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摘要力爭(zhēng)到2030年取得10項(xiàng)以上光芯片領(lǐng)域關(guān)鍵核心技術(shù)突破,打造10個(gè)以上“拳頭”產(chǎn)品,培育10家以上具有國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的一流領(lǐng)軍企業(yè),建設(shè)10個(gè)左右國(guó)家和省級(jí)創(chuàng)新平臺(tái),培育形成新的千億級(jí)產(chǎn)業(yè)集群。

  【儀表網(wǎng) 行業(yè)政策】近日,廣東省人民政府辦公廳印發(fā)《廣東省加快推動(dòng)光芯片產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展行動(dòng)方案(2024—2030年)》(下稱(chēng)《方案》),圍繞重點(diǎn)任務(wù)、重點(diǎn)工程、保障措施三方面,制定了廣東省光芯片產(chǎn)業(yè)未來(lái)6年發(fā)展的行動(dòng)方案。
 
  《方案》涵蓋突破產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù);加快中試轉(zhuǎn)化進(jìn)程;建設(shè)創(chuàng)新平臺(tái)體系;推動(dòng)產(chǎn)業(yè)集聚發(fā)展;大力培育領(lǐng)軍企業(yè);加強(qiáng)合作協(xié)同創(chuàng)新;關(guān)鍵材料裝備攻關(guān)工程;產(chǎn)業(yè)強(qiáng)鏈補(bǔ)鏈建設(shè)工程;核心產(chǎn)品示范應(yīng)用工程;前沿技術(shù)產(chǎn)業(yè)培育工程等多方面具體工作。
 
  《方案》明確,力爭(zhēng)到2030年取得10項(xiàng)以上光芯片領(lǐng)域關(guān)鍵核心技術(shù)突破,打造10個(gè)以上“拳頭”產(chǎn)品,培育10家以上具有國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的一流領(lǐng)軍企業(yè),建設(shè)10個(gè)左右國(guó)家和省級(jí)創(chuàng)新平臺(tái),培育形成新的千億級(jí)產(chǎn)業(yè)集群,建設(shè)成為具有全球影響力的光芯片產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新高地。
 
  在重點(diǎn)任務(wù)方面,要加快突破產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)。強(qiáng)化光芯片基礎(chǔ)研究和原始創(chuàng)新能力。鼓勵(lì)有條件的企業(yè)、高校、科研院所等圍繞單片集成、光子計(jì)算、超高速光子網(wǎng)絡(luò)、柔性光子芯片、片上光學(xué)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)等未來(lái)前沿科學(xué)問(wèn)題開(kāi)展基礎(chǔ)研究。支持科技領(lǐng)軍企業(yè)、高校、科研院所積極承擔(dān)國(guó)家級(jí)光芯片相關(guān)重大攻關(guān)任務(wù),形成一批硬核成果。
 
  省重點(diǎn)領(lǐng)域研發(fā)計(jì)劃支持光芯片技術(shù)攻關(guān)。加大對(duì)高速光通信芯片、高性能光傳感芯片、通感融合芯片、薄膜鈮酸鋰材料、磷化銦襯底材料、有機(jī)半導(dǎo)體材料、硅光集成技術(shù)、柔性集成技術(shù)、磊晶生長(zhǎng)和外延工藝、核心半導(dǎo)體設(shè)備等方向的研發(fā)投入力度,著力解決產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈的“卡點(diǎn)”“堵點(diǎn)”問(wèn)題。
 
  加大“強(qiáng)芯”工程對(duì)光芯片的支持力度。擴(kuò)大省級(jí)科技創(chuàng)新戰(zhàn)略專(zhuān)項(xiàng)、制造業(yè)當(dāng)家重點(diǎn)任務(wù)保障專(zhuān)項(xiàng)等支持范圍,將面向集成電路產(chǎn)業(yè)底層算法和架構(gòu)技術(shù)的研發(fā)補(bǔ)貼、量產(chǎn)前首輪流片獎(jiǎng)補(bǔ)等產(chǎn)業(yè)政策,擴(kuò)展至光芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化軟件(PDA工具)、硅光MPW流片等領(lǐng)域,強(qiáng)化光芯片領(lǐng)域產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。
 
  加快中試轉(zhuǎn)化進(jìn)程。加快建設(shè)一批概念驗(yàn)證中心、研發(fā)先導(dǎo)線(xiàn)和中試線(xiàn)。支持企業(yè)、高校、科研院所等圍繞高速光通信芯片、高性能光傳感芯片、紅外光傳感芯片、高性能通感融合芯片、薄膜鈮酸鋰、化合物半導(dǎo)體、硅基(異質(zhì)異構(gòu))集成、光電混合集成等領(lǐng)域,建設(shè)概念驗(yàn)證中心、研發(fā)先導(dǎo)線(xiàn)和中試線(xiàn),加快科技成果轉(zhuǎn)化進(jìn)程。
 
  支持中試平臺(tái)積極發(fā)揮效能。支持中試平臺(tái)圍繞光芯片相關(guān)領(lǐng)域,向中小企業(yè)提供原型制造、質(zhì)量性能檢測(cè)、小批量試生產(chǎn)、工藝放大熟化等系列服務(wù),推動(dòng)新技術(shù)、新產(chǎn)品加快熟化。鼓勵(lì)綜合性專(zhuān)業(yè)化中試平臺(tái)為光芯片領(lǐng)域首臺(tái)套裝備、首批次新材料等提供驗(yàn)證服務(wù),符合條件的依法依規(guī)給予一定政策和資金支持。
 
  鼓勵(lì)中試平臺(tái)孵化更多創(chuàng)新企業(yè)。鼓勵(lì)中試平臺(tái)搭建眾創(chuàng)空間、孵化器、加速器等各類(lèi)孵化載體,并通過(guò)許可、出售等方式將成熟技術(shù)成果轉(zhuǎn)讓給企業(yè),或?qū)⒉糠殖晒ㄟ^(guò)設(shè)立子公司的方式實(shí)現(xiàn)商業(yè)化,孵化培養(yǎng)更多光芯片領(lǐng)域新物種企業(yè)。
 
  在關(guān)鍵材料裝備攻關(guān)工程方面:加快開(kāi)展光芯片關(guān)鍵材料研發(fā)攻關(guān)。大力支持硅光材料、化合物半導(dǎo)體、薄膜鈮酸鋰、氧化鎵薄膜、電光聚合物、柔性基底材料、超表面材料、光學(xué)傳感材料、電光拓?fù)湎嘧儾牧?、光刻膠、石英晶體等光芯片關(guān)鍵材料研發(fā)制造。
 
  推進(jìn)光芯片關(guān)鍵裝備研發(fā)制造。大力推動(dòng)刻蝕機(jī)、鍵合機(jī)、外延生長(zhǎng)設(shè)備及光矢量參數(shù)網(wǎng)絡(luò)測(cè)試儀等光芯片關(guān)鍵裝備研發(fā)和國(guó)產(chǎn)化替代。落實(shí)工業(yè)設(shè)備更新改造政策,加快光芯片關(guān)鍵設(shè)備更新升級(jí)。
 
  支持光芯片相關(guān)部件和工藝的研發(fā)及優(yōu)化。大力支持收發(fā)模塊、調(diào)制器、可重構(gòu)光神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)推理器、PLC分路器、AWG光柵等光器件及光模塊核心部件的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。支持硅光集成、異質(zhì)集成、磊晶生長(zhǎng)和外延工藝、制造工藝等光芯片相關(guān)制造工藝研發(fā)和持續(xù)優(yōu)化。
 
  在核心產(chǎn)品示范應(yīng)用工程方面:加強(qiáng)光芯片產(chǎn)品示范應(yīng)用。大力支持光芯片在新一代信息通信、數(shù)據(jù)中心、智算中心、生物醫(yī)藥、智能網(wǎng)聯(lián)汽車(chē)等產(chǎn)業(yè)的場(chǎng)景示范和產(chǎn)品應(yīng)用。培育更多應(yīng)用場(chǎng)景,加大光芯片產(chǎn)品在信息傳輸、探測(cè)、傳感等領(lǐng)域的應(yīng)用,推動(dòng)相關(guān)領(lǐng)域半導(dǎo)體產(chǎn)品升級(jí)換代。
 
  在前沿技術(shù)產(chǎn)業(yè)培育工程方面:圍繞光芯片前沿理論和技術(shù)問(wèn)題開(kāi)展基礎(chǔ)攻關(guān)和研發(fā)布局。支持企業(yè)、高校、研究機(jī)構(gòu)等圍繞光神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)芯片、光量子芯片、超靈敏光傳感探測(cè)芯片、光電異質(zhì)異構(gòu)混合集成芯片、微腔光電子芯片、冪次增長(zhǎng)算力光芯片等技術(shù)領(lǐng)域研發(fā)布局,努力實(shí)現(xiàn)原理性突破、原始性技術(shù)積累和開(kāi)創(chuàng)性突破。

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