三級蒙脫土研磨分散機(jī)

【蒙脫土簡介】

蒙脫土是一類由納米厚度的表面帶負(fù)電的硅酸鹽片層，依靠層間的靜電作用而堆積在一起構(gòu)成的土狀礦物，其晶體結(jié)構(gòu)中的晶胞是由兩層硅氧四面體中間夾一層鋁氧八面體構(gòu)成。具有*的一維層狀納米結(jié)構(gòu)和陽離子交換性特性，從而賦予蒙脫土諸多改性的可能和應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)大。經(jīng)改性的蒙脫土具有很強的吸附能力，良好的分散性能，可以廣泛應(yīng)用高分子材料行業(yè)作為納米聚合物高分子材料的添加劑，提高抗沖擊、抗疲勞、尺寸穩(wěn)定性及氣體。

【蒙脫土用途】

蒙脫土（包括鈣基、鈉基、鈉-鈣基、鎂基蒙脫土）經(jīng)剝片分散、提純改型、超細(xì)分級、特殊有機(jī)復(fù)合，平均晶片厚度小于25nm，被稱為“*材料”。蒙脫土的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛，特別是通過無機(jī)和有機(jī)改性使其富有了許多*的性能，應(yīng)用領(lǐng)域更進(jìn)一步擴(kuò)大，廣泛用于有毒物的吸附劑、催化劑、涂層劑，尤其是聚合物-層狀納米復(fù)合材料，使聚合物力學(xué)性能、阻燃性能、熱穩(wěn)定性能的提高，應(yīng)用前景廣闊。

【三級蒙脫土研磨分散機(jī)簡介】

，蒙脫土超高速研磨分散機(jī)，蒙脫土三級管線式研磨分散機(jī)，采用德國*的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及皮帶傳動技術(shù)，將德國*的膠體磨技術(shù)與德國*的超高速分散機(jī)技術(shù)合二為一，設(shè)備即兼顧了高速研磨剪切，又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。轉(zhuǎn)速zui高可達(dá)14000rpm，線速度zui高可以44m/s。設(shè)備擁有很強的研磨分散能力。

NK2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CIK采用的德國*的三級定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，由上至下分別為粗齒、中齒、細(xì)齒（或者超細(xì)齒），也就是我們通常所說的2P、2G、4M、6F、8SF，五組定轉(zhuǎn)子可根據(jù)具體要求進(jìn)行選配，而對于生氣柴油乳化，我們一般選配2G、4M、8SF三組定轉(zhuǎn)子作為一個組合，再配上CIK分散乳化機(jī)超高的線速度44m/s（高剪切分散乳化機(jī)影響物料分散乳化效果的是設(shè)備的剪切速率，而設(shè)備的剪切速率又是由線速度與定轉(zhuǎn)子間隙決定的，當(dāng)定轉(zhuǎn)子間隙一定的時候，線速度越大，剪切速率越高，剪切效果就越好。設(shè)備的線速度又是由設(shè)備轉(zhuǎn)速和定轉(zhuǎn)子直徑來決定的，當(dāng)定轉(zhuǎn)子直徑一定的時候，設(shè)備轉(zhuǎn)速越高，線速度就越高，剪切效果就越好），CIK三級剪切分散機(jī)轉(zhuǎn)速范圍在0-14000rpm之間，可根據(jù)客戶具體要求進(jìn)行調(diào)節(jié)。CIK為保證設(shè)備從中試型到生產(chǎn)型能做到線性放大，所以同一系列的設(shè)備線速度都是*的（44m/s）。

CIK 2000系列在線設(shè)備的其他優(yōu)勢： 

· 低噪聲標(biāo)準(zhǔn)

· 提高泵送、混合和分散效果

· 通過皮帶驅(qū)動，調(diào)速簡便。

· 立式設(shè)計，可自排空物料

· 由于集裝式設(shè)計，采用抗腐蝕材料的優(yōu)質(zhì)密封件，保養(yǎng)維修簡單。

· 高品質(zhì)表面光潔度符合FDA / EHEDG的衛(wèi)生要求

· 所有設(shè)備都有CIP/SIP能力

· 占地面積小

· 可以根據(jù)客戶要求提供防爆性能(ATEX)

· 可以根據(jù)客戶要求定制高品質(zhì)處理的表面和特殊材料

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