HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

HTR-01桌式4英寸快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術，可實現(xiàn)1-10片樣品同時進行，可實現(xiàn)4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng)，可達到溫場均勻性，對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。

主要應用領域：

快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN);離子注入/接觸退火;

金屬合金;

熱氧化處理;

化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

太陽能電池片退火;高溫退火;

高溫擴散。

產(chǎn)品特點

快速加熱和降溫: 最高可控升溫速率可達50 ℃/s，特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設計能夠達到較大的降溫速率，特定條件下可達30 ℃/s。

精確控溫: 采用工業(yè)級溫控器進行PID精確控溫，目標溫度與設定溫度曲線一致性高，可實現(xiàn)室溫至1200 ℃的溫度精確控制。

適應多種工藝環(huán)境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理（氮氣、氬氣等）。同時，通過選配真空泵，可以在真空條件下進行退火，最高真空度可達10-5Pa。

配備觀察窗口: 通過觀察窗口，可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時，可以結合相關測試方法進行原位測試分析。

超高安全系數(shù): 采用爐壁超溫報警系統(tǒng)和冷卻水流量報警系統(tǒng)，保障儀器使用安全。

售后服務：，能快速反應客戶售后需求。