南京崛宇精密儀器有限公司
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南京崛宇精密儀器有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)EVO10
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地南京市
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更新時(shí)間：2024-06-23 07:38:43瀏覽次數(shù)：211次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 儀表網(wǎng)蔡司EVO系列模塊化的SEM平臺(tái)適用于直觀操作、例行檢測(cè)和研究應(yīng)用EVO系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗(yàn)結(jié)合在一起，同時(shí)能夠吸引經(jīng)驗(yàn)豐富的用戶以及新用戶
蔡司 EVO 系列
＞ 顯微鏡中心或工業(yè)質(zhì)量保證實(shí)驗(yàn)室的多功能解決方案
＞ 不同的真空室大小和可滿足所有應(yīng)用要求的載物臺(tái)選項(xiàng)-甚至是大型工業(yè)零部件樣品
＞ 使用LaB6燈絲，能夠得到優(yōu)異的圖像質(zhì)量
＞ 對(duì)不導(dǎo)電和無(wú)導(dǎo)電涂層的樣品的成像和分析性能出色
＞ 可以配置多種分析探測(cè)器用于滿足各種顯微分析應(yīng)用的需求
SmartSEM Touch可以通過(guò)使用您的指尖與其進(jìn)行交互式工作流程控制。它簡(jiǎn)單易學(xué)， 大大減少了培訓(xùn)所付出的努力和成本，甚至新用戶在幾分鐘內(nèi)也能夠捕捉令人驚嘆的圖像。此用戶界面還支持需要自動(dòng)化工作流程以執(zhí)行可重復(fù)檢查任務(wù)的工業(yè)操作員。
EVO 擅長(zhǎng)于對(duì)未經(jīng)處理和沒(méi)有導(dǎo)電涂層的樣品獲取高質(zhì)量的數(shù)據(jù)。EVO 還允許樣品保留其原始狀態(tài)， 維持含水和重污染樣品的數(shù)據(jù)質(zhì)量。此外當(dāng)成像和微量分析面臨挑戰(zhàn)時(shí)，選用LaB6燈絲則能夠給予更好的分辨率、 對(duì)比度和信噪比。
EVO可以作為半自動(dòng)、多模式工作流程的一部分，通過(guò)重新定位感興趣區(qū)域，并以多種方式收集數(shù)據(jù)，形成信息的完整性。將光學(xué)和電子顯微鏡圖像合并起來(lái)進(jìn)行材料表征或零件檢驗(yàn)，或者將 EVO 與蔡司光學(xué)顯微鏡相關(guān)聯(lián)，進(jìn)行關(guān)聯(lián)顆粒度分析。
在實(shí)際的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中，SEM 的操作通常是顯微鏡專家的專屬領(lǐng)域。但是對(duì)于非專家級(jí)用戶來(lái)說(shuō)，操作SEM就變得具有挑戰(zhàn)，比如學(xué)生、受訓(xùn)者或質(zhì)量工程師，他們往往也需要從 SEM獲取數(shù)據(jù)。 EVO 則同時(shí)考慮了這兩類用戶的需求，用戶界面選項(xiàng)既能滿足有經(jīng)驗(yàn)的顯微鏡專家也能滿足非專業(yè)用戶的操作需要。
專家用戶可以獲取以及設(shè)定高級(jí)的成像參數(shù)和分析功能。
SmartSEM: 為有經(jīng)驗(yàn)用戶使用的控制界面
▲新手用戶
新手用戶可以使用預(yù)定義的工作流程和常用的一些參數(shù)-非常適合初學(xué)者。
SmartSEM Touch: 是一款在觸摸屏電腦上運(yùn)行的簡(jiǎn)化圖形用戶界面
智能導(dǎo)航與成像
相機(jī)可以安裝在倉(cāng)室前方， 以監(jiān)測(cè)樣品與背散射探測(cè)器以及物鏡底端之間的相對(duì)位置(倉(cāng)室相機(jī))；或安裝在真空室倉(cāng)門(mén)上方 (導(dǎo)航相機(jī))， 利用俯視圖查看樣品臺(tái)上樣品的擺放位置。此視圖可用于設(shè)置從光學(xué)顯微鏡圖像中識(shí)別出的預(yù)定義位置， 并在整個(gè)樣品測(cè)試過(guò)程中輕松導(dǎo)航。
EVO實(shí)現(xiàn)了對(duì)樣品批量自動(dòng)、無(wú)人值守的圖像采集。蔡司自動(dòng)化智能成像非常適合例行檢測(cè)。它使用戶能夠自定義邊界區(qū)域，自動(dòng)生成所需的視圖或放大倍數(shù)確定的感興趣區(qū)域，并開(kāi)始自動(dòng)獲取圖像。自動(dòng)化智能成像將大大提高樣品的測(cè)試效率，以及更多的數(shù)據(jù)產(chǎn)出。
六硼化鑭陰極相較于傳統(tǒng)的鎢發(fā)夾燈絲所發(fā)射的電子能夠保證您額外所需要的圖像質(zhì)量。這種優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)在以下兩個(gè)方面:
＞ 在相等電子探針尺寸 (即分辨率) 下， 有更多探針電流可供使用， 從而使圖像導(dǎo)航和優(yōu)化更容易
＞ 在相等的探針電流 (信噪比) 下， 光斑直徑要小得多， 從而提高了圖像分辨率
EVO 能夠與其它設(shè)備相關(guān)聯(lián)
▲Shuttle & Find 將EVO、光學(xué)顯微鏡和數(shù)碼顯微鏡組成一個(gè)關(guān)聯(lián)的、多模態(tài)工作流程
由于蔡司是各種類型顯微鏡和計(jì)量系統(tǒng)的優(yōu)秀供應(yīng)商， 所以您還可以將EVO 與蔡司其它解決方案相結(jié)合，使其功能能夠發(fā)揮得更好。
通過(guò)使用Shuttle & Find（蔡司關(guān)聯(lián)顯微鏡的軟硬件部分），您可以在（數(shù)碼）光學(xué)顯微鏡和 EVO 之間建立一個(gè)高效的多模式聯(lián)用的工作流程。將光學(xué)顯微鏡的光學(xué)對(duì)比方法與同樣的掃描電鏡成像和分析方法相結(jié)合， 獲得互補(bǔ)的數(shù)據(jù)， 從而更清楚地去了解樣品的材料、質(zhì)量或失效機(jī)理。
德國(guó)蔡司ZEISS鎢燈絲掃描電子顯微鏡 型號(hào)：EVO 10
EVO系列電鏡是高性能、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級(jí)的物鏡設(shè)計(jì)，提供高低真空成像功能，可對(duì)各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界的X射線分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設(shè)計(jì)，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時(shí)還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺(tái)為五軸全自動(dòng)控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無(wú)油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無(wú)污染(免維護(hù))成像分析。
掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測(cè)量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測(cè)量。
鎢燈絲掃描電子顯微鏡EV0 10技術(shù)參數(shù)
1、光學(xué)系統(tǒng)
1.1、發(fā)射源：鎢燈絲?？蛇x擇普通燈絲或預(yù)對(duì)中式燈絲。具有自動(dòng)電子槍啟動(dòng)，自動(dòng)對(duì)中，自動(dòng)選擇電子槍偏壓功能。
1.2、聚焦：具有手動(dòng)及自動(dòng)聚焦功能。
1.3、光闌：三級(jí)可調(diào)物鏡光闌，能快速對(duì)光闌孔定位，并可作電子束自動(dòng)對(duì)中。
1.4、加速電壓：0.2 - 30kV，10V步進(jìn)連續(xù)可調(diào)。
1.5、電子束位移：±20µm。
1.6、放大倍數(shù)：7 - 1,000,000×
1.7、分辨率：3.0nm @ 30kV（SE）
8.0nm @ 3kV（SE）
1.8、探針電流范圍：0.5 pA - 5 μA，連續(xù)可調(diào)。
2、真空系統(tǒng)
2.1、真空泵系統(tǒng)：渦輪分子泵+機(jī)械泵，不需要冷卻水。
2.2、真空度：真空度：優(yōu)于2×10-4Pa；
2.3、抽真空時(shí)間：小于3分鐘。
3、樣品室
3.1、樣品室類型：高剛性、圓形、厚壁，大樣品室。
3.2、樣品室內(nèi)部尺寸：310mm（φ）×220mm（h）。
3.3、可放置的樣品尺寸：直徑230mm，高度100mm
3.4、允許樣品重量：不小于5kg。
3.5、樣品臺(tái)移動(dòng)方式：5軸電動(dòng)計(jì)算機(jī)優(yōu)中心。
3.6、樣品臺(tái)移動(dòng)范圍：X=80mm, Y=100mm, Z=35mm, T= -10° - 90°, R =360°。
3.7、樣品臺(tái)具有接觸報(bào)警與自動(dòng)停止功能。
3.8、具備樣品位置感知功能。
3.9、X射線分析條件：出射角 35度；
4.0、分析工作距離：8.5 – 20 mm。
4、探測(cè)、成像系統(tǒng)
4.1、高真空二次電子探測(cè)器。
4.2、背散射電子探測(cè)器（選配）。
4.3、具有X射線能譜儀接口。
4.4、探測(cè)器成像模式：同時(shí)對(duì)二次電子和背散射電子成像，可用分屏方式同時(shí)顯示兩種圖像，并可在一種圖像中任意位置顯示另外一種圖像。
4.5、掃描方式：全屏、選區(qū)、定點(diǎn)、線掃描、線輪廓、掃描旋轉(zhuǎn)、傾斜補(bǔ)償。
4.6、整機(jī)系統(tǒng)控制要求獨(dú)立控制單元，為檢修提供方便。
4.7、圖像解析度：32k x 24k像素（）。
4.8、圖像控制：電子光學(xué)性能與易用性相結(jié)合的OptiBeam模式（分辨率模式、景深模式、分析模式、視場(chǎng)模式）。
4.9、操作系統(tǒng)：Windows 7，靈活易用的SmartSEM掃描電鏡操作控制軟件。
4.10、顯示器：24" TFT
可選附件
電鏡可選附件用于增強(qiáng)和拓展電子顯微鏡功能，具體產(chǎn)品涵蓋了從樣品制備到成像、分析等所有步驟的需求。應(yīng)用范圍包括材料科學(xué)、生命科學(xué)、地球物理學(xué)、電子學(xué)，能源科學(xué)等領(lǐng)域。
| 產(chǎn)品類別 | 產(chǎn)品名稱 | 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 |
| 分析設(shè)備 | 能譜儀 | 檢測(cè)特征X射線能量，稱為能量色散譜儀（Energy Dispersive Spectroscopy），簡(jiǎn)稱能譜儀（EDS）。主要是對(duì)材料微區(qū)化學(xué)成分進(jìn)行定性及定量分析，可以用于金屬、高分子、陶瓷、混凝土、生物、礦物、纖維等無(wú)機(jī)或有機(jī)固體材料分析等。例如：在掃描電鏡下可以結(jié)合夾雜物形態(tài)及成分進(jìn)行分析；固體材料的表面涂層、鍍層進(jìn)行分析；結(jié)合EBSD對(duì)未知材料進(jìn)行相鑒定等。 |
| 波譜儀 | 利用晶體衍射分光檢測(cè)感興趣的特征X射線波長(zhǎng)，稱為波長(zhǎng)色散譜儀(Wavelength Dispersive Spectroscopy)，簡(jiǎn)稱波譜儀（WDS）。與能譜儀相比，波譜儀的能量分辨率更高，可以將能量非常接近的譜線區(qū)分開(kāi)，同時(shí)具有更低的元素檢測(cè)限，可檢測(cè)元素含量至0.1‰。 | |
| 背散射電子衍射探測(cè)器 | 電子背散射衍射（Electron Backscatter Diffraction，簡(jiǎn)稱EBSD）技術(shù)，是基于掃描電鏡中電子束在傾斜樣品表面激發(fā)形成的衍射菊池帶的分析，從而確定晶體結(jié)構(gòu)、取向、晶界類型、微織構(gòu)組成及應(yīng)變分布等相關(guān)信息，是快速而準(zhǔn)確的獲得晶體取向信息的強(qiáng)有力的分析工具。EBSD技術(shù)可用于各種晶體材料——金屬、陶瓷、半導(dǎo)體、地質(zhì)、礦石的分析，結(jié)合形貌、能譜信息，可以解決其在形變、再結(jié)晶、相變、斷裂、腐蝕過(guò)程的問(wèn)題。 | |
| 加熱臺(tái) | 掃描電鏡高溫加熱臺(tái)可以動(dòng)態(tài)地觀察溫度變化時(shí)材料微觀組織、結(jié)構(gòu)的變化及失效分析，通入氣體可進(jìn)行高溫氣體反應(yīng)的觀察，結(jié)合EBSD可進(jìn)行不同溫度下原位EBSD實(shí)驗(yàn)，用于觀察晶體材料的相變過(guò)程、再結(jié)晶形核及長(zhǎng)大過(guò)程、晶界處的變化等。Gatan系列的加熱臺(tái)具有溫度精度高、穩(wěn)定性好、結(jié)構(gòu)緊湊、樣品座方便拆卸等優(yōu)點(diǎn)。被廣泛應(yīng)用于液晶檢測(cè)、半導(dǎo)體、高分子材料、流體包裹體、生物工程等眾多領(lǐng)域，在冶金材料領(lǐng)域，結(jié)合EBSD進(jìn)行再結(jié)晶及相變過(guò)程的觀察等。 | |
| 冷凍臺(tái) | 低溫氮?dú)庵评錁悠放_(tái)模塊，可安裝在現(xiàn)有的SEM 樣品臺(tái)上。廣泛應(yīng)用于：電子束敏感材料-如高分子、地質(zhì)樣品、低溫冷卻后可做微量分析；半導(dǎo)體材料及超導(dǎo)材料-研究低溫相及性能；陰極發(fā)光及EBIC應(yīng)用。 |
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