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  • MiniLab-30S PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

MiniLab-30S PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

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面議
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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地杭州市
  • 更新時(shí)間2024-04-03
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量312
  • 人氣值1619
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杭州大華儀器制造有限公司坐落于杭州市富陽(yáng)區(qū)美麗的富春江畔、《富春山居圖》 的實(shí)景地、誕生地、經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)-----東洲工業(yè)功能區(qū)內(nèi),處在國(guó)家黃金旅游線”錢(qián)塘江- 富春江千島湖-黃山”的中心位置。公司始創(chuàng)于1993年,廠區(qū)建筑面積35000多平方米,是一家倡導(dǎo)服務(wù),集科研、生產(chǎn)、銷(xiāo)售于-體的國(guó)家重點(diǎn)扶持企業(yè)。二十多年來(lái)-直致力于大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)教學(xué)儀器、科研儀器設(shè)備的研發(fā)生產(chǎn)和銷(xiāo)售,形成了以8大系列400余種專(zhuān)業(yè)物理實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備為主,電工儀器為輔,配套設(shè)備為支撐的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)。2010年,公司研發(fā)中心被評(píng)為以“科教儀器為主要研究方向”的省級(jí)企業(yè)研發(fā)中心,2016年被杭州授予“杭州市院士工作站”。2017年,被省委認(rèn)定為“省級(jí)院士工作站”。公司以“科技締造未來(lái)”為企業(yè)理念,重視科技創(chuàng)新和產(chǎn)學(xué)研合作、重視人才的引進(jìn)與培養(yǎng),2000年以來(lái)與中科院固體物理研究所、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、華中科技大學(xué)、四川大學(xué)、天津師范大學(xué)、西安交通大學(xué)、西北工業(yè)大學(xué)、武漢工程大學(xué)等20多家高等院校和科研院所建立了穩(wěn)定的產(chǎn)學(xué)研合作關(guān)系、大學(xué)生實(shí)踐基地,在功能材料科教儀器設(shè)備及測(cè)試技術(shù)、等離子體技術(shù)應(yīng)用、大學(xué)物理設(shè)計(jì)創(chuàng)新、新能源產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域開(kāi)展了廣泛的科技創(chuàng)新合作。公司累計(jì)獲得國(guó)家100余項(xiàng),在全國(guó)高校物理實(shí)驗(yàn)儀器評(píng)比中,共獲得四項(xiàng)-等獎(jiǎng),十二項(xiàng)二等獎(jiǎng),十五項(xiàng)三等獎(jiǎng)的榮譽(yù)。并相繼獲得了“ 全國(guó)名優(yōu)產(chǎn)品售后服務(wù)*單位”、“ 中國(guó)質(zhì)量信用AA單位”、“ 浙江省示范企業(yè)”、“ 浙江省民營(yíng)經(jīng)濟(jì)示范企業(yè)”、、“杭州” 等榮譽(yù)稱(chēng)號(hào),連續(xù)多年列入“中國(guó)高教儀器設(shè)備發(fā)展情況年度報(bào)告”設(shè)備選購(gòu)?fù)扑]企業(yè)之一, 國(guó)歡迎的實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備企業(yè)之一。以“用戶至上,服務(wù)滿意,質(zhì)量為本,科學(xué)管理”為企業(yè)宗旨, 嚴(yán)格執(zhí)行"IS09001: 2015國(guó)際質(zhì)量管理體系” 的標(biāo)準(zhǔn),導(dǎo)入3Q6S精細(xì)化管理模式,注重- -切流程以用戶滿意為標(biāo)準(zhǔn), 精益求精,持續(xù)提高產(chǎn)品的品質(zhì)。我們的服務(wù)和產(chǎn)品現(xiàn)已遍布國(guó)內(nèi)外兩千余所大專(zhuān)院校、科研院所和工業(yè)企業(yè),并出口美國(guó)、法國(guó)、東南亞、中東、古巴等國(guó)家和地區(qū)。
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應(yīng)用領(lǐng)域:該系統(tǒng)可用于開(kāi)發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等
MiniLab-30S PVD 薄膜沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

應(yīng)用領(lǐng)域:

該系統(tǒng)可用于開(kāi)發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜 , 可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué) 反應(yīng)膜等。

                  MiniLab 30 PVD 薄膜沉積系統(tǒng)(磁控濺射).jpg

螺紋孔基片盤(pán):樣品托.jpg

基本配置:

◆真空腔室:350×400mm 不銹鋼 D 形腔體。前門(mén)鉸鏈方便真空室清理;腔室底板,頂部和側(cè)面裝有腔室內(nèi)硬件接口;前 門(mén)上配直徑 80 玻璃觀察窗(含手動(dòng)防污染擋板、可拆洗防污玻璃);腔體可選擇水冷。 

◆抽氣系統(tǒng): 采用復(fù)合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作為真空抽氣系統(tǒng); 主抽泵:分子泵抽速≥ 600L/S,氮?dú)鈮嚎s比≥ 109 ; 前級(jí)泵:VRD-24 機(jī)械泵及電磁閥,抽速:6L/S 主抽閥: CCD-150 超高真空電動(dòng)插板閥 

 * 真空系統(tǒng)可以升級(jí)為進(jìn)口分子泵和渦旋干泵。 

◆真空測(cè)量:數(shù)顯復(fù)合真空計(jì): “兩低一高”全量程數(shù)顯復(fù)合真空計(jì); 

* 真空測(cè)量可以升級(jí)為進(jìn)口全量程冷陰極真空計(jì) 

◆極限真空:<5×10-5Pa ◆恢復(fù)真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

◆磁控濺射靶:(最多安裝三個(gè)磁控濺射靶)磁控濺射靶磁路模塊化設(shè)計(jì);磁控靶可手動(dòng)調(diào)節(jié)濺射角度,靶與基片的距離可調(diào); 其中一個(gè)靶位可濺射磁性材料(如鎳或鐵等)靶材大小為直徑 50.8mm,建議厚度≤ 5mm,靶材利用率超過(guò) 40%; 

◆鍍膜方式:由下往上濺鍍或從上往下濺射,可依需求采用 Confocal(共焦)或 Face-to-Face(面對(duì)面); 

◆濺射電源: 射頻電源:功率 300W,輸出頻率:13.56MHz,全自動(dòng)匹配 數(shù)量:1 臺(tái) 直流電源:輸出功率:500W;輸出電壓:0 ~ -800V 可調(diào) 數(shù)量:1 臺(tái) 

◆工藝氣路(可選):三路質(zhì)量流量計(jì)控制的氣路(Ar、O2、N2 )等 

◆樣品臺(tái):可容納樣品尺寸:4 英寸樣品托一個(gè) , 配擋板,轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào) ; 樣品可加熱控溫, 溫度范圍:室溫 -600℃,控溫精度 ±0.5℃; ◆系統(tǒng)控制:15 英寸觸摸屏 +PLC 控制(可選手動(dòng)按鈕)

選擇配置:

◆樣品臺(tái)可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控溫 

◆可選進(jìn)口濺射電源 

◆磁控靶可選用歐美品牌 

◆全量程真空計(jì) (Inficon) 

◆電容式隔膜真空計(jì) ( 測(cè)量濺射工作壓力 ) 

◆樣品托 : 不銹鋼、鋁或銅,基片盤(pán)上有螺紋孔。

系統(tǒng)要求標(biāo)準(zhǔn)配置:

◆工藝氣體 :25psi,純度 99.99% 以上 

◆工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮?dú)?nbsp;

◆電 源 : 單相 220V, 50Hz, 32A 

◆冷 凍 水 :18-25℃ , 3L/min,壓力 <0.4MPa

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