光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2HR

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2HR半導體工廠對高效和功能性有很高的要求,而Horiba PD系列正因良好的操作性及*的穩(wěn)定性享有盛譽。光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2HR的傳輸系統(tǒng)在長時間的操作中可以保持傳輸穩(wěn)定，性能優(yōu)異，輸出良好的特點，而現(xiàn)在光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2HR又可實現(xiàn)低至0.35µm的信號檢測。

可適配任意一種Stepper盒的PR-PD2HR可處理多至10個卡夾，也支持多種通訊協(xié)議。作為PD系列的一員，本設備提供高功能性對應多種Reticle和掩模版顆粒物監(jiān)測任務，同時也可在高速輸出的條件下進行Glass面及Pellicle面的監(jiān)測。PR-PD2HR可對半導體工廠的產(chǎn)量提高作出貢獻。

可檢測的Pattern上的超微顆粒的尺寸可小至0.35µm 。Reticle直徑1.0µm、線寬小至1.0µm的情況下，也可減少監(jiān)測錯誤到zui小程度。通過*的光學處理方式減少檢測錯誤Horiba*的信號處理可有效抑制低至1.0µm/1.0µmL&S級別的誤檢。通過可以有效鑒別Pattern的低通過濾器進一步將錯檢降至zui小程度。而這在高密度Pattern中降低誤檢率是非常有效的。