產(chǎn)品介紹INTRODUCTION
徠卡第六代三維視頻顯微鏡(DVM 6)是徠卡自主研發(fā)，傳統(tǒng)的革命性產(chǎn)品。數(shù)字技術(shù)已經(jīng)在很多方面為我們的工作和日常生活帶來了革命性變化，而這樣的創(chuàng)新也將永無止境地進行下去。工業(yè)質(zhì)量控制領(lǐng)域?qū)暧^成像、顯微成像和圖像處理均有著的要求，創(chuàng)新的數(shù)字技術(shù)將使其尤為受益。徠卡顯微系統(tǒng)有限公司的數(shù)字顯微鏡在機動性和速度兩方面開創(chuàng)了新維度。
在諸多應用場合下，它能為傳統(tǒng)方式提供理想的質(zhì)量控制輔助。數(shù)字顯微鏡生成的圖像將直接顯示在高分辨率顯示器上，因此您無需透過目鏡觀察。變倍光學元件采用流線型設(shè)計，即使是極難觸及的表面也能有效深入，相對于費時費力的傳統(tǒng)顯微鏡檢驗技術(shù)，它甚至還能對大型靜態(tài)部件進行無損檢驗。Leica DVM6數(shù)字顯微鏡不僅具備出眾的光學品質(zhì)，還在量化分析方面表現(xiàn)，無論是二維分析還是高級三維表面測量。設(shè)備一體化設(shè)計，功能高度集成，外觀給您簡潔大方，接觸使用給您不負眾望！
無論您從事的是質(zhì)量保證、失效分析、研發(fā)還是取證的工作，Leica DVM6視頻顯微鏡都提供能快速、可靠和易用的解決方案。
特點FEATURES
光學組件-PLANAPO
徠卡的數(shù)字圖像和光學圖像一樣出色。徠卡是光學行業(yè)的先鋒和精密顯微成像的企業(yè)。公司的歷史及那股提供細節(jié)度和清晰度樣品圖像的激情可追溯到160多年前。徠卡工程師不但消除了光學像差，還不斷爭取獲得更的高分辨率-DVM6 PLANAPO光學鏡頭。PLANAPO光學裝置的優(yōu)點：的光學校正能力；至邊界區(qū)非常詳細的圖像細節(jié)；在變焦范圍內(nèi)無彩色邊紋。
超高分辨率成像-1000萬物理像素攝像頭
與利用插值和耗時像素移動的視頻顯微鏡不同，DVM6的核心包含一個本地1000萬像素攝像系統(tǒng)。每秒37幀以上的快速實時圖像顯示可以讓您的手和肉眼協(xié)調(diào)，以確保操作的舒適。將攝像機與變焦模塊相結(jié)合，則可提供完善的污染防護。
16：1變倍比
16:1變焦范圍：放大倍數(shù)使觀察分析更多樣，只需一個旋轉(zhuǎn)動作，您便可以看到16倍的放大比例，放大倍數(shù)從12x-4740x無縫操作。
真正無極連續(xù)變倍
秉承徠卡體式顯微鏡無極連續(xù)變倍能力，無論您調(diào)節(jié)紅色變焦環(huán)到什么位置，DVM6都能精準對應當前倍率，并顯示在屏幕上方。
自動景深合成：EDOF
無需繁瑣的上下限設(shè)置，無需人為判斷起始位置終止位置，只需選擇一鍵EDOF，即可在視野內(nèi)完成高低景深合成。
無限制視野擴展功能
當您希望在高倍率下獲得更大視野，只需一鍵數(shù)秒后視野擴展即可完成，并且徠卡DVM6視野擴展功能不僅滿足二維三維視野擴展，而且視野擴展區(qū)域不受像素限制，可延伸到XY掃描區(qū)域。
智能多角度觀察系統(tǒng)
您可以輕松地單手傾斜觀察，便可只將注意力用在監(jiān)視器上進行樣品研究。在默認情況下，傾斜軸與焦點對準，因此在- 60°至+ 60°的任何角度，您可以看到樣品永遠在焦點以內(nèi)。旋轉(zhuǎn)載物臺從全新的視角觀察樣品，有助于您找到要找的細節(jié)信息。
智能多角度觀察系統(tǒng)可在屏幕上方顯示實時的放大倍率、支架的傾斜角度、載物臺的旋轉(zhuǎn)角度，并且保存圖片后，這些參數(shù)全部保留到圖片文件夾，方便日后追溯。當您支架傾斜過大，預警傳感器會發(fā)出警示音，提醒您防止鏡頭碰觸到載物臺導致?lián)p壞。
實時精準測量
測量軟件豐富多樣，可滿足您日常檢驗的所有需求。并且磁力功能，可以減少鼠標在屏幕上人為選取測量點的偏位，他可以自動檢測目標位置的邊緣，自動的更正測量點。這樣有效的降低了人為誤差，從而保證測量尺寸的準確和可靠。
三維測量
系統(tǒng)檢測各種焦平面內(nèi)的一系列圖像，并從圖像堆棧自動計算全聚焦圖像，其中在清晰聚焦內(nèi)顯示所有元素。這種全聚焦圖像包含每個像素的高度信息。因此，還可以將其視為三維模型，以分析表面結(jié)構(gòu)和進行測量。
實時精準測量
您的照明選擇決定了您看到的內(nèi)容。您可以根據(jù)樣品、應用和任務選擇不同的集成LED照明選項。在粗糙表面全部或部分使用環(huán)形光，或者為扁平反射樣品選擇同軸照明。您還可以將照明模式結(jié)合起來，以揭示您以前從未見過的細節(jié)。觀察扁平反射樣品時，用于明/暗控制的四分之一波片控制。減小對比度，以強調(diào)輕微不平整性，例如劃痕。
