臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)可提供單陰極和雙陰極配置。所有磁控管濺射配置均為向下濺射模式。陰極通常以?shī)A緊方式使用標(biāo)準(zhǔn)的 2 英寸直徑靶。陰極配備獨(dú)立快門。緊湊型磁鐵板使用稀土磁鐵，可實(shí)現(xiàn)高沉積率。該裝置配有 350 瓦/30 kHz 的脈沖直流電源。然而，陰極也與可以單獨(dú)提供的射頻電源兼容?？蔀R射Fe、Co等磁性材料的陰極，可根據(jù)需要專門提供?；遢d物臺(tái)可提供旋轉(zhuǎn)、加熱器和電隔離等設(shè)施，用于偏置目的。可應(yīng)要求提供接受 3” 直徑靶的陰極。

磁控濺射鍍膜機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

應(yīng)用廣泛，體積小，操作方便。

提供旋轉(zhuǎn)和距離調(diào)整的樣品架(從目標(biāo))

用于金屬和反應(yīng)性濺射的脈沖直流電源

渦輪分子泵可提供快速清潔的無油高真空

用戶友好的前面板彩色 LCD 基于觸摸屏 HMI 控制

具有配方管理功能的基于 PLC 的過程自動(dòng)化

鍍膜儀擁有2個(gè)高精度質(zhì)量流量計(jì)，客戶如有其他要求，可定制多達(dá)4個(gè)質(zhì)量流量計(jì)的氣路，滿足復(fù)雜氣體環(huán)境建設(shè)的要求; 儀器標(biāo)配*的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa。同時(shí)，也可購(gòu)買其他類型的分子泵。 分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制，可以在不關(guān)閉泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高您的工作效率。 本產(chǎn)品可配集成工控計(jì)算機(jī)對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制。計(jì)算機(jī)程序可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等大部分功能，可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。

單靶磁控濺射鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍：

單靶直流磁控濺射鍍膜機(jī)可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電膜、合金薄膜等。與同類設(shè)備相比，該單靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛，而且具有以下優(yōu)點(diǎn)：體積小，操作方便。是實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于固體電解質(zhì)、OLED等實(shí)驗(yàn)室研究。