濁度儀/在線式濁度儀/在線濁度計/流通式濁度儀 型號:DP-ZD
散射法濁度測量原理：儀器通過發(fā)射強度的單色光，光束穿過水樣遇到水中微小顆粒產(chǎn)生散射光，通過測量垂直于光束方向的散射光強度計算水樣濁度（低濁度）。
透射式濁度測量原理：儀器通過發(fā)射的單色光，光束穿過水樣遇到水中微小顆粒產(chǎn)生散射光而衰減，計算透射光強和光強衰減率從而測量水樣濁度（濁度）。
變送器性能參數(shù)
測量范圍：低濁度0~400NTU、
濁度0~4000NTU；
精 確 度：1度（1-10NTU）5度（10-100NTU）
10度（100-400NTU）50度（400-1000NTU）
100度（1000NTU以上）
分 辨 率：低濁度0.01NTU、濁度0.1 NTU
模擬輸出：4～20mA、Z大負載750?
繼電器輸出：報警繼電器輸出
繼電器容量：AC230V、5A
數(shù)字接口： RS485模塊（可選）
供電電源：AC220V?10%
變送器材質(zhì)：PC
防護等：IP65
工作溫度：-20~60℃
傳感器性能參數(shù)
傳感器材質(zhì)：流通槽為 ABS
浸沒式為316不銹鋼
過程連接：流通槽為壁掛式安裝
浸沒式傳感器為G1管螺紋
傳感器線纜：10米
防護等：IP68（浸沒式傳感器）
工作溫度：傳感器 0~60℃
環(huán)境濕度: 相對濕度≤90%
過程壓力：0.6MPa（浸沒式）
標 定：標準液或現(xiàn)場對比校驗

自動磨片機 巖石磨片機 磨片機 型號：DP-JKJM-125
自動巖石磨片機二代巖石磨片機.清觸摸式液晶平板電腦操作,磨片全程監(jiān)控.參數(shù)簡單方便直觀.性能可靠.效率零破損.精度可達0.002mm-0.0025mm.全面提升或替代CNC編程!
該巖石磨片機用于對切割后的標本行平面磨平。制取精度標本。
本機磨頭上裝有￠125金剛石磨輪。標本安裝在工作臺上，工作時工作臺在運轉(zhuǎn)，磨頭自動前磨削。 主要參數(shù)：
磨輪規(guī)格：￠125×￠30×40mm 磨削范圍：≤7mm的載玻片 磨削動力頭功率：0.55KW 3000轉(zhuǎn)／分
編程控制器：PLC控制器
可編180段程序指令（不同的工作狀態(tài)）5mm的載玻片磨到0.02-0.03mm大約需5分鐘，且三片同時磨。
（整個磨片過程鍵搞定，組磨片結(jié)束后自動回到起始位置等待裝片。機械手夾具，無噪聲） 自動磨削，給量：編程自動確定。
冷卻：自來水冷卻。

在線工業(yè)PH分析儀 在線工業(yè)酸度計 型號：DP-PY-2220
DP-PY-2220型工業(yè)酸度計具有以下功能和點：
實時測量：由于儀表軟件采用實時多任務操作系統(tǒng)，因此開機后，任何對儀表的操作都不中斷測量，實現(xiàn)實時輸出和記錄，因此，這是本儀表的點之。并對PH值行補償運算轉(zhuǎn)換為250C時的PH值。
中文顯示：采用分辨率點陣圖形液晶顯示模塊，所有的菜單和提示均為中文顯示，菜單結(jié)構簡單，操作方便。
溫度自動補償：在0－600范圍內(nèi)能自動補償。
隔離電流輸出：采用用隔離電流輸出模塊。軟件選擇三種電流輸出狀態(tài)（0－10mA,0－20mA,4－20mA），抗干擾能力強，傳輸距離遠。并且在0－20mA范圍內(nèi)可以任意調(diào)整，用于校驗記錄儀。
串行通訊：采用485串行通訊口，傳輸距離達1.2Km。
顯示方式：數(shù)字顯示和的棒圖顯示直觀清晰。在屏上可以同時顯示時鐘、溫度、狀態(tài)、Ph值、棒圖。主顯示區(qū)10mmХ10mm用于顯示PH值；3個副顯示區(qū)5mmХ5mm用于顯示時鐘，溫度，報警信息。
量程自動轉(zhuǎn)換：在電所覆蓋的測量范圍內(nèi)實現(xiàn)量程自動轉(zhuǎn)換功能。
背光功能：在光線不足或黑暗環(huán)境下能夠清晰觀察儀表顯示數(shù)據(jù)和操作儀表，通過儀表鍵盤可以調(diào)節(jié)對比度。
抗干擾能力強：儀器從軟件和硬件上采用了雙重抗干擾防死機措施。
長期監(jiān)測報告：儀表每間隔5分鐘自動存儲次測量數(shù)據(jù)，可連續(xù)存儲256條的Ph值，可以顯示查詢歷史數(shù)據(jù)曲線，曲線可任意縮放比例，便于觀察分析水質(zhì)的變化趨勢和過程。
運行記錄：忠實記錄儀表運行過程發(fā)生的事件，如更改參數(shù)設置，報警和開關機時間等。
雙報警：低限報警和低溫報警。
寬電壓，頻率范圍：AC165－265V：50－60Hz.
☆測量范圍：
PH:0~14PH；
mV:-1000mV~ +1000Mv；
溫度：0－99.90C；
☆電子單元示值誤差限：
PH：±0.01PH；
mV: ±0.5mV
溫度：±0.10C；
☆儀器示值誤差限：
PH：±0.02PH；
mV: ±1.0mV
溫度：±0.20C；
☆儀器的重復性誤差限：
PH：±0.02PH；
mV: ±0.5mV
溫度：±0.10C；
☆電子單元輸出電流誤差限：不大于±0.1%F.S；
☆電子單元在Z大負荷下輸出電流誤差限：
0－10mAZ大負荷2KΩ不大于±0.1%F.S；
0－20mAZ大負荷1KΩ不大于±0.1%F.S；
4－20mAZ大負荷1KΩ不大于±0.1%F.S；
☆電子單元輸入阻抗:不小于1X1012Ω
☆ 電子單元輸入電流: 不大于1X10-12A
☆ 被測水樣：0－60.00C，0.3Mpa；
☆ 自動溫度補償范圍：0－60.00C,25.00C為基準；
☆ 電子單元自動溫度補償誤差限：不大于0.1%F.S：
☆ 電子單元環(huán)境溫度影響誤差限：不大于±150μV.0C-1；
☆ 電子單元電源電壓影響誤差限：不大于±0.02PH；
☆ 電子單元示值漂移：
PH：±0.01PH/24h；
mV: ±0.5mV/24h；
溫度：±0.10C/24h；
☆ 電子單元報警誤差限：不大于±0.5%F.S；
☆ 串行485通訊口；平衡差動式傳輸，距離不小于1.2km；
☆ 數(shù)據(jù)存儲數(shù)量:1.2×104個(1點/5分鐘) ；
☆ 掉電數(shù)據(jù)保存時間：10年；
☆ 報警繼電器觸點容量：AC125V，0.5A、DC60V，0.3A； DC30V，1A；
☆ 工作電壓：AC85－265V，50－60Hz；
☆ 功率：6W；
☆ 重量：1.5kg；
☆ 工作條件:
環(huán)境溫度:0－600C；
相對濕度：＜90％；
☆ 儀器外殼按照 NEMA 4X（IP65）標準制，材料為 ABS；
外形尺寸：155（）*155（寬）*160（深）mm；
開孔尺寸：138*138 mm；
☆ 安裝方式：墻面，盤裝或管道安裝。

浸漬提拉涂膜機 提拉機 型號：DP-SYDC-500
. 產(chǎn)品應用
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預設置的浸漬時間、提拉速度、提拉度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成層納米的薄膜。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
采用溶膠-凝膠法鍍膜，隨著基片從溶膠中提拉出來，在基片上附著層膜，稱為“濕凝膠膜"，隨著“濕凝膠膜"膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜"?！案赡z膜"經(jīng)過步的干燥及溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。

二. 產(chǎn)品簡介
浸漬提拉鍍膜機是門為液相（別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、控制。對鍍膜基質(zhì)無殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動，可大提實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產(chǎn)品。

三. 產(chǎn)品點
1. 采用的C4傳動裝置；
2. 關鍵零部件來自中中國臺灣及日本口；
3. 多參數(shù)全自動控制；提拉速度連續(xù)可調(diào)；
4. 4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；
5. 、低速均運行平穩(wěn)，無振動，使成膜更均勻；

四. 參數(shù)
1. 提拉速度范圍：10～6000 μm/s，Z小分辨率1μm/s；
2. 有效提拉度：MAX 500 mm，Z小分辨率1mm；
3. 浸漬時間：1～600 s，Z小分辨率1s；
4. 鍍膜次數(shù)：1～20次，Z少1次；
5. 每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，Z小分辨率1s；
6. 電源：220V/50Hz

浸漬提拉涂膜機 提拉機 型號：DP-SYDC-300
、產(chǎn)品應用
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預設置的浸漬時間、提拉速度、提拉度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成層納米的薄膜。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
采用溶膠-凝膠法鍍膜，隨著基片從溶膠中提拉出來，在基片上附著層膜，稱為 “濕凝膠膜"，隨著“濕凝膠膜"膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜"?！案赡z膜"經(jīng)過步的干燥及溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。

二、產(chǎn)品簡介
浸漬提拉鍍膜機是門為液相（別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、控制。對鍍膜基質(zhì)無殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動，可大提實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產(chǎn)品。

三、產(chǎn)品點
1. 采用自主的的傳動裝置；
2. 關鍵零部件來自中中國臺灣及日本口，確保運行精度及穩(wěn)定性；
3. 采用箱體式，鍍膜溶液及樣品均置于密閉箱體內(nèi)，避免外界環(huán)境的干擾；前門及側(cè)面采用透明玻璃，便于觀察鍍膜過程；
4. 多達6個參數(shù)全自動控制；提拉速度連續(xù)可調(diào)；
5. 可全自動運行鍍膜，也可入手動操作模式鍍膜；
6. 7英寸觸摸屏使控制更方便，歷史運行記錄可方便查詢；
7. 、低速均運行平穩(wěn)，工作時液面無振動，使成膜更均勻；

四、參數(shù)
1. 提拉速度范圍：1～6000 μm/s，Z小分辨率1μm/s；
2. 適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 300×300 mm，厚度 MAX 10mm。
3. 浸漬時間：1～3600 s，Z小分辨率1s；
4. 鍍膜次數(shù)：1～50次，Z少1次；
5. 每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，Z小分辨率1s；
6. 電源：220V/50Hz  

注:產(chǎn)品詳細介紹資料和上面顯示產(chǎn)品圖片是相對應的