MiniLab系列柔性薄膜實驗設備THERMOCERA

MiniLab系列柔性薄膜實驗設備THERMOCERA

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產(chǎn)品介紹

MiniLab系列柔性薄膜實驗設備

由于是模塊內(nèi)置型，因此可以根據(jù)所需的薄膜類型和工藝組裝專用機器。

一種靈活的小型實驗裝置，可用于多種目的。

MiniLab研發(fā)實驗設備系列結合了各種選項中最少的必要和的模塊來滿足您的需求。我可以?？梢砸约床寮从玫姆绞皆O計和組裝大量組件選項和模塊化控制單元，從而實現(xiàn)廣泛的應用和在各種研發(fā)開發(fā)現(xiàn)場的使用。我們將根據(jù)您的目的和預算提出的系統(tǒng)配置。

特征

機身緊湊，節(jié)省空間的設計

極限真空：5x10-5 帕斯卡

靈活的系統(tǒng)，允許您按照所需的配置組合腔室、組件和控制器

操作簡單：專用控制軟件“IntelliDep"，直觀的操作讓任何人都可以操作。

配方控制（7英寸觸摸屏，或Windows PC操作）：最多可注冊50個膠片配方

ML-GB手套箱薄膜實驗設備

MiniLab-GB手套箱薄膜實驗設備

氣相沉積、濺射和退火等操作可以在手套箱內(nèi)無縫執(zhí)行。

MiniLab-026和MiniLab-090的室與手套箱工作臺相連，控制架存放在工作臺下方。一種薄膜實驗裝置，設計用于與手套箱連接。是將濺射、真空蒸鍍等成膜設備與手套箱安裝區(qū)域融為一體的節(jié)省空間的裝置。

在OLED（有機EL）、OPV（有機薄膜太陽能電池）、OTFT（有機薄膜太陽能電池）、石墨烯、TMD（過渡金屬二硫化物）等2D材料的沉積過程中，與氧氣和濕氣隔離. 樣品應在惰性氣體氣氛中處理。

MiniLab-026/00-GB通過將PVD處理室容納在GB內(nèi)，在緊湊且節(jié)省空間的環(huán)境中實現(xiàn)了有機薄膜實驗的“無氧和水"環(huán)境。

特征

節(jié)省空間。沉積設備適合手套箱主體的尺寸。

成膜后的樣品不暴露在大氣中，可以在工作臺受控氣氛下進行處理。

PVD成膜、旋涂、熱板烘烤等一系列操作可以在GB內(nèi)無縫進行，無需暴露在外部空氣中。

nanoCVD-WGP晶圓級石墨烯合成裝置

晶圓級石墨烯合成器

晶圓尺寸兼容的熱 CVD/等離子體 CVD 設備

基材尺寸：Φ3英寸或Φ4英寸

nanoCVD-WG“CVD法"（化學氣相沉積）

CVD法是一種已經(jīng)確立的多用途且穩(wěn)定的技術，也是考慮未來大規(guī)模合成石墨烯和CNT時最現(xiàn)實的方法。我來了。開發(fā)商Moorfield Nanotechnology與英國國家研究院合作多次驗證了這款沉積測試設備。在研究機構的合作下，利用拉曼光譜、SEM、AFM等，已經(jīng)驗證可以從分析數(shù)據(jù)創(chuàng)建高質(zhì)量的石墨烯和CNT樣品。

nanoCVD-WPG“等離子體增強 CVD"

反應速度快，雜質(zhì)被抑制。它是一種高速、高通量等離子體輔助清潔高質(zhì)量石墨烯的CVD合成方法。

特征

緊湊型設計：590（寬）x 590（深）x 1050（高）mm

Φ3英寸或Φ4英寸晶圓級石墨烯合成

13.56MHz射頻150W等離子電源（標配）

基板加熱階段Max1100℃

冷壁法熱CVD

全自動PLC自動順序控制

用戶友好的 7" 觸摸屏人機界面

多種沉積配方注冊/手動/自動操作

納米爐熱CVD設備

緊湊尺寸熱壁熱CVD

基材尺寸：Φ2.5英寸或Φ4英寸

納米爐模型。

[熱壁熱CVD設備]適合基礎研究的小型高性能CVD設備

石墨烯、碳納米管

氧化鋅納米線

SiO2等絕緣膜

此外，它還可作為熱壁熱 CVD 系統(tǒng)用于廣泛的應用。