METRONELEC 離子污染程度測(cè)試儀 CT100
什么是離子污染?
離子污染就是在潮濕空氣中的離子形式出現(xiàn)的殘留物。
殘留物來自不同渠道….任何地方都有可能造成離子污染…
離子殘留，通常是有極性的，而且有可能在線路板上引起電氣化學(xué)效應(yīng)（如果同時(shí)還有電子出現(xiàn)）
這些污染物由于不能通過目檢發(fā)現(xiàn)，其存在尤其危險(xiǎn)。
清洗或者免清洗
我們需要同時(shí)檢查兩種工藝。清洗或者未清洗都會(huì)留下污染物。
免清洗不只是指我們所用的化學(xué)品原材料/工藝，他取決于我們線路板的清潔程度，我們不能將受到污染的線路作為正常使用。
如果結(jié)果是可以接受的，我們可以使用免清洗工藝，反之我們需要進(jìn)行清洗……
殘留物來源
如果清潔度沒有被定義， 供應(yīng)商可能會(huì)提供被嚴(yán)重污染的產(chǎn)品，其代價(jià)可能會(huì)超過清洗工藝……
通常污染物來自工藝本身。但是工藝的波動(dòng)以及誤操作也可能帶來污染物。
所有的工藝都會(huì)留下殘留物…包括清洗
采用清洗工藝的價(jià)格并不是線性上升的…
關(guān)于免清洗工藝
手工焊接，每個(gè)焊點(diǎn)都會(huì)有殘留物。所以污染程度和焊點(diǎn)的數(shù)量以及殘留物的活性有關(guān)。（助焊劑的活性）
在波峰焊中，大量地采用助焊劑，污染會(huì)非常嚴(yán)重：(1 to 10 µg Eq NaCl)
回流焊應(yīng)用，污染物通常是由于印刷造成的， 所以元器件的分布密度會(huì)對(duì)zui終結(jié)果產(chǎn)生影響。(0.3 to 3 µg Eq NaCl)
關(guān)于清洗工藝
CT100比一般清洗機(jī)的效率都要高，殘留物僅為（從0.0 到 2 µg Eq NaCl)
清洗的效果非常重要
水清洗機(jī)通常說來比較復(fù)雜，在沒有污染程度測(cè)試儀的基礎(chǔ)上，很難想象可以將機(jī)器調(diào)整到*參數(shù)… 你不可能使用目檢…
為什么要對(duì)污染程度進(jìn)行測(cè)試？
為了保證我們產(chǎn)品和工藝的可靠性。
檢查殘留物的等級(jí)：
- 光板和元器件
-在清洗工藝后
-免清洗工藝后
-在涂敷工藝之前
為什么要對(duì)污染程度進(jìn)行測(cè)試？
導(dǎo)入無鉛工藝之后，所有的工藝都會(huì)有所變化…
誰來告訴你，到底是清洗或者免清洗工藝？只有污染程度測(cè)試儀！
經(jīng)常性的測(cè)試給你信心保證工藝
誰需要進(jìn)行離子污染程度測(cè)試？
所有和組裝有關(guān)的公司
化學(xué)原料供應(yīng)商，保證質(zhì)量
PCB生產(chǎn)商
元器件生產(chǎn)商
Pcba
如何進(jìn)行污染程度測(cè)試 ?
使用活性非常強(qiáng)的IPA和DI水清洗線路板
所有性的殘留物都會(huì)在清洗液中溶解
檢查導(dǎo)電率和時(shí)間的關(guān)系
此系統(tǒng)將zui終的結(jié)果通過µg NaCl / cm² 表示。
什么是 µg Eq NaCl / cm²
由于在溶劑中存在不同種類殘留物，所以標(biāo)準(zhǔn)通過NaCl來代表。
在導(dǎo)電率，腐蝕性和污染程度之間建立直接的
測(cè)試程序
定義線路板和所用的標(biāo)準(zhǔn)
注入清洗劑直到系統(tǒng)達(dá)到一個(gè)非常低的導(dǎo)電率(50nS/cm)
放入測(cè)試板，開始清洗和測(cè)量導(dǎo)電率/污染程度。
CT100 Shematic
兼容標(biāo)準(zhǔn)
美軍標(biāo)Mil-P-28809 和 Mil-STD-2000A 定義為： 1.3 µg Eq NaCl / cm²
英國防衛(wèi) 10/03標(biāo)準(zhǔn) (UK) 定義： 1.5 µg Eq NaCl / cm²
IPC-TR-583
由于細(xì)間距元器件的廣泛應(yīng)用，以上標(biāo)準(zhǔn)都需要更新。
CT100 特性
標(biāo)準(zhǔn)尺寸： 350 x 300 x 80.（pcb應(yīng)用：可以定做）
易于使用的軟件
全自動(dòng)測(cè)試
Pump and cell are maintenance free.
能夠處理 50% 或者75 %濃度的溶劑
*過濾器
