．前言

本方案涉及的流程及設(shè)備是為了滿足浙江宸億科技有限公司生產(chǎn)工藝用高純水項(xiàng)目，要求如下：

1、純水水量 18MΩ.cm    10  m3/h

2、二級(jí)反滲透+EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)制備的主要技術(shù)參數(shù)：

A.前處理產(chǎn)水量 :   ≥20m3/h；

B.反滲透設(shè)備系統(tǒng) 二級(jí)反滲透產(chǎn)水量 :   ≥12m3/h；

C.EDI去離子系統(tǒng)產(chǎn)水量 : ≥10m3/h；

3、產(chǎn)水水質(zhì)指標(biāo)

10m3/h     ≥18 MΩ·cm （參照國(guó)標(biāo)EW-Ⅱ）

供水壓力   0.35Mpa

塵粒直徑： 0.5，1ea以下/100ml以下

溫度：     常溫；

4、系統(tǒng)配置：預(yù)處理、二級(jí)反滲透、EDI電再生連續(xù)除鹽裝置。

5、供水方式：連續(xù)產(chǎn)出（24小時(shí)運(yùn)行）。

二. 10噸EDI超高純水設(shè)備設(shè)計(jì)依據(jù)

1、本電子工業(yè)純水站工程項(xiàng)目設(shè)計(jì)依據(jù)如下：

1.1.原水水質(zhì)分析資料；

1.2.高純水的品質(zhì)要求（產(chǎn)品水水質(zhì)指標(biāo)），以及相關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)；

1.3.高純水的生產(chǎn)規(guī)模;