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更新時(shí)間:2024-11-16 17:36:54瀏覽次數(shù):38次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 儀表網(wǎng)標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)
HiClave™ 系統(tǒng)以模塊化的方式構(gòu)建。下面描述的組件構(gòu)成了多功能壓力反應(yīng)系統(tǒng)的基礎(chǔ)。它們可以根據(jù)各種需求情況來進(jìn)行調(diào)整,并在輔助模塊和組件的幫助下進(jìn)行升級(jí)。
10ml和20ml反應(yīng)釜
10ml和 20ml反應(yīng)釜有一個(gè)帶鎖緊螺母的蓋子和一個(gè)帶橫檔的介質(zhì)接口。橫檔的中心連接處放置內(nèi)部溫度控制器,側(cè)面通常與介質(zhì)連接和壓力計(jì)相連。
使用帶有加熱塊的磁力加熱攪拌器對(duì)反應(yīng)器進(jìn)行回火,并使用磁力攪拌棒進(jìn)行攪拌。
50 ml反應(yīng)釜
50ml反應(yīng)釜有一個(gè)帶鎖緊螺母和3個(gè)接口的蓋子。其中一個(gè)接口可以配備磁力攪拌驅(qū)動(dòng)器。攪拌器離心運(yùn)作。另外兩個(gè)接口用于熱控制器和介質(zhì)供應(yīng)。如果您更加想使用磁力攪拌而非驅(qū)動(dòng)攪拌,則可以根據(jù)需要選擇接口。
100 至250ml 反應(yīng)釜
100 ml 至 250 ml 反應(yīng)釜有一個(gè)法蘭蓋,該法蘭蓋使用膨脹螺釘擰緊,帶有7個(gè)接口。其中三個(gè)接口已移至蓋子的外側(cè),以便使用。
中心連接口由磁力攪拌頭占據(jù)。反應(yīng)釜可以用不銹鋼 1.4571 (SS 316Tl) 或哈氏合金制造。
水合模塊
VL-HICLAVE-HYDR水合模塊能夠執(zhí)行完整的水合過程,包括惰性氣體沖洗和反應(yīng)釜泄漏測(cè)試,無需任何人工干預(yù)。因此,在反應(yīng)釜處于受壓期間,高風(fēng)險(xiǎn)區(qū)域不必有人在場(chǎng)。惰性氣體被施加到反應(yīng)釜中,壓力可調(diào)節(jié),然后充氣。該沖洗循環(huán)可以根據(jù)需要多次重復(fù)。隨后,使用惰性氣體進(jìn)行壓力檢查。檢查的持續(xù)時(shí)間和通過測(cè)試的公差可以自由選擇。
框架 | 方形陽極氧化鋁型材,反應(yīng)釜不銹鋼平臺(tái) |
反應(yīng)釜 | 10到250 ml 不銹鋼反應(yīng)釜(可選哈斯合金),300 bar,300℃,可選 450℃,爆破片 |
攪拌器 | 帶磁耦合的攪拌器,速度 20至1.500 rpm,扭矩max.20/50 Ncm,包括用于速度控制的模擬接口(反應(yīng)釜≥50 ml) 或:帶加熱塊和磁力攪拌棒的磁力加熱攪拌(反應(yīng)釜≤50 ml ) |
加熱/冷卻系統(tǒng) | 系統(tǒng)加熱套管/冷卻板(或者冷卻回路),夾套中的工作溫度范圍為40至350℃,加熱功率高達(dá) 700W。替代方案:帶加熱塊的磁力加熱攪拌器 |
取樣 | 手動(dòng)取樣 |
注氣 | 通過 MFC 進(jìn)行壓力調(diào)節(jié)的反應(yīng)氣體,包括氣體消耗量測(cè)量、旁通閥 |
惰化 | 惰性氣體壓力調(diào)節(jié),通過高壓電磁閥排氣 |
重力加量系統(tǒng) | GraviDos® 高達(dá)300bar的高壓計(jì)量系統(tǒng),可選擇/可選高壓泵和天平 |
傳感器 | 反應(yīng)器內(nèi)部溫度、夾套溫度、反應(yīng)器內(nèi)部壓力、速度、ATR-FTIR |
自動(dòng)化 | 兩個(gè)高壓釜的示例: LabManager® 2 配備以下設(shè)備:4 個(gè)Pt100溫度測(cè)量輸入、4個(gè)模擬輸入(電流和電壓)、4個(gè)RS232接口(攪拌器、水合模塊)、4個(gè)GraviDos® 連接、8個(gè)數(shù)字輸出 2 個(gè)安全溫度控制器HiTec Zang OS、TFT 監(jiān)視器、不間斷電源和 UPS 管理系統(tǒng)、帶有項(xiàng)目模塊庫和 EasyBatch™ 的LabVision® 軟件包。該自動(dòng)化系統(tǒng)可以監(jiān)控2個(gè)反應(yīng)釜,可以擴(kuò)展到 4 個(gè)反應(yīng)釜 |
材料 | 主要為不銹鋼1.4571,其他為不銹鋼,哈斯合金 |
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