納米級氧化鋁研磨分散機，如何將氧化鋁做到納米級？廣東高轉(zhuǎn)速分散機
納米三氧化二鋁（又名氧化鋁）粒徑分布均勻，電阻率高，具有良好的絕緣性能，廣泛用于塑料，橡膠，陶瓷，涂料等絕緣性能要求高的領(lǐng)域。
納米氧化鋁用途：.絕緣材料陶瓷粉（納米氧化鋁）VK-L20涂層導(dǎo)，熱絕緣復(fù)合材料，高壓引入棒的絕緣體材料，滿足X7R需要的多層陶瓷芯片電容器的絕緣材料
中國氧化鋁企業(yè)達40多家，已建和在建產(chǎn)能達4350多萬噸/年，其中處理國內(nèi)鋁土礦的產(chǎn)能為3250萬噸/年，是世界*大氧化鋁生產(chǎn)國。 但是由于技術(shù)問題，我國生產(chǎn)的氧化鋁產(chǎn)品以中低端為主流，價格低廉，生產(chǎn)設(shè)備落后，能耗大，利潤不高。特別是納米三氧化二鋁產(chǎn)能不高，產(chǎn)品基本被跨國企業(yè)壟斷。
在制備納米氧化鋁粉體過程中，由于其比表面積大，表面能高，容易產(chǎn)生粉末的團聚，破壞材料性能，所以現(xiàn)在將常規(guī)微米級氧化鋁研磨成納米級氧化鋁，粉末團聚成了一個難題。上海IKN為應(yīng)對這種現(xiàn)狀研發(fā)的研磨分散機，很好的解決了這個難題。
CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)（納米級氧化鋁研磨分散機，如何將氧化鋁做到納米級？廣東高轉(zhuǎn)速分散機）：
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
CMD2000系列研磨分散機的特點（，如何將氧化鋁做到納米級？廣東高轉(zhuǎn)速分散機）：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
⑥ 設(shè)備選型請咨詢銷售工程師： 陶國偉 廣州辦
CMD2000系列設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | ||||||
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準.
研磨分散機和均質(zhì)機的作用對比：
研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。
