【儀表網(wǎng) 儀表產(chǎn)業(yè)】芯片制造所需的光刻機一直以來被荷蘭ASML公司壟斷，一臺精密光刻機售價上百億，而我國半導(dǎo)體行業(yè)起步較晚，光刻機技術(shù)與ASML的差距非常大。
 

　　ASML在7nm級別，而大族激光僅為μm級別(1μm是1000nm)。因為光刻機每上一個臺階技術(shù)難度就會大大增加，可能從90nm升級到65nm并不難，但是從65nm升級到45nm，就是一個技術(shù)節(jié)點了，上升到7nm更是難上加難。
 

　　光刻機是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。而光刻機是中國芯片發(fā)展的大障礙。據(jù)有關(guān)媒體報道，光刻機正成為華為的第四場戰(zhàn)役。據(jù)悉，余承東在一次百人大會上的時候透露過，早在四年前，華為就已經(jīng)為接下來集團的布局做好準(zhǔn)備了，他們在2016年的時候就已經(jīng)成立了團隊去研發(fā)光刻機，現(xiàn)在已經(jīng)取得了很大的進展。
 

　　大族激光8月10日在互動平臺表示，公司在研光刻機項目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的應(yīng)用，目前已接到少量訂單。
 

　　光刻機的品牌眾多，根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類：的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，光刻機號稱世界上精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。光刻機堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，*世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。
 

　　國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的光刻機)和日本Canon三*品牌為主。位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機，形成產(chǎn)品系列初步實現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。
 

　　生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。