| 設備簡介: 均溫氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規(guī)模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝,可用于2-8英寸工藝尺寸 | ||
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配置詳情
| 設備特點: 1.溫場均勻,恒溫區(qū)長度及精度:300~1250mm 800~1200℃±1℃ 2.具有強大的軟件功能,NBD-101EP嵌入式操作系統(tǒng),用戶可以方便地修改工藝控制參數(shù),并可隨時顯示各種工藝狀態(tài);配有故障自診斷軟件; 6.可存儲多組PID參數(shù)供系統(tǒng)運行調(diào)用功能,具有多點溫度補償 | ||||||
可配工藝管外徑 | 爐管外徑152mm 適用于3";爐管外徑252mm 適用于6"; 爐管外徑300mm 適用于8" | ||||||
溫度控制范圍 | 300~1150 ℃ | ||||||
恒溫區(qū)長度及精度 | 300~1250mm(依客戶要求定) 300~800 ℃±1.5℃, 800~1100 ℃±1℃ | ||||||
可控升降溫速率 | 升溫速率:≦15℃/min 降溫速率≦5℃/min | ||||||
加熱區(qū)個數(shù) | 3區(qū),4區(qū),5區(qū),6區(qū)(依客戶要求定) | ||||||
送料方式 | 手動送料 | ||||||
冷卻系統(tǒng) | 水冷2-4Kgf/cm2,8L/min;+上接排風冷≈25m3/min; | ||||||
軸向溫場分布 |
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徑向溫場分布 | | ||||||
控制系統(tǒng) | | 1.可預存15條工藝曲線,避免不同的實驗工藝重復設置帶來的麻煩; 2.實驗過程更加直觀,操作更加便捷; 3.NBD-101EP嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面,10寸真彩觸屏輸入,智能式人機對話模式,非線性式樣溫度修正; 4.具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能。 | |||||
加熱腔體 | | 采用優(yōu)質加熱絲:KANTHAL及HRE 絕熱材料:晶體纖維等 絕緣子:高純剛玉,間距依據(jù)溫場調(diào)節(jié) 端口過渡環(huán):氧化鋁纖維真空成型。 溫區(qū):3段、4段、5段、6段
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真空密封系統(tǒng) |
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真空度:≤10Pa(機械泵) | |||||||
供氣系統(tǒng) | | 采用質子流量計控制氣體流速,與設備集成為一體; | |||||
可選配項目 | 1. 出料口排毒氣柜; 2. 凈化出料臺; 3. 自動石英漿推拉舟機構 | ||||||
設備使用注意事項 | 1. 裝取樣片必須帶石棉手套,使用石英器件小心打碎; 2. 選擇合適的石英舟,取出清潔好的石英托板和石英拉鉤; 3. 安裝樣片插入到石英舟的槽內(nèi),用石英拉鉤將石英舟推入爐管到恒溫區(qū); 4. 爐管內(nèi)壓力不得超過0.15MPa(壓力),以防止壓力過大引起危險; 5.高真空下使用時),設備使用溫度不得超過1000℃; | ||||||
服務支持 | 一年有限保修,提供終身支持(保修范圍內(nèi)不包括易耗部件,例如爐管和密封圈等) |
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