當前位置:北京西潤斯儀器儀表有限公司>> XRS11-WGL-2半導體激光原理實驗裝置
產(chǎn)地 | 國產(chǎn) | 加工定制 | 否 |
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適用行業(yè) | 其他 | 氦氖激光器 | 632.8nm |
半導體泵浦激光原理實驗裝置/半導體激光原理實驗裝置 型號:XRS11-WGL-2
儀器簡介
適用于大學近代物理教學中非線性光學實驗,本實驗以808nm半導體泵浦Nd:YVO4激光器為研究對象,讓學生自己動手,調整激光器光路,產(chǎn)生1064nm激光。在腔中插入KPT警惕產(chǎn)生532nm倍頻光,觀察倍頻現(xiàn)象,測量倍頻效率,相位匹配角等基本參數(shù)。從而對激光原理及激光技術有一定了解。
實驗原理同HAD1WGL-1型半導體泵浦激光原理實驗裝置,泵浦激光源強度連續(xù)可調,指示光源He-Ne激光器。
儀器參數(shù)
光學導軌,二維調節(jié)架,四維調節(jié)架
泵浦光源 808nm半導體激光器
指示光源 650nm半導體激光器
晶體 KPT Nd:YVO4
輸出鏡及濾光片
激光功率計指示
儀器介紹
WGL-2適用于大學近代物理教學中非線性光學實驗,本實驗以808nm半導體泵浦Nd:YVO4激光器為研究對象,讓學生自己動手,調整激光器光路。在諧振腔中插入KTP晶體產(chǎn)生532nm倍頻光,觀察倍頻現(xiàn)象,測量相位匹配角,閾值等基本參數(shù)。從而對激光原理及激光技術有一定的了解。
編號 | 名稱 | 規(guī)格 | 件數(shù) |
1 | 導軌主體 | 長1m,硬鋁型材 | 1 |
2 | 808半導體激光器 | 連續(xù)輸出功率:500mW,中心波長:808±10nm, 偏振態(tài):TE | 1 |
3 | 氦氖激光器 | 632.8nm,功率≤1mW | 1 |
4 | 紅外顯示卡 | 可觀察0.7~1.6μm的近紅外光 | 1 |
5 | KTP晶體 | 透過波段:0.35~4.5μm,電光系數(shù):γ33=36Pm/V | 1 |
6 | Nd:YVO4晶體 | 摻Nd3+濃度0.1~3.0 atm%,平面度<λ/10@632.8nm 鍍膜:AR@1064nm,R<0.1%,HT@808nm,T>90% | 1 |
7 | 光學元件 | 輸出鏡(R=50mm),濾光片 | 各1 |
8 | 光功率測試儀 | 2μW、20μW、200μW、2mW、 20mW、200mW六檔功率范圍3位半數(shù)字顯示器 | 1 |
9 | 其他 | 光源架,四維調節(jié)架,二維調節(jié)架,光靶 |
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