日立的高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍可同時(shí)支持超高分辨觀察和快速微束分析。在不使用樣品臺(tái)減速的情況下，僅用0.1 kV的低加速電壓仍可進(jìn)行高分辨觀察，適應(yīng)更多應(yīng)用場(chǎng)景。同時(shí)，可搭配多種新型探測(cè)器和其他豐富的選配項(xiàng)，滿足更多的觀測(cè)需求。
EM Flow Creator 允許客戶創(chuàng)建連續(xù)圖像采集的自動(dòng)化工作流程。EM Flow Creator將不同的SEM功能定義為圖形化的模塊，如設(shè)置放大倍率、移動(dòng)樣品位置、調(diào)節(jié)焦距和明暗對(duì)比度等。用戶可以通過簡(jiǎn)單的鼠標(biāo)拖拽，將這些模塊按邏輯順序組成一個(gè)工作程序。經(jīng)過調(diào)試和確認(rèn)后，該程序便可以在每次調(diào)用時(shí)自動(dòng)獲得高質(zhì)量、重現(xiàn)性好的圖像數(shù)據(jù)。
原生支持雙顯示器，提供靈活、高效的操作空間。
6通道同時(shí)顯示與保存，實(shí)現(xiàn)快速的多信號(hào)觀測(cè)與采集，帶來更多信息。
單次掃描支持 40,960×30,720 的超高像素*
左圖是視野約為120 μm，單次掃描采集的大鼠超薄切片樣品高像素圖像。將黃色矩形區(qū)域圖像進(jìn)行簡(jiǎn)單的數(shù)字放大，得到右圖。右圖相當(dāng)于左圖數(shù)字放大20倍,依然可以清晰確認(rèn)到神經(jīng)細(xì)胞的細(xì)胞器等的內(nèi)部構(gòu)造
SU8600和SU8700單次掃描像素可達(dá) 40,960 x 30,720.*
規(guī)格
| 電子光學(xué)系統(tǒng) | 二次電子分辨率 | 0.8 nm@15 kV |
|---|---|---|
| 0.9 nm@1 kV | ||
| 放大倍率 | 20 ~ 2,000,000 x | |
| 電子槍 | 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源 | |
| 加速電壓 | 0.1 ~ 30 kV | |
| 著陸電壓*1,*3 | 0.01 ~ 7 kV | |
| **束流 | 200 nA | |
| 探測(cè)器 | 標(biāo)配探測(cè)器 | 上探測(cè)器（UD） |
| 下探測(cè)器（LD） | ||
| 選配探測(cè)器*3 | 鏡筒內(nèi)背散射電子探測(cè)器（MD） | |
| 半導(dǎo)體式背散射電子探測(cè)器（PD-BSE） | ||
| 高靈敏低真空探測(cè)器（UVD） | ||
| 掃描透射探測(cè)器（STEM） | ||
| 選配附件*2 | X射線能譜儀（EDS） | |
| 電子背散射衍射探測(cè)器(EBSD) | ||
| 樣品臺(tái) | 馬達(dá)驅(qū)動(dòng)軸 | 5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng) |
| 移動(dòng)范圍 | ||
| X | 0 ~ 110 mm | |
| Y | 0 ~ 110 mm | |
| Z | 1.5 ~ 40 mm | |
| T | -5 ~ 70° | |
| R | 360° | |
| 樣品室 | 樣品尺寸 | **直徑：150 mm*4 |
| 低真空模式 | 真空范圍 | 5 ~ 300 Pa |
*1減速模式下
*2可配置的探測(cè)器
*3選配項(xiàng)
*4如果有更大的樣品尺寸需求，請(qǐng)聯(lián)系我們。
