国产精品成人网站,日韩视频二区,亚洲成人手机电影,怡红院国产

搜全站

13926558058

深圳市科銳詩汀科技有限公司
中級會員 | 第16年
淺析質(zhì)譜分析儀使用知識2013/09/23
質(zhì)譜分析儀用于監(jiān)測復(fù)雜過程的四極氣體分析系統(tǒng)。允許7天24小時連續(xù)監(jiān)測,達(dá)到zui大的產(chǎn)額和產(chǎn)量,從而將成本降至zui低。足夠的小型和性能,可安裝在壓強(qiáng)很高的真空室內(nèi)。HexBlock取樣系統(tǒng)的*性能。內(nèi)置CDG,用于過程壓強(qiáng)監(jiān)測和真空聯(lián)鎖。備有可選的校準(zhǔn)參考源,用于調(diào)諧和氣體參。封閉的長壽命離子源可在阻擋大多數(shù)腐蝕性和反應(yīng)性氣體的同時,檢測亞ppm量級的污染物。重量輕,易搬運(yùn)。質(zhì)譜分析儀以離子源、質(zhì)量分析器和離子檢測器為核心。離子源是使試樣分子在高真空條件下離子化的裝置。電離后的分子因接受了過
質(zhì)量流量計(jì)的應(yīng)用2013/09/16
什么是質(zhì)量流量計(jì)（MFC）?質(zhì)量流量計(jì)，即MassFlowMeter（縮寫為MFM）,是一種測量氣體流量的儀表，其測量值不因溫度或壓力的波動而失準(zhǔn)，不需要溫度壓力補(bǔ)償。質(zhì)量流量控制器,即MassFlowController（縮寫為MFC）,不但具有質(zhì)量流量計(jì)的功能，更重要的是，它能自動控制氣體流量，即用戶可根據(jù)需要進(jìn)行流量設(shè)定，MFC自動地將流量恒定在設(shè)定值上，即使系統(tǒng)壓力有波動或環(huán)境溫度有變化，也不會使其偏離設(shè)定值。簡單地說,質(zhì)量流量控制器就是一個穩(wěn)流裝置,是一個可以手動設(shè)定或與計(jì)算機(jī)聯(lián)接自動
真空測量儀的特點(diǎn)介紹2013/09/09
真空測量儀是新一代智能復(fù)合真空測量儀。采用單片微機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，真空度讀數(shù)數(shù)字顯示，測量結(jié)果直觀、明確、讀數(shù)方便。真空測量儀：電離規(guī)管的除氣可以自動或手動進(jìn)行。采用數(shù)據(jù)記憶電路，熱偶部分可在校準(zhǔn)時直接將與熱偶電勢相對應(yīng)的真空度數(shù)值，通過面板上的按鈕置人儀器內(nèi)部記憶單元。儀器可按有限個校準(zhǔn)點(diǎn)構(gòu)成的校準(zhǔn)曲線進(jìn)行真空度測量。電離部分則可以將電離規(guī)管的校準(zhǔn)系數(shù)置入儀器內(nèi)部記憶單元。測量時可以對讀數(shù)進(jìn)行修正，測量精度高。采用帶有反饋環(huán)節(jié)的D/A電路控制熱偶加熱電流的大小，熱偶加熱電流可以數(shù)字設(shè)定，簡單、方
真空濺射的應(yīng)用范圍2013/08/21
工業(yè)部門應(yīng)用實(shí)例備注電子工業(yè)半導(dǎo)體材料、電介質(zhì)材料、導(dǎo)電材料、超導(dǎo)材料、太陽能電池、集成線路及電路元件等低基片溫度機(jī)械工業(yè)耐蝕、耐熱、耐摩擦性能保護(hù)性材料等厚膜光學(xué)工業(yè)反射膜、選擇性透光膜、光集積回路、反射鏡保護(hù)膜低基片溫度裝飾塑料涂層、陶瓷涂層、彩虹包裝等厚膜航天及交通導(dǎo)電玻璃擋風(fēng)玻璃電子工業(yè)：半導(dǎo)體材料、電介質(zhì)材料、導(dǎo)電材料、超導(dǎo)材料、太陽能電池、集成線路及電路元件等。低基片溫度機(jī)械工業(yè)：耐蝕、耐熱、耐摩擦性能保護(hù)性材料等。厚膜光學(xué)工業(yè)：反射膜、選擇性透光膜、光集積回路、反射鏡保護(hù)膜。低基片
濺射薄膜的特點(diǎn)2013/08/21
膜厚可控性和重復(fù)性好控制靶電流可以控制膜厚通過濺射時間控制膜厚薄膜與基片的附著力強(qiáng)高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，形成一層偽擴(kuò)散層基片在成膜過程中始終在等離子區(qū)中被清洗和激活，清除了附著力不強(qiáng)的濺射原子，凈化且激活基片表面?？梢灾苽涮厥獠牧系谋∧た蔀R射幾乎所有的固體（包括粒狀、粉狀的物質(zhì)），不受熔點(diǎn)的限制。使用不同材料同時濺射制備混合膜、化合膜?？芍苽溲趸锝^緣膜和組分均勻的合金膜?？赏ㄈ敕磻?yīng)氣體，采用反應(yīng)濺射方法制備與靶材*不同的新的物質(zhì)膜。如用硅靶制作二氧化硅絕緣膜；用鈦靶，充入氮?dú)?
石英晶體膜厚控制儀知識小結(jié)2013/07/29
石英晶體膜厚控制儀的特點(diǎn)：1、標(biāo)準(zhǔn)RS-232和USB（有以太網(wǎng)選件）。2、貯存容量高至100個工藝過程，1，000個膜層，50個膜系。3、用單傳感器或多傳感器監(jiān)測源材料，提供的源分布監(jiān)測。4、高亮度，VGA活性點(diǎn)陣彩色LCD顯示器–可顯示英文或中文。5、易設(shè)置和操作，有“快速設(shè)置”菜單，6個上下文-敏感的按鈕，和方便的參數(shù)設(shè)定旋鈕。6、Window程序用于開發(fā)，測試，和下載工藝過程，和將儀器數(shù)據(jù)記錄至您的PC上，用于過程分析與質(zhì)量控制。7、的過程控制，尤其用于低淀積率，在10讀值／秒時的分辨率
壓電閥的發(fā)展歷程2013/07/24
閥作為液氣壓系統(tǒng)中的重要元件，實(shí)現(xiàn)對流體壓力、流量和流向的控制，直接影響著液氣壓系統(tǒng)的工作過程和工作性能。隨著液氣壓技術(shù)從傳統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域向空間、信息和生物醫(yī)學(xué)等新技術(shù)領(lǐng)域的不斷拓展，對液氣壓系統(tǒng)的尺寸、控制精度、響應(yīng)速度和可靠性等各個方面都提出了更高的要求。傳統(tǒng)的控制閥較難滿足這樣的要求，因此對于閥的革新成為了國內(nèi)外科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)的研究開發(fā)熱點(diǎn)。壓電閥zui早出現(xiàn)在20世紀(jì)90年代SIEMENS公司推出的SPIARTPS智能閥門定位器中。它利用壓電晶體的逆壓電效應(yīng)，在實(shí)際應(yīng)用當(dāng)中具有高抗震性、高可
質(zhì)量流量計(jì)的優(yōu)缺點(diǎn)2013/07/10
質(zhì)量流量計(jì)是一種直接而精密地測量流體質(zhì)量流量的新穎儀表，以結(jié)構(gòu)主體采用兩根并排的U形管，讓兩根管的回彎部分相向微微振動起來，則兩側(cè)的直管會跟著振動，即它們會同時靠攏或同時張開，即兩根管的振動是同步的，對稱的，如果在管子同步振動的同時，將流體導(dǎo)入管內(nèi)，使之沿管內(nèi)向前流動，則管子將強(qiáng)迫流體與之一起上下振動。這樣就直接測量了質(zhì)量流量質(zhì)量流量計(jì)優(yōu)點(diǎn)：高性價比。響應(yīng)速度快—小于2秒。的可靠性—使用一年以上，零點(diǎn)漂移小于滿量程的0.5%。易于集成—標(biāo)準(zhǔn)接頭和尺寸。出眾的效果—高品質(zhì)膜層與蝕刻特性。直接測量質(zhì)
氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用和原理2013/06/27
氦質(zhì)譜檢漏儀，是用氦氣為示漏氣體的專門用于檢漏的儀器。它具有性能穩(wěn)定、靈敏度高的特點(diǎn)。是真空檢漏技術(shù)中靈敏度zui高，使用zui普遍的檢漏儀器。氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用：元件檢漏的要求，靈活性測試，高靈敏度，快速于的結(jié)果，快速啟動，移動性和系統(tǒng)的可靠性。半導(dǎo)體工藝設(shè)備的維護(hù)，該設(shè)備本身帶或未帶有真空泵工藝氣體系統(tǒng)的檢測與安裝元器件在組裝前的漏率測試要求高抽速、高靈敏度以及清潔測試條件的應(yīng)用場合氦質(zhì)譜檢漏儀的原理：氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)質(zhì)譜學(xué)原理，用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。由離子源、分析器、收集
特點(diǎn)解析之隔膜真空泵2013/06/13
隔膜真空泵設(shè)計(jì)先進(jìn)，工作效率高，使用壽命長，是集高新技術(shù)于一體的換代產(chǎn)品。隔膜真空泵為蒸發(fā)、蒸餾、結(jié)晶、干燥、升華、過濾減壓、脫氣提供真空條件，以及溶媒回收、各種劇毒，易燃易爆、強(qiáng)酸、強(qiáng)堿抽取。除適用于循環(huán)水式真空泵和旋片式真空泵的適用場合外，還用于醫(yī)療醫(yī)藥產(chǎn)品分析、精細(xì)化工、生化制藥、食品檢驗(yàn)、*刑偵技術(shù)等領(lǐng)域，是為其精密色譜儀器配套的產(chǎn)品，也是實(shí)驗(yàn)室*的裝備之一。隔膜真空泵的極限壓強(qiáng)泵的極限壓強(qiáng)單位是Pa，是指泵在入口處裝有標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)罩并按規(guī)定條件工作，在不引入氣體正常工作的情況下，趨向穩(wěn)定的
真空鍍膜機(jī)原理2013/06/13
真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且zui終沉積在基片
真空開關(guān)測試儀的技術(shù)資料2013/05/29
真空開關(guān)測試儀又稱高壓開關(guān)機(jī)械特性測試儀，高壓開關(guān)測試儀，高壓開關(guān)特性測試儀，跟著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，人們對用電的安全可靠性要求越來越高，高壓斷路器在電力系統(tǒng)中擔(dān)負(fù)著控制和保護(hù)的雙重任務(wù)，其機(jī)能的優(yōu)劣直接關(guān)系到電力系統(tǒng)的安全運(yùn)行。機(jī)械特性參數(shù)是判定斷路器機(jī)能的重要參數(shù)之一。真空開關(guān)測試儀是我公司依據(jù)的《高壓交流斷路器》GB1984-2003為設(shè)計(jì)底本，參照中華人民共和國電力行業(yè)尺度《高電壓測試設(shè)備通用技術(shù)前提》第3部門，DL/T846.3-2004高壓開關(guān)綜合測試儀為設(shè)計(jì)依據(jù)，為進(jìn)行各類斷路器動態(tài)分
真空鍍膜機(jī)操作程序2013/05/02
真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。1、檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。2、打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。5、落下鐘罩。6、啟動抽真空機(jī)械泵。7、開復(fù)合真空計(jì)電源（復(fù)合真空計(jì)型號：Fzh-1A）。a.左旋鈕“1”順時針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱
鍍膜機(jī)分類2013/05/02
真空鍍膜機(jī)要分類有兩個大種類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：1、基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3、蒸發(fā)功率，速率4、真空度5、鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1、晶格匹配度2、基
真空度測試儀的原理2013/03/14
將滅弧室兩觸頭拉開一定的開距，施加脈沖高壓,將滅弧室置于螺線管線圈內(nèi)或?qū)⑿滦挺行途€圈置于滅弧室外側(cè)，向線圈通以大電流從而在滅弧室內(nèi)產(chǎn)生與高壓同步的脈沖磁場。這樣，在脈沖強(qiáng)磁場和強(qiáng)電場的作用下，滅弧室中的離子作螺旋運(yùn)動，并與殘余氣體分子發(fā)生碰撞電離，所產(chǎn)生的離子電流與殘余氣體密度即真空度近似成比例關(guān)系。對于不同的真空管型號（管型），由于其結(jié)構(gòu)不同，在同等觸頭開距、同等真空度、同等電場與磁場的條件下，離子電流的大小也不相同。通過實(shí)驗(yàn)可以標(biāo)定出各種管型的真空度與離子電流間的對應(yīng)關(guān)系曲線。當(dāng)測知離子電流
質(zhì)量流量計(jì)在化工行業(yè)中的應(yīng)用2013/02/28
質(zhì)量流量計(jì)于單一組分的氣體或固定比例的混合氣體測量，目前已廣泛應(yīng)用于石油、化工、半導(dǎo)體、醫(yī)療儀器、生物工程、燃燒控制、配氣、環(huán)境監(jiān)測、精密儀器、科研、計(jì)量、食品、冶金、航天航空等領(lǐng)域。質(zhì)量流量計(jì)用于精密測量和自動控制氣體的質(zhì)量流量。采用標(biāo)準(zhǔn)輸入輸出信號，可實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)集中控制。在大慶石化公司就有多種形式的應(yīng)用，比如聚丙烯裝置氫氣流量表FT-121A/B采用的是BROOKS量熱流量計(jì)，量程為1.45Kg/H和9.5Kg/H。與傳統(tǒng)的流量計(jì)相比，它不需配置溫度、壓力變送器，不用進(jìn)行溫度、壓力的補(bǔ)償就能
真空開關(guān)真空度測試儀的應(yīng)用2013/02/20
傳統(tǒng)判斷真空開關(guān)真空泡是否漏氣的主要方法是通過交流耐壓試驗(yàn)，但事實(shí)證明，用交流耐壓試驗(yàn)并不能*真正檢測到真空開關(guān)真空泡漏氣與否，zui有效的方法是檢測真空泡的真空度。為此，介紹一種可行的檢漏方法——利用真空度測試儀檢測，并介紹真空度測試儀的原理及其實(shí)際應(yīng)用，實(shí)踐說明真空度測試儀能更加準(zhǔn)確地反映真空泡的運(yùn)行狀況。真空度測試判斷真空開關(guān)真空泡真空度的大小直接影響真空開關(guān)滅弧性能的好壞，真空度下降會給真空開關(guān)的運(yùn)行造成不良后果。機(jī)械工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)JB/DQ2184—1986《3～35kV真空斷路器用真空滅
四極桿質(zhì)譜儀2013/02/20
四級桿質(zhì)譜儀，顧名思義，就是用四級桿作為質(zhì)量檢測器的質(zhì)譜儀。其實(shí)四級桿在各種質(zhì)譜儀中廣泛存在，它zui基本的功能是離子傳輸通道，但同時也具備質(zhì)量分析器和裂解器的作用。單四級桿質(zhì)譜，是用一個四級桿作為質(zhì)量分析器，屬于低分辯質(zhì)譜，功能單一，定性和定量能力都很一般。三重四級桿質(zhì)譜，是由三個四級桿組成，低分辯質(zhì)譜，主要用于定量分析，是主流的定量分析質(zhì)譜，常用模式MRM。Q-Tof：單四級桿-飛行時間質(zhì)譜，單四級桿作為離子傳輸通道和裂解器，后面配合飛行時間質(zhì)譜，用于高分辨質(zhì)譜分析，定性效果好，也可用于定量
愛德華渦輪分子泵運(yùn)轉(zhuǎn)時值得注意的幾個問題2013/01/30
1、返流渦輪分子泵具有提供超清潔、無碳?xì)浠衔锏恼婵窄h(huán)境的能力，故常被用戶選用。然而，用戶也偶爾會發(fā)現(xiàn)渦輪分子泵提供不了不含碳?xì)浠衔锏恼婵窄h(huán)境。經(jīng)調(diào)查發(fā)現(xiàn)碳?xì)浠衔锏膩碓矗?0%是操作失誤所帶來的問題，如渦輪分子泵的前級泵為油封式旋片泵時，沒有控制返流的安全閥，不合理的放氣程序都會引起油蒸汽的返流，不合要求的安全閥也會引起油污染。為了在系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)無碳?xì)浠衔镞@一要求，在前級泵不是干式泵的情況下，有必要了解渦輪分子泵的壓縮比及如何給泵充氣的一些基本知識。2、壓縮比渦輪分子泵的壓縮比是指前級管道（
真空滅弧室的發(fā)展趨勢2012/12/28
真空滅弧室自從問世以來，一直在不斷的向小型化、高可靠性、低成本方面發(fā)展，隨著真空開關(guān)應(yīng)用范圍的擴(kuò)大，真空滅弧室也有了新的發(fā)展方向。1、小型化真空電弧理論的發(fā)展和內(nèi)部電場優(yōu)化使真空滅弧室體積更??；復(fù)合絕緣技術(shù)的應(yīng)用使真空滅弧室結(jié)構(gòu)尺寸大大減?。徽婵諗嗦菲鳈C(jī)械特性的改進(jìn)、同步開斷技術(shù)和高性能觸頭材料的應(yīng)用使真空滅弧室“升級”，使用成為可能。真空滅弧室的小型化工作不論在國內(nèi)還是在國外已經(jīng)進(jìn)行了很多年，并已取得了一定的成效。德國Calor-Emag公司新研制成的VC2型真空斷路器，其12kV、20kA的
56789共12頁235條記錄