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顯微光譜工作站GP-58C

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產(chǎn)品型號(hào)GP-58C

品       牌

廠商性質(zhì)其他

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更新時(shí)間：2025-02-14 08:42:57瀏覽次數(shù)：60次

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所在地區(qū)：北京北京市

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品概述：高速顯微光譜測(cè)量工作站GP-58C是在科研級(jí)明暗場(chǎng)正置金相顯微鏡XJ-58C基礎(chǔ)上加載高速了顯微光譜儀，是高品質(zhì)和高精度的顯微光譜分析平臺(tái)，具有高信噪比，高靈敏度，能夠快速采集紫外可見近紅外全譜段的透射、反射光譜

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品概述：
        高速顯微光譜測(cè)量工作站GP-58C是在科研級(jí)明暗場(chǎng)正置金相顯微鏡XJ-58C基礎(chǔ)上加載高速了顯微光譜儀，是高品質(zhì)和高精度的顯微光譜分析平臺(tái)，具有高信噪比，高靈敏度，能夠快速采集紫外—可見—近紅外全譜段的透射、反射光譜。適用于光子晶體研究、納米材料光學(xué)性能表征、微加工材料光學(xué)性能表征、表面等離子體研究。也可用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結(jié)構(gòu)分析和研究，以及材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究?？偡糯蟊稊?shù)：50X-500X
◆主要特點(diǎn)：
1、低雜散技術(shù)，高速光譜傳輸技術(shù)，實(shí)現(xiàn)微妙量級(jí)光譜檢測(cè)
3、全譜段技術(shù)，最寬譜段覆蓋范圍達(dá)320—1100nm
4、紫外敏化技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了深紫外光譜探測(cè)?？臻g分辨率：最小5X5um2
5、采用了的無限遠(yuǎn)光路設(shè)計(jì)，提供了的光學(xué)系統(tǒng)
6、系統(tǒng)配置了電動(dòng)調(diào)焦載物臺(tái)，高清相位模塊、高亮度LED照明
7、采用大視野目鏡和明暗場(chǎng)長(zhǎng)距平場(chǎng)物鏡，視場(chǎng)平坦,成像清晰
8、配置了偏光、暗場(chǎng)裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能
◆典型應(yīng)用：
1、光子晶體研究、納米材料光學(xué)性能表征、微加工材料光學(xué)性能表征、表面等離子體研究
2、電子工業(yè)制造業(yè)對(duì)硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗(yàn)
3、觀察材料表面的某些特性，金屬、礦相內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織

規(guī)格參數(shù)：
序號(hào) 名  稱 參數(shù)
01 光學(xué)系統(tǒng) 無限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)，鏡筒透鏡f=200mm
02 觀察鏡筒 三目鏡筒（帶有0.3XCCD適配鏡）
03 目  鏡 1、超寬視場(chǎng)平場(chǎng)目鏡WF10X/26mm2、WF10X/22mm，帶0.1mm十字分劃板
04 超長(zhǎng)工作距離平場(chǎng)無限遠(yuǎn)明/暗場(chǎng)物鏡： 5X/NA0.20(W.D=14.47mm)、10X/NA0.25(W.D=16.0mm)、20X/NA0.40(W.D=10.5mm)、50X/NA0.55(W.D=5.1mm)
05 物鏡轉(zhuǎn)換器 帶DIC插孔的五孔轉(zhuǎn)換器
06 載物臺(tái) 精密測(cè)量平臺(tái)，工作臺(tái)尺寸：150X150mm    移動(dòng)范圍50mmX50mm，
07 濾色片 濾色片（綠、藍(lán)、中性）
08 調(diào)焦 電動(dòng)調(diào)焦
09 光源 透射照明： LED燈5W,寬電壓AC85V—260V,亮度連續(xù)可調(diào) 
反射照明：科勒照明鹵素?zé)?2V50W,寬電壓AC85V—260V,亮度連續(xù)可調(diào),帶孔徑光闌和視場(chǎng)光闌
10 偏光裝置 檢偏鏡可360度旋轉(zhuǎn)。起偏鏡、檢偏鏡均可移出光路
11 光譜模塊 高速顯微光譜測(cè)量工作站

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