ICP-MS分析特性
● 可快速同時檢測周期表上幾乎所有元素
● 的檢出限(低至ppq級)
● 分析效益/成本比
● 最寬的線性動態(tài)范圍—可直接檢測從ppq到數百ppm濃度
● 譜線、干擾最小,準確度和精密度好
● 需要樣品量很低(ul至ml),分析速度很快(1?3分鐘/樣品)
● 檢測模式靈活多樣
半導體工業(yè)常用材料中超痕量污染物分析
固體:Si;GaAa單晶切片;石英、碳化硅等爐材料;高純金屬電極等
液體:超純水;HF;HNO3;HCI;H2SO4;H2O2;氨水等
氣體:SiH4;TE0S;NF3;N2等
Agilent ICP-MS技術的應用領域包括:
● 環(huán)境樣品分析,包括自來水、地表水、地下水、海水以及各種土壤、廢棄物等的分析;
● 半導體材料分析
● 玻璃、陶瓷和礦冶等樣品分析;
● 地質學研究;
● 生物食品及醫(yī)藥臨床研究;
● 核材料分析
● 石油化工樣品分析;
● 法醫(yī)應用與研究;
● 最近,與分離技術聯用進行環(huán)境毒理、生命科學等領域的元素價態(tài)、形態(tài)分析成為ICP-MS技術應用的一個焦點。