磨拋機　　型號：EB-MP-S2D　主要參數(shù)：　　磨拋盤直徑：230mm　　砂紙直徑：230mm　　轉(zhuǎn)速：無極調(diào)速100—1000r/min　　也可以四檔速250r/min