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單晶爐需要控制的方面

時間：2011/7/4閱讀：2423
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       單晶爐需要控制的方面

       單晶爐是一種在惰性氣體環(huán)境中,用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生長無錯位單晶的設(shè)備。

          一、晶體直徑 　　

          二、溫度 　　

          三、原料 　　

          四、泄漏率，氬氣質(zhì)量等 　　

        

深圳市利方達科技有限公司

在香港、深圳、上海開設(shè)了子公司；公司專注國外的真空、鍍膜設(shè)備核心部件、儀器、零部件的代理銷售、服務(wù)、以及各種真空非標準系統(tǒng)的生產(chǎn)開發(fā)，同時向國外宣傳和銷售國內(nèi)的產(chǎn)品；主要產(chǎn)品：真空測量儀，氣體流量計，真空鍍膜機，三洋伺服電機等。公司擁有雄厚的技術(shù)力量和的員工團隊，*的服務(wù)，為客戶提供*的真空配備方案，解決客戶真空應(yīng)用難題，使客戶成本降到zui低；為此我們得到了業(yè)界的稱譽,擁有了大量的客戶群體。我們將更一如繼往努力的維護客戶，回報客戶對我們的信任。期待你的來電??！

    

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