光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng)PR-PD3

外形小巧、運營成本低、應(yīng)用范圍廣光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng)PR-PD3系列產(chǎn)品運轉(zhuǎn)效率高，具有*穩(wěn)定性，受到眾多半導體制造工廠的高度評價。繼承了各個結(jié)構(gòu)簡單、*穩(wěn)定運轉(zhuǎn)的搬運系統(tǒng)，高通過量、可靠性高的光學系統(tǒng)。以及具有防誤測功能等高性能設(shè)備并巧妙組合成一個整體的產(chǎn)品就是PR-PD3。和以往的機型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了約1/2，追求低運營成本。檢測靈敏度達到0.5μm，具有廣泛通用性。誕生了可以用來滿足光掩模(reticle/mask)上異物檢測這一廣泛需求的簡便裝置。

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng)PR-PD3特征

• 和以往機型相比，設(shè)計小了1/2左右。 和PR-PD2相比較，底面面積小了1/2，實現(xiàn)了小巧化。由于占地面積大幅變小，所以即使添加操作裝置(可選件)，也可以自由地進行布局。
• 實現(xiàn)了低運營成本。 采用激光中具有超群經(jīng)濟性的氦氖激光，同時，采用了結(jié)構(gòu)簡單的載物臺搬運系統(tǒng)等，大幅度地降低了維護運營成本。
• 有效的防誤測措施。 搭載有粗圖案用的偏振差動和細微圖案用的低通差動這二個功能。通過同時使用這二種方法，可以有效地防止OPC等具有兩種特性的圖案誤檢測。