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紅外金像爐RHL-E系列ADVANCE理工紅外燈加熱器

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產(chǎn)品介紹

紅外金像爐RHL-E/VHT/P系列

我們用紅外燈加熱來滿足客戶的需求。
應(yīng)用于各種尺寸加熱物體的研發(fā)、生產(chǎn)設(shè)備等各個(gè)領(lǐng)域。

用法

太陽能電池、CIGS、CZTS 退火

SiC功率器件的退火

金屬材料的淬火和退火

陶瓷材料的熱沖擊試驗(yàn)

釬焊熱處理

催化劑加熱爐（氣體分析）

特征

E型：具有橢圓形反射面，通過將光線聚光至焦點(diǎn)（線聚光），可實(shí)現(xiàn)高溫高速加熱。

VHT型：橢圓反射面的超高溫型。可加熱至 1800°C

P型：具有拋物面反射面，平行光可大面積均勻加熱。

紅外金像爐Ps、Pss系列

它可用于廣泛的領(lǐng)域，包括碳納米管生成設(shè)備和生產(chǎn)設(shè)備。
平板輻射紅外加熱爐可用于φ2in至φ300mm晶圓退火系統(tǒng)及生產(chǎn)燒成爐。

用法

大型玻璃基板（太陽能電池、FPD等）的加熱

半導(dǎo)體晶圓的高溫高速加熱

薄鋼板熱處理

特征

Ps型的反射面寬度為40mm，Pss型的反射面寬度為20mm，可實(shí)現(xiàn)高密度的燈配置。

Ps型和Pss型都可以通過增加反射面的數(shù)量來加熱大面積。

可編程溫度控制器TPC-5000系列

可以準(zhǔn)確處理高速加熱的溫度控制器。
這是一款可編程溫度控制器，不僅可以用于紅外線金像爐，在高速加熱時(shí)需要快速響應(yīng)，還可以用于低速加熱爐。
我們以緊湊的包裝提供高功能和高性能，并以低價(jià)提供范圍廣泛的配件。

用法

需要高速加熱的加熱爐，如紅外線金像爐等。

特征

高速采樣 (50 ms) 可輕松控制 100°C/s 或更高的加熱速率。

兼容的熱電偶包括 JIS、K、S、B、R、E、J、T 和 W，以及鉑電阻、電流輸入和電壓輸入控制。

可設(shè)定256步程序

8個(gè)輸入口，5個(gè)輸出口，接口繼電器），可支持閥門開閉等多種功能（僅限擴(kuò)展型）

配備30A、60A、120A控制電路，支持多種加熱爐

高度 157mm x 寬度 250mm x 長(zhǎng)度 380mm 的緊湊尺寸

程序輸入允許使用隨附的軟件（通過 USB 端口連接）從您的 PC 進(jìn)行溫度程序設(shè)置和外部信號(hào)輸入

紅外燈退火設(shè)備RTA系列

10秒到目標(biāo)溫度！
我們的紅外燈加熱具有高能量密度、近紅外線、高熱響應(yīng)性、溫度可控性和真空清潔加熱?？商幚?/span> 2 英寸（50 毫米）至 12 英寸（300 毫米）晶圓的產(chǎn)品陣容。我們將根據(jù)客戶要求的熱處理配方（加熱/冷卻）和氣氛（真空和氣體）以及 RTA 系列來滿足客戶的需求。

用法

離子注入后活化退火

氧化膜形成退火

歐姆電極的合金化

PZT、SBT等鐵電薄膜的晶化退火

硅片的donor killer處理

硅化物形成、硅化物形成

發(fā)光器件和半導(dǎo)體激光器基板的熱處理

超淺結(jié)形成

鐵電電容器的沉積

柵極氧化膜形成

特征

加熱速度可達(dá) 200°C/s

兼容 C to C 機(jī)器人運(yùn)輸系統(tǒng)

可連接到半導(dǎo)體制造設(shè)備

可浸泡多張紙的燈的區(qū)域輸出控制

紅外燈加熱器RTP-6

可以低成本進(jìn)行80℃/s的高速退火。
本設(shè)備是一種紅外線燈設(shè)備，以拋物面反射紅外線燈對(duì)4-6英寸尺寸的晶圓進(jìn)行均勻加熱。可以進(jìn)行高速熱處理，可以很容易地用作熱處理工藝研究和開發(fā)的裝置。個(gè)別半導(dǎo)體工藝的硅化物形成和氧化膜形成，以及化合物半導(dǎo)體的工藝退火是可能的。

特征

可進(jìn)行高速熱處理

采用水冷式金屬室型冷壁結(jié)構(gòu)，可實(shí)現(xiàn)高速冷卻。

真空置換后的氣體流動(dòng)也是可能的

溫度程序設(shè)置和外部信號(hào)輸入可以從您的個(gè)人計(jì)算機(jī)輕松執(zhí)行。

加熱過程中的溫度數(shù)據(jù)可以顯示在個(gè)人電腦上。

可以連接石英防粘板以防止腔室內(nèi)部受到污染（可選）

9 區(qū)輸出控制可實(shí)現(xiàn)出色的溫度分布和再現(xiàn)性

臺(tái)燈加熱裝置MILA-5050

本裝置為臺(tái)燈加熱裝置，可對(duì)50平方毫米的試件進(jìn)行熱處理。
自從 MILA-5000 系列桌面燈加熱器作為 20 平方毫米樣品的加熱設(shè)備發(fā)布以來，許多客戶一直在定期使用它。因此，我們可以在保持 50 平方毫米的熱處理的同時(shí)進(jìn)行熱處理集加熱爐、腔體、溫控器于一體的緊湊型機(jī)身。

用法

光CVD基板加熱等電子材料的高速加熱

玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理。

熱循環(huán)試驗(yàn)

金屬材料退火

涂膜耐熱性評(píng)價(jià)

有機(jī)材料和樹脂的加熱和干燥

特征

熱處理可以達(dá)到 50 平方毫米的樣品尺寸。

溫度1200℃

一種桌面加熱裝置，集紅外高速加熱和冷卻金像爐、加熱室、溫控儀于一體。

溫度程序設(shè)置和外部信號(hào)輸入可以從您的個(gè)人計(jì)算機(jī)輕松執(zhí)行。