NE-650MH 高真空磁控濺射鍍膜儀是我公司研制開發(fā)的一款經(jīng)濟實用的袖珍型磁控濺射設(shè)備,主要由濺射真空室、磁控濺射靶、樣品臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的 制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，可廣泛用于大專、科研 院所的薄膜材料研究、制備。
產(chǎn)品參數(shù)：
| 儀器主機尺寸: | 長 610mm×寬 420mm×高 220mm（注：含腔體總高 490mm） |
| 工作腔室尺寸： | 標配：玻璃腔體（高度可選）：直徑 260mm×高 200mm（外尺寸） 直徑 240mm×高 200mm（內(nèi)尺寸） |
| 選配：金屬腔體：直徑 260mm×高 270mm（外尺寸 ） 直徑 210mm×高 270mm（內(nèi)尺寸） | |
| 靶頭： | 標配：單靶 |
| 選配：雙靶（雙靶儀器主機尺寸和工作腔體尺寸會隨之增大） | |
| 靶材尺寸： | 直徑 50mm×厚 3mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） |
| 靶材料： | 標配一塊直徑 50mm×3mm 的銅靶（可選配多種靶材） |
| 靶槍冷卻方式： | 水冷 |
| 真空系統(tǒng)： | 抗沖擊渦輪分子泵，抽速為 300L/s |
| 前級機械泵： | 抽速為 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器 |
| 真空測量： | 采用復(fù)合真空計監(jiān)測真空 |
| 極限真空度: | 5×10-5Pa（10 分鐘可到 9×10-4Pa） |
電源： | 標配：直流恒流電源：輸入電壓：220V |
| 輸出電壓：0-600v | |
| 輸出電流：0-1.6A | |
| 選配：射頻功率電源：功率 1000W，配射頻匹配器。 | |
| 載樣臺： | 直徑 200mm，可根據(jù)客戶需求定制載樣臺。 |
| 工作氣體： | Ar 等惰性氣體（需自備氣瓶及減壓閥） |
| 氣路： | 濺射真空度手動調(diào)整（可選配氣體質(zhì)量流量計） |
| 水冷： | 自循環(huán)冷卻水機 |
| 電源電壓： | 220V 50Hz |
| 啟動功率 | 3KW |
| 保修 | 貳年 |
磁控濺射鍍膜儀原理：
濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材表面進行轟擊，把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的方向射向基體表面，在基體表面形成鍍層。濺射時產(chǎn)生的快電子在正交的電磁 場中作近似擺線運動，增加了電子行程，提高了氣體的離化率，同時高能量粒子與氣體碰撞后失去能量，基體溫度較低，在不耐溫材料上可以完成鍍膜。
