【儀表網(wǎng) 儀表文件】3月23日，國家稅務(wù)總局發(fā)布《研發(fā)機(jī)構(gòu)采購國產(chǎn)設(shè)備增值稅退稅管理辦法》(下稱《辦法》)公告，明確自2019年1月1日至2020年12月31日，繼續(xù)對研發(fā)機(jī)構(gòu)(包括內(nèi)資研發(fā)機(jī)構(gòu)和外資研發(fā)中心)采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅。
 

　　根據(jù)《辦法》第三條稱“研發(fā)機(jī)構(gòu)”、“國產(chǎn)設(shè)備”的具體條件和范圍，按照91號公告規(guī)定執(zhí)行。根據(jù)91號公告，“研發(fā)機(jī)構(gòu)”包含10大類，“國產(chǎn)設(shè)備”包含33大類，具體如下：
 

　　33類“國產(chǎn)設(shè)備”
 

　　科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備，是指符合《中華人民共和國增值稅暫行條例實(shí)施細(xì)則》(財政部 國家稅務(wù)總局令第50號)第二十一條“固定資產(chǎn)”的相關(guān)規(guī)定，為科學(xué)研究、教學(xué)和科技開發(fā)提供必要條件的實(shí)驗(yàn)設(shè)備、裝置和器械(不包括中試設(shè)備)。具體包括以下四類：
 

　　一、實(shí)驗(yàn)環(huán)境方面
 

　　(一)教學(xué)實(shí)驗(yàn)儀器及裝置；
 

　　(二)教學(xué)示教、演示儀器及裝置；
 

　　(三)超凈設(shè)備(如換氣、滅菌、純水、凈化設(shè)備等)；
 

　　(四)特殊實(shí)驗(yàn)環(huán)境設(shè)備(如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強(qiáng)腐蝕設(shè)備等)；
 

　　(五)特殊電源、光源設(shè)備；
 

　　(六)清洗循環(huán)設(shè)備；
 

　　(七)恒溫設(shè)備(如水浴、恒溫箱、滅菌儀等)；
 

　　(八)小型粉碎、研磨制備設(shè)備。
 

　　二、樣品制備設(shè)備和裝置
 

　　(一)特種泵類(如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動泵、蝸輪泵、干泵等)；
 

　　(二)培養(yǎng)設(shè)備(如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等)；
 

　　(三)微量取樣設(shè)備(如取樣器、精密天平等)；
 

　　(四)分離、純化、濃縮設(shè)備(如離心機(jī)、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設(shè)備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等)；
 

　　(五)氣體、液體、固體混合設(shè)備(如旋渦混合器等)；
 

　　(六)制氣設(shè)備、氣體壓縮設(shè)備；
 

　　(七)專用制樣設(shè)備(如切片機(jī)、壓片機(jī)、鍍膜機(jī)、減薄儀、拋光機(jī)等)，實(shí)驗(yàn)用注射、擠出、造粒、膜壓設(shè)備，實(shí)驗(yàn)室樣品前處理設(shè)備。
 

　　三、實(shí)驗(yàn)室專用設(shè)備
 

　　(一)特殊照相和攝影設(shè)備(如水下、高空、高溫、低溫等)；
 

　　(二)科研飛機(jī)、船舶用關(guān)鍵設(shè)備；
 

　　(三)特種數(shù)據(jù)記錄設(shè)備(如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機(jī)、光盤機(jī)等)；
 

　　(四)材料科學(xué)專用設(shè)備(如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設(shè)備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴(kuò)散爐、濺射儀、離子刻蝕機(jī)，材料實(shí)驗(yàn)機(jī)等)，可靠性試驗(yàn)設(shè)備，微電子加工設(shè)備，通信模擬仿真設(shè)備，通信環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備；
 

　　(五)小型熔煉設(shè)備(如真空、粉末、電渣等)，特殊焊接設(shè)備；
 

　　(六)小型染整、紡絲試驗(yàn)專用設(shè)備；
 

　　(七)電生理設(shè)備。
 

　　四、計算機(jī)工作站，中型、大型計算機(jī)。
 

　　10類“研發(fā)機(jī)構(gòu)”
 

　　一、適用采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅政策的內(nèi)資研發(fā)機(jī)構(gòu)和外資研發(fā)中心包括：
 

　　(一)科技部會同財政部、海關(guān)總署和稅務(wù)總局核定的科技體制改革過程中轉(zhuǎn)制為企業(yè)和進(jìn)入企業(yè)的主要從事科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)工作的機(jī)構(gòu)；
 

　　(二)國家發(fā)展改革委會同財政部、海關(guān)總署和稅務(wù)總局核定的國家工程研究中心；
 

　　(三)國家發(fā)展改革委會同財政部、海關(guān)總署、稅務(wù)總局和科技部核定的企業(yè)技術(shù)中心；
 

　　(四)科技部會同財政部、海關(guān)總署和稅務(wù)總局核定的國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室(含企業(yè)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室)和國家工程技術(shù)研究中心；
 

　　(五)科技部核定的國務(wù)院部委、直屬機(jī)構(gòu)所屬從事科學(xué)研究工作的各類科研院所，以及各省、自治區(qū)、直轄市、計劃單列市科技主管部門核定的本級政府所屬從事科學(xué)研究工作的各類科研院所；
 

　　(六)科技部會同民政部核定或者各省、自治區(qū)、直轄市、計劃單列市及新疆生產(chǎn)建設(shè)兵團(tuán)科技主管部門會同同級民政部門核定的科技類民辦非企業(yè)單位；
 

　　(七)工業(yè)和信息化部會同財政部、海關(guān)總署、稅務(wù)總局核定的國家中小企業(yè)公共服務(wù)示范平臺(技術(shù)類)；
 

　　(八)國家承認(rèn)學(xué)歷的實(shí)施專科及以上高等學(xué)歷教育的高等學(xué)校(以教育部門戶網(wǎng)站公布名單為準(zhǔn))；
 

　　(九)符合本公告第二條規(guī)定的外資研發(fā)中心；
 

　　(十)財政部會同國務(wù)院有關(guān)部門核定的其他科學(xué)研究機(jī)構(gòu)、技術(shù)開發(fā)機(jī)構(gòu)和學(xué)校。
 

　　二、外資研發(fā)中心，根據(jù)其設(shè)立時間，應(yīng)分別滿足下列條件：
 

　　(一)2009年9月30日及其之前設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：
 

　　1.研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn)：(1)對外資研發(fā)中心，作為獨(dú)立法人的，其投資總額不低于500萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的非獨(dú)立法人的，其研發(fā)總投入不低于500萬美元；(2)企業(yè)研發(fā)經(jīng)費(fèi)年支出額不低于1000萬元。
 

　　2.專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于90人。
 

　　3.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于1000萬元。
 

　　(二)2009年10月1日及其之后設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：
 

　　1.研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn)：作為獨(dú)立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的非獨(dú)立法人的，其研發(fā)總投入不低于800萬美元。
 

　　2.專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于150人。
 

　　3.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于2000萬元。
 

　　外資研發(fā)中心須經(jīng)商務(wù)主管部門會同有關(guān)部門按照上述條件進(jìn)行資格審核認(rèn)定。具體審核認(rèn)定辦法見附件1。在2018年12月31日(含)以前，初次取得退稅資格或通過資格復(fù)審未滿2年的，可繼續(xù)享受至2年期滿。
 

　　三、經(jīng)核定的內(nèi)資研發(fā)機(jī)構(gòu)、外資研發(fā)中心，發(fā)生重大涉稅違法失信行為的，不得享受退稅政策。具體退稅管理辦法由稅務(wù)總局會同財政部另行制定。相關(guān)研發(fā)機(jī)構(gòu)的牽頭核定部門應(yīng)及時將內(nèi)資研發(fā)機(jī)構(gòu)、外資研發(fā)中心的新設(shè)、變更及撤銷名單函告同級稅務(wù)部門，并注明相關(guān)資質(zhì)起止時間。
 

　　資料來源：稅務(wù)總局