【儀表網(wǎng) 研發(fā)快訊】近期，中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所高端光電裝備部研究團(tuán)隊在基于功率譜密度分析的干涉測試絕對檢測方法研究方面取得進(jìn)展。相關(guān)研究成果以“Improving the Accuracy of Interferometer Testing with Absolute Surface Calibration and Power Spectral Density Analysis”為題發(fā)表于Optics and Lasers in Engineering。
 

　　高精度光學(xué)元件已經(jīng)充分應(yīng)用于激光技術(shù)、光學(xué)通信、醫(yī)學(xué)影像、天文學(xué)和空間探測、半導(dǎo)體制造和科學(xué)研究等領(lǐng)域。使用干涉儀是目前高精度光學(xué)檢測的主要方法。為了實現(xiàn)測試元件的高精度檢測，必須控制參考元件的表面絕對誤差，所以相關(guān)的絕對檢測技術(shù)也應(yīng)運(yùn)而生。
 

　　本項工作中，研究團(tuán)隊建立了一種基于功率譜密度分析的干涉測試絕對檢測方法。利用該方法，通過對測試信號的分析得到元件在不同旋轉(zhuǎn)角度下的不同頻率信號損失量并進(jìn)行分析，從而得到保留所有信號的旋轉(zhuǎn)角度數(shù)據(jù)，進(jìn)而指導(dǎo)試驗過程。此外，研究團(tuán)隊建立了通過功率譜密度創(chuàng)建隨機(jī)面形從而對檢測算法進(jìn)行評估的方法，基于該方式，上述絕對檢測方法測試過程中的精度超過0.28%。同時對試驗過程中元件裝夾、位置偏離和環(huán)境擾動帶來的誤差進(jìn)行了標(biāo)定，最終使用高精度的平面鏡對絕對檢測試驗結(jié)果進(jìn)行了驗證。其中，試驗結(jié)果RMS=4.275nm、標(biāo)定結(jié)果RMS=4.874nm，面形分布基本一致，證明了上述方式的可行性。該研究在高精度光學(xué)元件檢測過程中有重要意義。
 

圖.1層數(shù)據(jù)記錄和讀出結(jié)果圖(其中，不同的顏色代表了不同的存儲深度)