【儀表網(wǎng) 工程快訊】X射線光電子能譜儀采購項(xiàng)目 招標(biāo)項(xiàng)目的潛在投標(biāo)人應(yīng)在北京市西城區(qū)廣安門外大街248號機(jī)械大廈1401室；獲取招標(biāo)文件，并于2021-08-19 09:30(北京時間)前遞交投標(biāo)文件。
X-射線光電子能譜儀，是一種表面分析技術(shù)，主要用來表征材料表面元素及其化學(xué)狀態(tài)。其基本原理是使用X-射線，如Al Ka =1486.6eV，與樣品表面相互作用，利用光電效應(yīng)，激發(fā)樣品表面發(fā)射光電子，利用能量分析器，測量光電子動能(K.E)，根據(jù)B.E=hv-K.E-W.F，進(jìn)而得到激發(fā)電子的結(jié)合能(B.E)。
主要用途
XPS：固體樣品的表面組成分析，化學(xué)狀態(tài)分析，取樣訊息深度為～10nm以內(nèi). 功能包括:
1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊。
2. 維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學(xué)態(tài)的深度分析(角分辨方式,,氬離子或團(tuán)簇離子刻蝕方式)
3. 線掃描或面掃描以得到線或面上的元素或化學(xué)態(tài)分布。
4. 成像功能。
5. 可進(jìn)行樣品的原位處理 AES：1.可進(jìn)行樣品表面的微區(qū)選點(diǎn)分析(包括點(diǎn)分析，線分析和面分析) 2.可進(jìn)行深度分析適合： 納米薄膜材料，微電子材料，催化劑，摩擦化學(xué)，高分子材料的表面和界面研究
項(xiàng)目基本情況
項(xiàng)目編號：JBZC2021_014222_302-JH0092-XM001
項(xiàng)目名稱：X射線光電子能譜儀采購項(xiàng)目
預(yù)算金額：380 萬元(人民幣)
采購需求：
獲取招標(biāo)文件
時間：2021-07-29 至 2021-08-05 ，每天上午09:00至12:00，下午12:00至17:00(北京時間，法定節(jié)假日除外)
地點(diǎn)：北京市西城區(qū)廣安門外大街248號機(jī)械大廈1401室；
方式：
獲取招標(biāo)文件需要提供法人代表授權(quán)委托書原件；
售價：￥300 元，本公告包含的招標(biāo)文件售價總和
提交投標(biāo)文件截止時間、開標(biāo)時間和地點(diǎn)
2021-08-19 09:30(北京時間)
地點(diǎn)：北京市西城區(qū)廣安門外大街248號機(jī)械大廈618會議室。
所有評論僅代表網(wǎng)友意見，與本站立場無關(guān)。