X射線分辨率測(cè)試卡是測(cè)量成像系統(tǒng)成像質(zhì)量的重要工具，我司可提供各種類(lèi)型的測(cè)試卡以滿足您的各種需求。圖案類(lèi)型包括線對(duì)、孔陣列和西門(mén)子星等。最小圖案尺寸低至20nm，面對(duì)高能的高分辨X射線應(yīng)用，我們可以提供厚達(dá)3微米的金吸收體，以滿足高能高分辨成像系統(tǒng)的測(cè)試需求。
同時(shí)我們還可以提供用：
于納米CT體素校準(zhǔn)的模體- Voxel-spirit 可實(shí)現(xiàn)快速和直觀的體素大小校準(zhǔn)，Voxel-spirit 甚至可以滿足嚴(yán)格的視場(chǎng) (FOV) 限制和高精度要求 。
遵從ASTM E1695-95的Resolution-spirit 通用模體組，適用于納米CT和微米CT的空間分辨精密評(píng)估。它適用于可變市場(chǎng)限制及高精度的需求。
帶有用于 nanoCT 和 microCT 測(cè)量的基準(zhǔn)標(biāo)記的樣品架-R1-Shadow，可以快速直觀地校正旋轉(zhuǎn)臺(tái)的不準(zhǔn)確性和 CT 數(shù)據(jù)配準(zhǔn)，適用于雙能量 CT 或 4D CT 等應(yīng)用。 R1-Shadow 是一種多用途解決方案，適合可變視場(chǎng) (FOV) 限制和高精度要求。
| 類(lèi)型 | 圖案布局 | 圖案規(guī)格 | 吸收體類(lèi)型及厚度 |
| 納米分辨率測(cè)卡XRESRO-20 |  | ①Radial Pattern ③④Hole Pattern⑤⑥⑦⑧L&S Pattern 100nm hole 50nm L&S 20nm Radial patterns | Ta 1µm |
| 納米分辨率測(cè)卡XRESRO-50HC |  | 100nm hole 50nm L&S 50nm Radial patterns | Ta 500nm |
| 納米分辨率測(cè)卡XRESRO-100 |  | 100nm L&S 200nm L&S 400nm L&S 600nm L&S 800nm L&S 100nm Radial patterns | Ta 100nm |
3D西門(mén)子星分辨測(cè)試卡 |  | 最小細(xì)節(jié)小于200nm | 結(jié)構(gòu)高度200µm 尺寸Fhi 100µm |
| 顯微CT分辨測(cè)試卡 |  | 布局由嵌套的L形組成，線寬為: 50 –40 –30 –20 –15 –10 –9 –8 –7 -6 -5 –4 –3 -2 –1.5 -1 –0.9 -0.8 -0.7 –0.6 -0.5 –0.4 –0.35 –0.3 –0.25 –0.2 （微米） | 約1.5µm米厚金 |
Yxlon標(biāo)準(zhǔn)分辨率測(cè)試卡 |  | 5.0, 4.0, 3.2, 2.5, 2.0, 1.6, 1.3, 1.0, 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5, 0.45, 0.4, 0.35, 0.3 µm線對(duì) | 3 µm高金 |
NanoXSpot分辨率測(cè)試卡 |  | 4象限區(qū)域，每個(gè)區(qū)域4 mm x 4 mm，含兩個(gè)改良的西門(mén)子星，孔陣列（最小孔徑5微米），7組有不同方向的線對(duì)（12 µm, 10 µm, 8 µm, 6 µm, 5 µm, 4 µm, and 3 µm） | 8 µm高金 |
微納CT分辨率測(cè)試模體 Spirit resolution |
| 球直徑: 0.5, 1.0, 2.5, 5.0mm < 1 μm to > 10 μm 體素尺寸CT應(yīng)用 遵從 ASTM E1695-95 標(biāo)準(zhǔn) | 紅寶石 |
納米CT體素校準(zhǔn)模體 Voxel-Spirit |
| 球直徑: 0.3 mm 球距離: 0.45 mm (認(rèn)證精度: 0.06 μm) <1 μm 體素CT應(yīng)用 | 紅寶石 |
| 微納CT轉(zhuǎn)臺(tái)擺動(dòng)校正樣品架 |
| 基準(zhǔn)尺寸 [µm]: 25 25 50 100 適用于 Dual-Energy CT or 4D CT | 紅寶石 |
X射線成像系統(tǒng)分辨率測(cè)試
X射線CT體素校正
X射線CT分辨率評(píng)估
